JPS6299458A - 二層めつき鋼板の製造方法 - Google Patents
二層めつき鋼板の製造方法Info
- Publication number
- JPS6299458A JPS6299458A JP23902785A JP23902785A JPS6299458A JP S6299458 A JPS6299458 A JP S6299458A JP 23902785 A JP23902785 A JP 23902785A JP 23902785 A JP23902785 A JP 23902785A JP S6299458 A JPS6299458 A JP S6299458A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- steel sheet
- plating
- ion
- subjected
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、鋼板表面に二層のめっき皮膜を形成する方
法に関する。
法に関する。
鋼板表面に二層めっきする方法として、電気めっきや溶
融めっきがあるが、これらの方法はいずれもめっきでき
る金属の種類が限られている。
融めっきがあるが、これらの方法はいずれもめっきでき
る金属の種類が限られている。
これニ対し、真空蒸着やイオンデレーティングなどのド
ライノロセスは、電気めっき法や溶融めっき法ではめっ
きできない金属や化合物について二層めっきが可能であ
る。このうち真空蒸着は容易かつ迅速に各棟の二層めっ
きが可能であるが、めっきの密着性や被覆率が十分でな
い問題がある。一方イオン！レーティングは、緻密なめ
っき層を形成できるが、長時間この処理を行なうと鋼板
が加熱されて、その機械的特性に悪影響を受ける。
ライノロセスは、電気めっき法や溶融めっき法ではめっ
きできない金属や化合物について二層めっきが可能であ
る。このうち真空蒸着は容易かつ迅速に各棟の二層めっ
きが可能であるが、めっきの密着性や被覆率が十分でな
い問題がある。一方イオン！レーティングは、緻密なめ
っき層を形成できるが、長時間この処理を行なうと鋼板
が加熱されて、その機械的特性に悪影響を受ける。
〔発明が解決する技術的１１１ｗ１〕
この発明はｆＦｔの金属の二層めっき皮膜を密着性良く
かつ被覆性良く形成する二層めっき鋼板の製造方法を提
供するものである。
かつ被覆性良く形成する二層めっき鋼板の製造方法を提
供するものである。
この発明は、１．０Ｘ１０ ｔｏｒｒ以下の雰囲気中
で鋼板表面にイオンデレーティングを施して第１層のめ
っき皮膜を形成する工程と、１．０Ｘ１０ ’ｔｏｒｒ
以下の雰囲気中で第１層のめっき皮膜上に真空蒸着を施
してｔｓｌ廣のめっき皮膜とは材質の異なる第２層のめ
っき皮膜を形成する工程とを、ＫｆＩ＃シてなる。
で鋼板表面にイオンデレーティングを施して第１層のめ
っき皮膜を形成する工程と、１．０Ｘ１０ ’ｔｏｒｒ
以下の雰囲気中で第１層のめっき皮膜上に真空蒸着を施
してｔｓｌ廣のめっき皮膜とは材質の異なる第２層のめ
っき皮膜を形成する工程とを、ＫｆＩ＃シてなる。
更にこの発明の詳細な説明する。
まず電解脱脂の工程を経た冷延鋼板に前処理を施す。前
処理は、水素がスによるガス還元、イオンｊ？ンパード
、ＥＢ加熱等のうちから得ようとするめっき鋼板の種類
、性質に応じて適した方法を選択する。次いで鋼板表面
にイオンシレーティングを施す。この圧力は１．ＯＸ
１０ ｔｏｒｒ以下の雰囲気圧力中で行なう。このこ
とにより、密着性に優れかつ緻密性の良好な第１層のめ
っき皮膜が形成される。この場合、イオンプレーティン
グを長時間おこなうと鋼板が加熱され、その機械的特性
が損われる恐れがあるので、第１層のめっき皮膜は膜厚
が０．０２〜５μｍ程度が好ましい。なお、この発明で
雰囲気圧力を１．０Ｘ１０ ｔｏｒｒ以下としたのは
、これを越える低、中真空度のイオンシレーティングで
は、皮膜の密着性や緻密さが劣化するためである。
処理は、水素がスによるガス還元、イオンｊ？ンパード
、ＥＢ加熱等のうちから得ようとするめっき鋼板の種類
、性質に応じて適した方法を選択する。次いで鋼板表面
にイオンシレーティングを施す。この圧力は１．ＯＸ
１０ ｔｏｒｒ以下の雰囲気圧力中で行なう。このこ
とにより、密着性に優れかつ緻密性の良好な第１層のめ
っき皮膜が形成される。この場合、イオンプレーティン
グを長時間おこなうと鋼板が加熱され、その機械的特性
が損われる恐れがあるので、第１層のめっき皮膜は膜厚
が０．０２〜５μｍ程度が好ましい。なお、この発明で
雰囲気圧力を１．０Ｘ１０ ｔｏｒｒ以下としたのは
、これを越える低、中真空度のイオンシレーティングで
は、皮膜の密着性や緻密さが劣化するためである。
次に同じ高真空度の雰囲気圧力下で第１層のめっき皮膜
、ｌコに真空蒸着を絶して第２層のめ−。
、ｌコに真空蒸着を絶して第２層のめ−。
き皮膜を形成する。この皮膜は第１層のめつき皮膜と異
なる材質であるが、下地層（檎１層のめっき皮膜）が十
分清浄であるため、第２層のめっき皮膜は第１層のめつ
き皮膜に良好に密着する。この膜厚は通常０．５〜２０
μｍが好ましし）。
なる材質であるが、下地層（檎１層のめっき皮膜）が十
分清浄であるため、第２層のめっき皮膜は第１層のめつ
き皮膜に良好に密着する。この膜厚は通常０．５〜２０
μｍが好ましし）。
第１層のめっき皮膜の材料と第２Ｉ？４のめつき皮膜の
材質の選択、絹合せは、得ようとする性質及び処理した
鋼板の用冷によって異なるが、例えば以下の通りである
。
材質の選択、絹合せは、得ようとする性質及び処理した
鋼板の用冷によって異なるが、例えば以下の通りである
。
表 １
〔効果〕
この発明によれば第１層を高真空中でイオンプレーティ
ング処理によって形成し、引き続き第２層を同じ高真空
中で真空蒸着処理によって形成するので、二層めっき皮
膜の密着性及び被覆率を向上することができる。また第
１層をイオンル−ティングで形成するので、真空蒸着で
第１層を形成した場合に比べて第１層の膜厚を薄くでき
、この結果全膜厚を薄くすることが可能となる経済的効
果もある。
ング処理によって形成し、引き続き第２層を同じ高真空
中で真空蒸着処理によって形成するので、二層めっき皮
膜の密着性及び被覆率を向上することができる。また第
１層をイオンル−ティングで形成するので、真空蒸着で
第１層を形成した場合に比べて第１層の膜厚を薄くでき
、この結果全膜厚を薄くすることが可能となる経済的効
果もある。
実施例１
Ａｔ／Ｔｌ （第１層がＴＩ 、第２層がＡＡ）、ｋｌ
／Ｃｒ及びＮｉ／Ｃｒの二層めっき鋼板を第１表に示す
種種の方法及び条件で作製した。
／Ｃｒ及びＮｉ／Ｃｒの二層めっき鋼板を第１表に示す
種種の方法及び条件で作製した。
これら鋼板についてそれぞれ１８０°ｏｔ曲げを１回行
なう毎にテープ剥離試験を行ない、この試験を母材が折
り切れるまで繰り返して剥離の有無を調べ、これにより
密着性を評価した。その結果を第２表に示す。
なう毎にテープ剥離試験を行ない、この試験を母材が折
り切れるまで繰り返して剥離の有無を調べ、これにより
密着性を評価した。その結果を第２表に示す。
第２表
■Ｄ：真空蒸着
ＩＰ＝イオンル−ティング
○ ：剥離なし
Δ ：わずかに剥離
× ：かなり剥離
＊膜厚はいずれも第一層０．５μｍ、第二層２．５μｍ
である。
である。
上表から第一層をイオンシレーティングで蒸着した試料
は、第一層及び第二層の双方を真空蒸着で被覆形成した
試料よりも密着性が優れていることがわかる。また第一
層をイオン！レー？イングで蒸着したザンノルのうち、
雰囲気圧力が１．ＯＸ ｌ Ｏｔｏｒｒ以下のものは、
優れた密着性を示すが、１．ＯＸ １０ ’ ｔｏｒｒ
以上になると密着性が劣ることがわかる。
は、第一層及び第二層の双方を真空蒸着で被覆形成した
試料よりも密着性が優れていることがわかる。また第一
層をイオン！レー？イングで蒸着したザンノルのうち、
雰囲気圧力が１．ＯＸ ｌ Ｏｔｏｒｒ以下のものは、
優れた密着性を示すが、１．ＯＸ １０ ’ ｔｏｒｒ
以上になると密着性が劣ることがわかる。
実施例２
鋼板に雰囲気１（二力１．０ Ｘ １０ ’ ｔｏｒｒ
でＴＩ、Ｃｒの昨層暎を真空蒸着又はイオンデレーティ
ングで形成した。このようにして得られたＴ１．ＣｒＯ
ｔｇ層膜の膜厚と被覆率との関係を調べ、その結果を第
１図に示す。なお被覆率は下地鋼板の溶出電流から換算
した。
でＴＩ、Ｃｒの昨層暎を真空蒸着又はイオンデレーティ
ングで形成した。このようにして得られたＴ１．ＣｒＯ
ｔｇ層膜の膜厚と被覆率との関係を調べ、その結果を第
１図に示す。なお被覆率は下地鋼板の溶出電流から換算
した。
第１図からイオンデレーティングで形成した膜は、真空
蒸着で形成した膜よりも被覆率が高いことがわかる。ま
た同じ被覆率を得るのに、イオンプレーティング鰐よる
膜は、真空蒸着による膜よりも薄い膜厚で済むことがわ
かる。
蒸着で形成した膜よりも被覆率が高いことがわかる。ま
た同じ被覆率を得るのに、イオンプレーティング鰐よる
膜は、真空蒸着による膜よりも薄い膜厚で済むことがわ
かる。
４図面の簡Ｉ！ｉ々曲明
第１図は、Ｔｉ、Ｃｒの単層膜の膜厚と被覆率との関係
を示す実験結果の説明図である。
を示す実験結果の説明図である。
○ １２３４５
練 磨 （ｐｍ）
ｂ（’Ｓ １ 口
Claims (1)
- １．０×１０＾−＾５ｔｏｒｒ以下の雰囲気圧力下で鋼
板表面にイオンプレーティングを施して第１層のめっき
皮膜を形成する工程と、１．０×１０＾−＾５をｔｏｒ
ｒ以下の雰囲気圧力下で第１層のめっき皮膜上に真空蒸
着を施して第１層のめっき皮膜とは材質の異なる第２層
のめっき皮膜を形成する工程と、を具備してなる二層め
っき鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23902785A JPS6299458A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | 二層めつき鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23902785A JPS6299458A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | 二層めつき鋼板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6299458A true JPS6299458A (ja) | 1987-05-08 |
Family
ID=17038792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23902785A Pending JPS6299458A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | 二層めつき鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6299458A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5197544A (en) * | 1975-02-26 | 1976-08-27 | Kuroomuhimakuno keiseihoho | |
| JPS54153787A (en) * | 1978-05-26 | 1979-12-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Aluminum and zinc double layer plating steel plate and its production |
| JPS5928569A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 乾式メツキ法 |
| JPS60159166A (ja) * | 1984-01-27 | 1985-08-20 | Hitachi Cable Ltd | Ａｌ蒸着膜の製造法 |
-
1985
- 1985-10-25 JP JP23902785A patent/JPS6299458A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5197544A (en) * | 1975-02-26 | 1976-08-27 | Kuroomuhimakuno keiseihoho | |
| JPS54153787A (en) * | 1978-05-26 | 1979-12-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Aluminum and zinc double layer plating steel plate and its production |
| JPS5928569A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 乾式メツキ法 |
| JPS60159166A (ja) * | 1984-01-27 | 1985-08-20 | Hitachi Cable Ltd | Ａｌ蒸着膜の製造法 |
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