JPS6294B2 - - Google Patents
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- JPS6294B2 JPS6294B2 JP11820982A JP11820982A JPS6294B2 JP S6294 B2 JPS6294 B2 JP S6294B2 JP 11820982 A JP11820982 A JP 11820982A JP 11820982 A JP11820982 A JP 11820982A JP S6294 B2 JPS6294 B2 JP S6294B2
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- fluorine
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- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 35
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 17
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 16
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 15
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 4
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007712 rapid solidification Methods 0.000 description 1
- 238000005491 wire drawing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01853—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
- C03B37/01869—Collapsing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/30—Polarisation maintaining [PM], i.e. birefringent products, e.g. with elliptical core, by use of stress rods, "PANDA" type fibres
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は偏波面保存光フアイバの製造法に関す
るものである。
るものである。
偏波面保存光フアイバは、単一モード光フアイ
バの一種であり、そのコア径は極めて小さい。
バの一種であり、そのコア径は極めて小さい。
一般に光フアイバの製造法としては、内付
CVD法及びロツドインチユーブ法などがよく知
られているが、内付CVD法を除く他の方法では
細いコアロツドを製造することがめんどうであ
り、線引きを繰り返すなどの手数を要する。ま
た、内付CVD法でもガラス管の内壁に形成する
コアとなるガラス膜の厚さは数μｍ程度であり、
いずれにせよ長手方向に均一に形成することが難
しく境界面の不均性も生じやすい。
CVD法及びロツドインチユーブ法などがよく知
られているが、内付CVD法を除く他の方法では
細いコアロツドを製造することがめんどうであ
り、線引きを繰り返すなどの手数を要する。ま
た、内付CVD法でもガラス管の内壁に形成する
コアとなるガラス膜の厚さは数μｍ程度であり、
いずれにせよ長手方向に均一に形成することが難
しく境界面の不均性も生じやすい。
コア径が変動が生じたり、境界面に乱れがある
とカツトオフ波長等の特性にばらつきが生じ伝送
損失も増大する。
とカツトオフ波長等の特性にばらつきが生じ伝送
損失も増大する。
本発明は斯かる状況に鑑み、コア径が長手方向
に均一でしかもコアとクラツドとの境界面不整が
なく、特性の優れた偏波面保存光フアイバを得る
ことのできる製造法を提供することを目的とし、
その基本的な考え方は内付CVD法とイオン交換
法と減圧法（特開昭56−125233）との３者を有機
的に結合したものと言うことができる。
に均一でしかもコアとクラツドとの境界面不整が
なく、特性の優れた偏波面保存光フアイバを得る
ことのできる製造法を提供することを目的とし、
その基本的な考え方は内付CVD法とイオン交換
法と減圧法（特開昭56−125233）との３者を有機
的に結合したものと言うことができる。
本発明の構成を、一実施例を示す図面を参照し
て具体的に説明する。
て具体的に説明する。
第１図において、１は石英ガラス管であり、第
１の工程では、この内壁に石英ガラスより屈折率
の小さい低融点ガラス膜２を形成する。
１の工程では、この内壁に石英ガラスより屈折率
の小さい低融点ガラス膜２を形成する。
この低融点ガラス膜２は、後に外側クラツドと
なるものであり、比屈折率差Δn2−0.3％程度
と石英ガラスより屈折率が小さく構成されてい
る。
なるものであり、比屈折率差Δn2−0.3％程度
と石英ガラスより屈折率が小さく構成されてい
る。
低融点ガラス膜２の厚さは、例えば200μｍで
ある。
ある。
次に第２の工程では、さらに内壁に前記低融点
ガラス膜２より屈折率の小さい弗素ドープガラス
膜３を形成する。
ガラス膜２より屈折率の小さい弗素ドープガラス
膜３を形成する。
この弗素ドープガラス膜３は後に内側クラツド
となり、一部は変成してコアとなるものであり、
高純度SiO2に弗素のみがドープされて比屈折率
差Δn3−0.4％程度に構成されている。
となり、一部は変成してコアとなるものであり、
高純度SiO2に弗素のみがドープされて比屈折率
差Δn3−0.4％程度に構成されている。
弗素ドープガラス膜３の厚さは、例えば30μｍ
であり、融点は前記低融点ガラス膜２に比較して
明確に高く構成する。
であり、融点は前記低融点ガラス膜２に比較して
明確に高く構成する。
以上の条件から、結果的に前記低融点ガラス膜
２は、SiO2＋B2O3系ガラスかもしくはB2O3，
Ｆ，P2O5，GeO2等を２種以上ドーパントして含
むガラスである。
２は、SiO2＋B2O3系ガラスかもしくはB2O3，
Ｆ，P2O5，GeO2等を２種以上ドーパントして含
むガラスである。
第３の工程として、このようにして得られた膜
付石英ガラス管（第１図）内に酸素もしくは不活
性ガスを流しながら加熱し、前記弗素ドープガラ
ス膜３の内面から弗素を拡散させ、その一部を変
成する。その後第４の工程として、前記膜付石英
ガラス管５を第２図に示すように、加熱しながら
内部を減圧装置７により減圧して中実化する。こ
の中実化の過程において、前記低融点ガラス膜２
の部分は減圧のために楕円化して、第３図に示す
ような断面の偏波面保存光フアイバ母材が得られ
る。
付石英ガラス管（第１図）内に酸素もしくは不活
性ガスを流しながら加熱し、前記弗素ドープガラ
ス膜３の内面から弗素を拡散させ、その一部を変
成する。その後第４の工程として、前記膜付石英
ガラス管５を第２図に示すように、加熱しながら
内部を減圧装置７により減圧して中実化する。こ
の中実化の過程において、前記低融点ガラス膜２
の部分は減圧のために楕円化して、第３図に示す
ような断面の偏波面保存光フアイバ母材が得られ
る。
第２図において、６は加熱装置、８は減圧計を
示し、第３図において１０は石英ガラス層、２０
は低融点ガラスよりなる外側クラツド、３０は弗
素ドープガラスよりなる内側クラツドであり、４
０は内側クラツドを変成したコアである。
示し、第３図において１０は石英ガラス層、２０
は低融点ガラスよりなる外側クラツド、３０は弗
素ドープガラスよりなる内側クラツドであり、４
０は内側クラツドを変成したコアである。
このようにして得られた偏波面保存光フアイバ
母材の屈折率分布は第４図に示すようになり、コ
アの中心部はほとんど高純度SiO2であつて、一
般の内付CVD法においてありがちな中心ぬけ現
象（第５図屈折率分布参照）もない。
母材の屈折率分布は第４図に示すようになり、コ
アの中心部はほとんど高純度SiO2であつて、一
般の内付CVD法においてありがちな中心ぬけ現
象（第５図屈折率分布参照）もない。
さらに本発明の他の実施例について説明する。
前記第１の工程すなわち低融点ガラス膜形成の
工程と第２の工程すなわち弗素ドープガラス膜形
成の工程は、前記の実施例のごとく行い、その後
第３の工程すなわち弗素ドープガラス膜変成の工
程と第４の工程すなわち中実化の工程とを同時に
行うものである。
工程と第２の工程すなわち弗素ドープガラス膜形
成の工程は、前記の実施例のごとく行い、その後
第３の工程すなわち弗素ドープガラス膜変成の工
程と第４の工程すなわち中実化の工程とを同時に
行うものである。
第３の工程と第４の工程とは必ずしも時間的に
前後する必要はなく、中実化のスピードを調整す
ることにより同時に進行させることができる。
前後する必要はなく、中実化のスピードを調整す
ることにより同時に進行させることができる。
また、第３の工程を削除することもできる。す
なわち、第４の工程における加熱を1900℃〜2000
℃とし、バーナー等熱源の移動速度を４mm／min
程度に調整することにより、中実化を進行させな
がら弗素ドープガラス膜の一部を変成させること
ができる。しかし、この場合中実化を急速に進行
させないため、減圧量を調整するなどの必要があ
り、低融点ガラス膜の組成によつて第３の工程の
存在意義が重要となる場合がある。
なわち、第４の工程における加熱を1900℃〜2000
℃とし、バーナー等熱源の移動速度を４mm／min
程度に調整することにより、中実化を進行させな
がら弗素ドープガラス膜の一部を変成させること
ができる。しかし、この場合中実化を急速に進行
させないため、減圧量を調整するなどの必要があ
り、低融点ガラス膜の組成によつて第３の工程の
存在意義が重要となる場合がある。
以上説明したような本発明の製造法によれば、
次のような顕著な効果を奏する。
次のような顕著な効果を奏する。
(1) コアとなる部分は、一般の内付CVD法のよ
うに薄いガラス膜を堆積させることなく、拡散
により形成するため長手方向のばらつきがほと
んどなく、界面不整による散乱や中心ぬけもな
いので伝送損失が小さい。
うに薄いガラス膜を堆積させることなく、拡散
により形成するため長手方向のばらつきがほと
んどなく、界面不整による散乱や中心ぬけもな
いので伝送損失が小さい。
(2) コアに接する内側クラツドはＢを含まず弗素
のみをドープした高純度ガラスなので長波長帯
まで伝送損失が小さい。
のみをドープした高純度ガラスなので長波長帯
まで伝送損失が小さい。
(3) 外側クラツドに比べ内側クラツドの屈折率が
小さいので、漏洩モードのコアへの回り込みが
なく、広帯域が得られる。
小さいので、漏洩モードのコアへの回り込みが
なく、広帯域が得られる。
第１図及び第２図は本発明の一実施例を示す説
明図、第３図は本発明により得られた偏波面保存
光フアイバ母材の一例を示す断面説明図、第４図
は第３図の母材の屈折率分布を示す線図であり、
第５図は中心ぬけを説明するための屈折率分布を
示す線図である。 １：石英ガラス管、２：低融点ガラス膜、３：
弗素ドープガラス膜、５：膜付石英ガラス管、
６：加熱装置、７：減圧装置、８：減圧計、１
０：石英ガラス層、２０：外側クラツド、３０：
内側クラツド、４０：コア。
明図、第３図は本発明により得られた偏波面保存
光フアイバ母材の一例を示す断面説明図、第４図
は第３図の母材の屈折率分布を示す線図であり、
第５図は中心ぬけを説明するための屈折率分布を
示す線図である。 １：石英ガラス管、２：低融点ガラス膜、３：
弗素ドープガラス膜、５：膜付石英ガラス管、
６：加熱装置、７：減圧装置、８：減圧計、１
０：石英ガラス層、２０：外側クラツド、３０：
内側クラツド、４０：コア。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 石英ガラス管１の内壁に石英ガラスより屈折
率の小さい外側クラツドとなる低融点ガラス膜２
を形成し、次いでその内壁に前記低融点ガラス膜
２より屈折率の小さい内側クラツドとなる弗素ド
ープガラス膜３を形成し、然る後前記膜付石英ガ
ラス管を加熱しかつ内部を減圧して前記内側クラ
ツドとなる弗素ドープガラス膜３の一部を変成し
かつ中実化することを特徴とする偏波面保存光フ
アイバ母材の製造法。 ２ 石英ガラス管１の内壁に石英ガラスより屈折
率の小さい外側クラツドとなる低融点ガラス膜２
を形成し、次いでその内壁に前記低融点ガラス膜
２より屈折率の小さい内側クラツドとなる弗素ド
ープガラス膜３を形成し、前記膜付石英ガラス管
内に酸素もしくは不活性ガスを流しながら加熱し
て前記内側クラツドとなる弗素ドープガラス膜３
の一部を変成し、然る後前記膜付石英ガラス管を
加熱しながら内部を減圧して中実化することを特
徴とする偏波面保存光フアイバ母材の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11820982A JPS598634A (ja) | 1982-07-07 | 1982-07-07 | 偏波面保存光フアイバ母材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11820982A JPS598634A (ja) | 1982-07-07 | 1982-07-07 | 偏波面保存光フアイバ母材の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS598634A JPS598634A (ja) | 1984-01-17 |
| JPS6294B2 true JPS6294B2 (ja) | 1987-01-06 |
Family
ID=14730900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11820982A Granted JPS598634A (ja) | 1982-07-07 | 1982-07-07 | 偏波面保存光フアイバ母材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS598634A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3733880A1 (de) * | 1987-10-07 | 1989-04-20 | Schott Glaswerke | Verfahren zur herstellung eines lichtwellenleiters |
| NL1018951C2 (nl) | 2001-09-13 | 2003-03-14 | Draka Fibre Technology Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van een staafvormig vormdeel alsmede een werkwijze voor het uit een dergelijk staafvormig vormdeel vervaardigen van optische vezels. |
| NL2012868B1 (en) * | 2014-05-22 | 2016-03-15 | Draka Comteq Bv | A method for manufacturing an optical preform. |
-
1982
- 1982-07-07 JP JP11820982A patent/JPS598634A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS598634A (ja) | 1984-01-17 |
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