JPS61240208A - 光伝送体とその製造方法 - Google Patents

光伝送体とその製造方法

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JPS61240208A
JPS61240208A JP60082081A JP8208185A JPS61240208A JP S61240208 A JPS61240208 A JP S61240208A JP 60082081 A JP60082081 A JP 60082081A JP 8208185 A JP8208185 A JP 8208185A JP S61240208 A JPS61240208 A JP S61240208A
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JP
Japan
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glass
core
optical transmission
quartz
fluorine
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JP60082081A
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Michikazu Kosuge
道和 小菅
Ryoji Sedaka
良司 瀬高
Hiroshi Takahashi
宏 高橋
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Furukawa Electric Co Ltd
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Furukawa Electric Co Ltd
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03616Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
    • G02B6/03622Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 2 layers only
    • G02B6/03627Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 2 layers only arranged - +
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
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    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C03B37/01815Reactant deposition burners or deposition heating means
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    • C03B37/0183Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02Optical fibres with cladding with or without a coating
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は通信、非通信の分野で用いられる光伝送体とそ
の製造方法に関する。
r従来の技術J 光ファイバにおける低屈折率用のドーパントとして、現
在フッ素とホウ素が使用されている。
上記ドーパントのうち、ホウ素はドーパント濃度に対す
る屈折率の低減率が小さく、長波長領域(1,1ル■以
上)での基準振動による赤外吸収も無視できない。
これに対し、フッ素は上記の問題がなく、耐水素性にも
優れ、低価格である点でも望ましい。
低屈折率のドーパントを必要とする光ファイバの代表的
なものに、耐放射線光ファイバがある。
この耐放射線光ファイバは、主としてコアが純粋なシリ
カガラスからなり、クラッドが上記低屈折率用ドーパン
トの添加されたシリカガラスからなりτその屈折率分布
はSI型である。
かかるSI型光ファイバの場合、耐放射線性は優れてい
るが、帯域の狭さが問題となっている。
これに対処すべく、上記低屈折率用ドーパントを用いた
CI型光ファイバが検討されはじめているが、このCI
型の場合は、5Ifiと比べ耐放射線性の劣ることが指
摘されている。
その他、耐放射線性光ファイバの一般的傾向として、被
爆後の被覆劣化によるマイクロベンド損失が大きいので
、SI型、CI型を問わず、NAの大きいことが望まし
い。
「発明が解決しようとする問題点」 ところで、上述した低屈折率用ドーパントを含む光ファ
イバを作製するとき、当然のことではあるが、所定ガラ
ス中ヘドーブしたフッ素が散逸しないのが望ましく、こ
うしたドーパントの散逸が生じると、特性のよい光ファ
イバが得られない。
フッ素が石英ガラス中に取りこまれるのは、下記量論式
の反応による。
SiF4+3Si02 ==  4Si01.sF上記
の式において、反応を左から右へ進行させるには合成温
度を低くする必要があり、逆に温度を高くすれば反応は
右から左へと進行する。
したがって、フッ素の添加量を増加させるには合成温度
をできるだけ下げる必要が生じる。
ところが、ガラスパイプの内周面にフッ素ドープト石英
ガラスを堆積形成するとき、その堆積ガラス中に多量の
フッ素をドープしたとしても、ガラスパイプをコラプス
する際の強加熱とか、パイプ内ヘロッドインする際の強
加熱により、堆積ガラスの最内層では上記式の「左←右
」反応が起こり、その堆積ガラスの内周面(表面)から
フッ素が散逸してしまう。
フッ素の散逸は、GI型光ファイバでの屈折率分布異常
を招き、伝送帯域に支障をきたす。
上記フッ素散逸とは異なる問題点として、ガラスパイプ
の内周面に堆積されたガラス層がフッ素を含有している
場合、そのパイプ丙にガラス棒をロッドインしてこれら
両者を融着した際に発泡が生じる。
特に、フッ素の添加量が多いほど、その傾向が強くなる
本発明は上記の問題点に鑑み、フッ素の散逸、発泡等の
ない光伝送体とその製造方法を提供しようとするもので
ある。
r問題点を解決するための手段J 本発明に係る光伝送体は、フッ素を含有しない石英、ま
たはフッ素含有率の低いドープト石英からなるコアと、
フッ素含有率の高いドープト石英からなるクラッドとを
備えた光伝送体において、コアと径方向に隣接する部分
に、石英ガラスを主成分とするドーパント散逸防止層が
設けられていることを特徴としている。
本発明方法のうち、その一つはフッ素を含有しない石英
、またはフッ素含有率の低いドープト石英からなるコア
と、フッ素含有率の高いドープト石英からなるクラッド
とを備え、コアと径方向に隣接する部分に、石英ガラス
を主成分とするドーパント散逸防止層が設けられている
光伝送体の製遣方法において、高純度石英ガラスからな
るガラスパイプの内周面に、フッ素ドープト石英からな
るガラス層を堆積させた後、そのガラス層の内周面にフ
ッ素を含まないガラス層を堆積し、該ガラス層堆積後の
ガラスパイプをコラプスして光伝送体用の母材をつくり
、その母材を紡糸することを特徴としている。
本発明方法のうち、他の一つはフッ素を含有しない石英
、またはツー2素含有率の低いドープト石英からなるコ
アと、フッ素含有率の高いドープト石英からなるクラッ
ドとを備え、コアと径方向に隣接する部分に、石英ガラ
スを主成分とするドーパント散逸防止層が設けられてい
る光伝送体の製造方法において、高純度石英ガラスから
なるガラスパイプの内周面に、フッ素ドープト石英から
なるガラス層を堆積させた後、そのガラス層の内周面に
フッ素を含まないガラス層を堆積し、該ガラス層堆積後
のガラスパイプ内にコア用のガラスロンドをロッドイン
し、これにより得られた光伝送体用の母材を紡糸するこ
とを特徴としている。
「作用1 本発明のフッ素ドープト石英からなる光伝送体は、コア
と径方向に隣接する部分、例えばGI型におけるコアの
中心部とか、SI型におけるコア外周部とクラッド内周
部との間に、ドーパント散逸防止層が設けられている。
上記CI型光伝送体の場合、ガラスパイプの内周面にク
ラッド用のフッ素ドープト石英、コア用のフッ素ドープ
ト石英(GI型屈折率分布)、フッ素を含まないガラス
M(ドーパント散逸防止用)を順次堆積させ、その後、
該ガラスパイプをコラプスし、紡糸することにより得ら
れるが、こうした製造時、ドーパント散逸防止用のガラ
ス層が各堆積ガラス層の最内側にあるから、コラプスの
ための強加熱を受けてもフッ素は散逸しない。
すなわち、かかる構成のGI型光伝送体は、コアの中心
部にドーパント散逸防止層が設けられ、製造段階におけ
るフッ素の散逸がないものであるため、屈折率分布の異
常がない。
Sl型光伝送体の場合、ガラスパイプの内周面にクラッ
ド用のフッ素ドープト石英、フッ素を含まないガラス層
(ドーパント散逸防止用)を順次堆積させ、その後、該
ガラスパイプ内にコア用ガラス棒をロッドインし、紡糸
することにより得られるが、この際の製造時、ドーパン
ト散逸防止層用のガラス層があるから、ロッドインのた
めの強加熱を受けてもフッ素は散逸せず、しかもコア用
ガラス棒とガラスパイプとの界面にフッ素を含まない上
記ガラス層が介在されるため、発泡も生じない。
すなわち、かかる構成のSl型光伝送体は、そのコア外
周部とクラッド内周部との間に、ドーパント散逸防止層
が設けられ、製造段階におけるフッ素の散逸、発泡等が
ないものであるため、特性、品質とも優れた光伝送体と
なる。
一方1本発明における一つの方法は、所定ガラスパイプ
の内周面に、フッ素ドープト石英からなるガラス層を堆
積させた後、そのガラス層の内周面にフッ素を含まない
ガラス層を堆積し、該ガラス層堆積後のガラスパイプを
コラプスして光伝送体用の母材をつくり、その母材を紡
糸するから、前述したGI型の光伝送体を製造する際の
コラプス時、フッ素を含まない上記ガラス層によりフッ
素の散逸が防止でき、したがって屈折率分布異常のない
GI型光伝送体が製造できる。
本発明における他の一つの方法は、所定ガラスからなる
ガラスパイプの内周面に、フッ素ドープト石英からなる
ガラス層を堆積させた後、そのガラス層の内周面にフッ
素を含まないガラス層を堆積し、該ガラス層堆積後のガ
ラスパイプ内にコア用のガラスロンドをロッドインし、
これにより得られた光伝送体用の母材を紡糸するから、
前述したSr型の光伝送体を製造する際のロッドイン時
、フッ素を含まない上記ガラス層によりフッ素の散逸、
発泡等が防止でき、したがって屈折率分布異常、発泡等
のないSl型光伝送体が製造できる。
r実 施 例j 以下、本発明に係る光伝送体とその製造方法につき、図
面を参照して説明する。
第1図はGI型の光伝送体IAを示し、第2図はSr型
の光伝送体IBを示す。
第1図、第2図の光伝送体IA、IBはコア2とクラッ
ド3とドーパント散逸防止層4とパイプガラス層5とか
らなる。
第1図の光伝送体IAは第3図のごとき屈折率分布を有
し、そのコア2、クラッド3はフッ素ドープト石英から
なり、ドーパント散逸防止層4、パイプガラス層5はフ
ッ素を含まない高純度石英からなる。
第2図の光伝送体IBは第4図のごとき屈折率分布を有
し、そのクラッド3はフッ素ドープト石英からなるが、
コア2.ドーパント散逸防止層4゜パイプガラス層5は
フッ素を含まない高純度石英からなる。
つぎに、上記光伝送体IA、IBの製造方法を第5図〜
第7図により説明する。
第5図に示すプラズマCVD法は、ガラスの低温合成、
スート状態を経ない直接的なガラス堆積等が行なえるた
め、他の方法に比ベガラス中に多量のフッ素が添加でき
る。
第5図において、5aは高純度石英からなるガラスパイ
プ(サブストレイトパイプ)、11はガラスパイプ5a
内に発生させたプラズマ、12はマイクロ波発振機、1
3はプラズマ発生用のキャビティ、 14はアニール用
電気炉、15は原料供給系、16は真空排気系である。
第1図の光伝送体IAをつくるべく、第5図のプラズマ
CVD法を実施するとき、マイクロ波発振機12による
マイクロ波電界が、キャビティ13を介してガラスパイ
プ5aに印加され、これによりガラスパイプ5a内には
プラズマ11が発生する。
さらにガラスパイプ5a内が電気炉14により加熱され
る。
かかるガラスパイプ5a内には、原料供給系15から石
英ガラス原料、フッ素系のドープ原料、酸素が供給され
、これら原料のCVD反応によりガラスパイプ5aの内
周面にはクラッド用のガラスN3aが堆積形成される。
この際、パイプ5a内は真空排気系16により吸引かつ
排気されている。
つぎに上記原料供給系15からのドープ原料が徐々に減
じられながらガラス堆積が行なわれ、これにより、上記
ガラス層3aの内周面には二乗分布の屈折率構造をもつ
コア用のガラス層2aが形成される。
その後、上記原料供給系15からのドープ原料供給が停
止された状態でガラス堆積が行なわれ、これにより上記
ガラス層2aの内周面にはドーパント散逸防止用のガラ
ス層4aが形成される。
第6図は上記プラズマCVD法によりガラス堆積された
ガラスパイプ5aを示す。
上記ガラス堆積後のガラスパイプ5aは、これを適当な
加熱手段で加熱し、コラプスすることにより所定の母材
となり、以下、その母材を既知の紡糸手段で加熱延伸す
ることにより、第1図の光伝送体IAが得られる。
第1図の光伝送体IBをつくる場合のプラズマCVD法
も、概ね前記と同様であるが、この場合はガラスパイプ
5aの内周面にクラッド用のガラス層3aが堆積形成さ
れた後、そのガラス層3aの内周面にドーパント散逸防
止用のガラス層4aが堆積形成される。
第7図は上記プラズマCVD法によりガラス堆積された
ガラスパイプ5aである。
このガラスパイプ5a内には、高純度石英からなるガラ
ス棒2bが内挿され、その後の加熱処理により、ガラス
パイプ5aとガラス棒2bとが一体化される。
こうして作製され母材が前記と同様に紡糸されて第2図
の光伝送体lBとなる。
つぎに本発明方法の具体例について説明する。
具体例1 前述した第5図のガラス堆積手段、既知のコラプス手段
、紡糸手段等を介して第1図のGI型光伝送体を製造す
るとき、つぎの条件で実施した。
ガラスパイプ5aは外径(直径) 20mm、内径(直
径) 17mm高純度石英を用いた。
放電プラズマ11の発生には2 、45GHzのマイク
ロ波発振機12を用い、出力を750wに設定した。 
この際のマクロ波電界はキャビティ13を介してガラス
バイプ5aに印加される。
電気炉14は、上記パイプ5aの表面温度が1200℃
となるよう、これの加熱温度を設定した。
ガラスパイプ5a内には、原料供給系15から石英ガラ
ス原料5iC14を70sccm、02を500scc
■供給し、ざらにドープ原料02G12F4(フロン1
14)を10scc鵬供給し、ガラスパイプ5aの内圧
を12.3Torrに保持しつつ、2500回の堆積に
よりクラッド用のガラス層3aを形成した。
その後、5iC14,02の流量はそのままに保持して
、かつ、ガラスパイプ5aの内圧もそのままに保持して
02CI2F4の流量を徐々に減らし、二乗屈折率分布
をもつコア用ガラスR2aを形成した。
このコア用ガラス層2aの堆積回数は1300回である
が、このうち、最後の二回は全くフッ素を含まないドー
パント散逸防止用のガラス層4aとした。
上記ガラス堆積後のガラスパイプ5aをガラス旋盤にセ
ットし、酸水素炎によりコラプスして所定の棒状母材と
した後、当該母材をZ r02の誘導加熱炉により紡糸
した。
これにより得られた光伝送体IAは、コア直径504t
s、クラッド厚15IL11、外径(直径) 12S 
IL層であり、NAは0.22であった。
かかる光伝送体IAの端面を干渉顕微鏡にて観察したと
ころ、屈折率分布は滑らかで、フッ素の散逸による屈折
率の上昇は認めらず、一方、8該光伝送体】Aの伝送帯
域を測定したところ、波長1.3用l帯において800
M)Iz k層とよい特性を示した。
具体例2 前述した第5図のガラス堆積手段、既知のロッドイン手
段、紡糸手段等を介して第1図のCI型光伝送体を製造
するとき、つぎの条件で実施した。
放電プラズマ11の発生には2.45GHzのマイクロ
波発振機12を用い、出力を850wに設定した。 こ
の際のマクロ波電界はギヤビティ13を介してガラスパ
イプ5aに印加される。
電気炉14は、上記パイプ5aの表面温度が」150℃
となるよう、これの加熱温度を設定した。
ガラスパイプ5a内には、原料供給系15から石英ガラ
ス原料5iG14 を101005e 、 02を70
0sccm供給し、ざらにドープ原料03FBを15s
ecm供給し、ガラスパイプ5aの内圧を12.5To
rrに保持しながら3000回の堆積によりクラ−2ド
用のガラスM3aを形成した。
その後、5iG14.02の流量はそのまま、ガラスパ
イプ5aの内圧もそのままに保持し、03F8の供給だ
けを停止して10回の堆積によりドーパント散逸防止用
のガラス層4aを形成した。
つぎに直径10+o+の石英製コア用ガラス棒2bを上
記ガラスパイプ5a内に挿入し、これら両者5a、2b
を熱融着した。
この際の熱融着時、堆積ガラス層からの発泡がなく、上
記両者5a、2bの界面がきれいな母材が得られた。
かかる母材をセンタレス研磨手段により研磨して所定の
外径とした後、その母材を前記具体例と同様に紡糸して
コア直径100ル鑓、クラッド厚15pm、外径140
 p、tsの光伝送体IBを得た。
この光伝送体IBはNAが0.30であり、伝送特性は
1.3ルmであった。
r発明の効果1 以上説明した通り、本発明に係る光伝送体は、所定部が
フッ素ドープト石英で構成されたものにおいて、コアと
径方向に隣接する部分に、石英ガラスを主成分とするド
ーパント散逸防止層が設ζすられ、屈折率分布の異常、
発泡等がないから優れた光伝送体となり得る。
一方、本発明方法によるときは、所定ガラスパイプの内
周面に、フッ素ドープト石英からなるガラス層を堆積さ
せた後、そのガラス層の内周面にフッ素を含まないガラ
ス層を堆積し、以下、かかるガラスパイプをコラプスし
、あるいはそのガラスパイプ内にロッドインして光伝送
体用の母材をつくり、これを紡糸するから、上記フッ素
を含まない上記ガラス層によりドーパント散逸を防上し
て屈折率分布の異常、発泡等のない光伝送体を製造し得
る。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明に係る各種光伝送体の断面図、
第3図、第4図は上記各光伝送体の屈折率分布図、第5
図は本発明方法におけるガラス堆積手段の説明図、第6
図、第7図は本発明方法における各種母材の製造速時の
状態を示した断面図である。 IA−・・・光伝送体 1B・・・・光伝送体 2・・・・・コア 2・・・・・クラッド 4・・・・・ドーパント散逸防止層 5・・・・・パイプガラス層 2a・・・・コア用ガラス層 2b・・・−コア用ガラス棒 3a・・・・クラッド用ガラス層 4a・・・−ドーパント散逸防止用ガラス層5a・・・
・ガラスパイプ 代理人 弁理士  斎 藤 義 雄 第1wi   第2図 第3図   Wi4図 第 5 図 第bwi11711

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)フッ素を含有しない石英またはフッ素含有率の低
    いドープト石英からなるコアと、フッ素含有率の高いド
    ープト石英からなるクラッドとを備えた光伝送体におい
    て、コアと径方向に隣接する部分に、石英ガラスを主成
    分とするドーパント逸散防止層が設けられていることを
    特徴とする光伝送体。
  2. (2)コアがGI型の屈折率分布を有し、そのコアの中
    心部にドーパント散逸防止層が設けられている特許請求
    の範囲第1項記載の光伝送体。
  3. (3)コアがSI型の屈折率分布を有し、そのコア外周
    部とクラッド内周部との間にドーパント散逸防止層が設
    けられている特許請求の範囲第1項記載の光伝送体。
  4. (4)フッ素を含有しない石英、またはフッ素含有率の
    低いドープト石英からなるコアと、フッ素含有率の高い
    ドープト石英からなるクラッドとを備え、コアと径方向
    に隣接する部分に、石英ガラスを主成分とするドーパン
    ト散逸防止層が設けられている光伝送体の製造方法にお
    いて、高純度石英ガラスからなるガラスパイプの内周面
    に、フッ素ドープト石英からなるガラス層を堆積させた
    後、そのガラス層の内周面にフッ素を含まないガラス層
    を堆積し、該ガラス層堆積後のガラスパイプをコラプス
    して光伝送体用の母材をつくり、その母材を紡糸するこ
    とを特徴とする光伝送体の製造方法。
  5. (5)フッ素を含有しない石英、またはフッ素含有率の
    低いドープト石英からなるコアと、フッ素含有率の高い
    ドープト石英からなるクラッドとを備え、コアと径方向
    に隣接する部分に、石英ガラスを主成分とするドーパン
    ト散逸防止層が設けられている光伝送体の製造方法にお
    いて、高純度石英ガラスからなるガラスパイプの内周面
    に、フッ素ドープト石英からなるガラス層を堆積させた
    後、そのガラス層の内周面にフッ素を含まないガラス層
    を堆積し、該ガラス層堆積後のガラスパイプ内にコア用
    のガラスロッドをロッドインし、これにより得られた光
    伝送体用の母材を紡糸することを特徴とする光伝送体の
    製造方法。
JP60082081A 1985-04-17 1985-04-17 光伝送体とその製造方法 Pending JPS61240208A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007536580A (ja) * 2004-05-06 2007-12-13 ベイカー ヒューズ インコーポレイテッド 長波長用純シリカ製コアシングルモードファイバ及び該ファイバを形成する方法

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JP2007536580A (ja) * 2004-05-06 2007-12-13 ベイカー ヒューズ インコーポレイテッド 長波長用純シリカ製コアシングルモードファイバ及び該ファイバを形成する方法

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