JPS6212180B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6212180B2
JPS6212180B2 JP5723180A JP5723180A JPS6212180B2 JP S6212180 B2 JPS6212180 B2 JP S6212180B2 JP 5723180 A JP5723180 A JP 5723180A JP 5723180 A JP5723180 A JP 5723180A JP S6212180 B2 JPS6212180 B2 JP S6212180B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
barrier layer
glass tube
loss
low
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP5723180A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS56155037A (en
Inventor
Toshihide Tokunaga
Junkichi Nakagawa
Tsutomu Yabuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
Priority to JP5723180A priority Critical patent/JPS56155037A/ja
Publication of JPS56155037A publication Critical patent/JPS56155037A/ja
Publication of JPS6212180B2 publication Critical patent/JPS6212180B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はOH基含有量の小さい低損失光フアイ
バの製造方法に関するものである。
光フアイバの製造方法としては、ガラス管の内
面に芯ガラスの膜を堆積し、加熱延伸して中まで
密の繊維を得る方法が知られており、この方法に
より高純度の芯ガラスを有する光フアイバが一応
製造できると考えられている。
しかしながら、現実には高純度のガラス管は準
備しにくいため、ガラス管中の不純物特にOH基
が芯ガラスにまで拡散し、結果的には長波長帯
1.0〜1.7μmで低損失の光フアイバは容易に得る
ことができなかつた。
そこで、低損失化を図るために、ガラス管の内
面に不純物拡散防止のためのバリア層を形成し、
さらにその内面に芯ガラス膜を形成することが考
えられた。
この手法は、かなり効果的であつた。
しかしながら、さらに低損失化を追求して行つ
たとき、このバリア層の製造条件(組成を含む)
によつて低損失化の達成効果に大きな差異が存在
することが判明した。
本発明は斯かる状況に鑑み、低損失の光フアイ
バの製造方法を提供することを目的とする。
本発明の構成を、一実施例を示す図面を参照し
て具体的に説明する。
第1図に示すように、ガラス旋盤4に外径26
mm、内径23mmの石英ガラス管1を装着し、酸素ガ
スをキヤリアとしてガラス原料ガスを送り込む。
ガラス原料ガスは、SiCl4:POCl3:BCl3が93:
5:2のモル%比率で混合されている。
バーナ5の移動と共に1400℃の温度でガラス管
1とほとんど屈折率の同じP2O5―B2O3―SiO2
ガラスのバリア層(約300μm)が形成される。
その後、GeO2―P2O5―SiO2系ガラスの芯ガラ
ス膜が1500℃〜1600℃で約300μm形成される。
このようにして構成されたガラス管1は第2図
に示すような断面構造であり、2はバリア層、3
は芯ガラス膜である。
バリア層2の材質としてはP2O5―B2O3―SiO2
系ガラスの他GeO2―P2O5―B2O3―SiO2系ガラス
その他が使用できる。
このバリア層2形成の温度によつて、結果的に
光フアイバの損失が変化し、その様相は第3図に
示すようである。
第3図において、Aはバリア層2形成温度が
1650℃の場合、Bは1500℃の場合、Cは1400℃の
場合である。
特に波長1.4μm付近での損失差が大きく、0.8
μm付近と同様に1.4μm帯でも使用できるため
には、バリア層2の形成温度は1350〜1450℃にし
なければならない。
ここで下限を1350℃としたのは、形成温度を
1300℃程度としたときには、当然バリア層のガラ
ス融点が低く、熱膨張係数も大きいため、ガラス
管の中実化工程あるいは線引工程で気泡が生じた
り、クラツクが発生する可能性が大きいからであ
る。
以上説明したように、本発明の製造方法によれ
ば、バリア層によつてガラス管からの不純物特に
OH基の拡散が防止でき、低損失の光フアイバを
得ることができるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す説明図、第2
図は本発明の一実施例における中間製品を示す断
面図、第3図は本発明の一実施例により得られた
製品と他の方法により得られた製品との損失比較
を示す線図である。 1:ガラス管、2:バリア層、3:芯ガラス
膜、4:旋盤、5:バーナ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ガラス管1の内面に温度1350℃〜1450℃の範
    囲で高純度ガラスによるバリア層2を形成し、次
    いで高純度の芯ガラス膜3を形成し、加熱してガ
    ラス管1を充実にし、然る後線引きを行うことを
    特徴とする低損失光フアイバの製造方法。
JP5723180A 1980-04-30 1980-04-30 Preparation of optical fiber with low loss Granted JPS56155037A (en)

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JP5723180A JPS56155037A (en) 1980-04-30 1980-04-30 Preparation of optical fiber with low loss

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JPS56155037A JPS56155037A (en) 1981-12-01
JPS6212180B2 true JPS6212180B2 (ja) 1987-03-17

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ID=13049749

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1037163C2 (nl) * 2009-07-30 2011-02-02 Draka Comteq Bv Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een primaire voorvorm voor optische vezels.
NL1037164C2 (nl) * 2009-07-30 2011-02-02 Draka Comteq Bv Werkwijze voor het vervaardigen van een primaire voorvorm voor optische vezels.

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JPS56155037A (en) 1981-12-01

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