JPS62927A - 光学素子 - Google Patents
光学素子Info
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- JPS62927A JPS62927A JP13908185A JP13908185A JPS62927A JP S62927 A JPS62927 A JP S62927A JP 13908185 A JP13908185 A JP 13908185A JP 13908185 A JP13908185 A JP 13908185A JP S62927 A JPS62927 A JP S62927A
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- JP
- Japan
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- layer
- liquid
- gel
- resistance heating
- heating layer
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- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、新規な光学素子に関し、特にゲルの膨潤、収
縮を利用した光学素子に関するもの1ある。
縮を利用した光学素子に関するもの1ある。
[開示の概要]
本明細書及び図面は、0轟機器等の表示装置に用いられ
る表示素子において、温度変化によって膨潤又は収縮す
る脱吸液体性ポリマーと、このポリマーに吸収又は排出
される液体と、前記脱吸液体性ポリマーに固定された色
素とからなるゲル含有液層を、片方に抵抗発熱層を形成
した基板間に挟持して表示素子とすることにより、緒特
性を向上させ、長時間使用における目の疲労軽減及び低
消費電力化を可能にする技術を開示するものである。
る表示素子において、温度変化によって膨潤又は収縮す
る脱吸液体性ポリマーと、このポリマーに吸収又は排出
される液体と、前記脱吸液体性ポリマーに固定された色
素とからなるゲル含有液層を、片方に抵抗発熱層を形成
した基板間に挟持して表示素子とすることにより、緒特
性を向上させ、長時間使用における目の疲労軽減及び低
消費電力化を可能にする技術を開示するものである。
近年、オフィス−オートメーション(OA〕化の発展に
伴い、表示装置(ディスプレイ)の用途が事務機器の分
野にも広く進出している。このような表示装置において
は、長時間の使用にも目の疲労を感じさせないものが望
ましい、従来、斯かる表示素子としては、電界発色表示
素子(ECD)、液晶表示素子(LCD)等の非発光型
のものが知られている。しかしながら、ECUは表示コ
ントラストが低く、LCDはさらに視野角が狭いという
欠点があった。また、これらを光シャッタ等の光変調素
子として利用する場合にも同様の欠点があった。
伴い、表示装置(ディスプレイ)の用途が事務機器の分
野にも広く進出している。このような表示装置において
は、長時間の使用にも目の疲労を感じさせないものが望
ましい、従来、斯かる表示素子としては、電界発色表示
素子(ECD)、液晶表示素子(LCD)等の非発光型
のものが知られている。しかしながら、ECUは表示コ
ントラストが低く、LCDはさらに視野角が狭いという
欠点があった。また、これらを光シャッタ等の光変調素
子として利用する場合にも同様の欠点があった。
本発明は、従来の素子におけるこのような欠点に鑑みな
されたもので、表示素子として視野角が広く、明瞭性に
優れ、長時間の使用にも目の疲労を感じさせない高品位
の素子、また、光変調素子としてコントラストが高く、
先入射角依存の小さい素子を提供することを目的とする
ものである。
されたもので、表示素子として視野角が広く、明瞭性に
優れ、長時間の使用にも目の疲労を感じさせない高品位
の素子、また、光変調素子としてコントラストが高く、
先入射角依存の小さい素子を提供することを目的とする
ものである。
[問題点を解決するための手段]
以下、本発明の基本構成を、第1図を用いて説明する。
図において、lは基板、2はゲル含有液層、3は透明保
護板、7は発熱要素に該当する抵抗発熱層、10は抵抗
発熱層保護層である。基板lは、光学素子を透過型とし
た場合にはガラス類、プラスチック類等の光を透すもの
が用いられ1反射型とした場合には、シリコンのような
半導体類、セラミックス類、アルミのような金属類、不
透明プラスチック類等の光を透さないもの、あるいは前
記した透過性材料の表面に金属被膜を蒸着させたもの等
が用いられる。
護板、7は発熱要素に該当する抵抗発熱層、10は抵抗
発熱層保護層である。基板lは、光学素子を透過型とし
た場合にはガラス類、プラスチック類等の光を透すもの
が用いられ1反射型とした場合には、シリコンのような
半導体類、セラミックス類、アルミのような金属類、不
透明プラスチック類等の光を透さないもの、あるいは前
記した透過性材料の表面に金属被膜を蒸着させたもの等
が用いられる。
ゲル含有液層2は液体と、色素を含む網目重合体(ゲル
)からなる液層である。このゲル含有液層2を構成する
ゲルは、温度変化によって前記液体を吸収又は排出して
、膨潤又は収縮する性質をもつポリマー材料と、これに
含まれる色素との組み合せからなるものであり、特にゲ
ル内部に存在する色素が、前記ゲルの内部に拡散する事
を妨げる様な三次元網目構造高分子よりなるものでなけ
ればならない。
)からなる液層である。このゲル含有液層2を構成する
ゲルは、温度変化によって前記液体を吸収又は排出して
、膨潤又は収縮する性質をもつポリマー材料と、これに
含まれる色素との組み合せからなるものであり、特にゲ
ル内部に存在する色素が、前記ゲルの内部に拡散する事
を妨げる様な三次元網目構造高分子よりなるものでなけ
ればならない。
このゲルを構成する網目重合体としては、インブチルメ
タクリレート、メチルメタクリレート、N−イソプロピ
ルアクリルアミド、 N、N−ジエチルアクリルアミド
等のアクリル(メタクリル)系単量体、スチレン、酢酸
ビニル、ビニルメチルエーテル等のビニル系単量体、エ
チレン、プロピレン、イソプレン等のオレフィン類など
の一種類以上の重合性単量体を、エチレンジメタクリレ
ート。
タクリレート、メチルメタクリレート、N−イソプロピ
ルアクリルアミド、 N、N−ジエチルアクリルアミド
等のアクリル(メタクリル)系単量体、スチレン、酢酸
ビニル、ビニルメチルエーテル等のビニル系単量体、エ
チレン、プロピレン、イソプレン等のオレフィン類など
の一種類以上の重合性単量体を、エチレンジメタクリレ
ート。
N、N−メチレンビスアクリルアミド等の架橋性単量体
とともに重合する事により得られる三次元網目共重合体
、あるいは、一種類以上の前記単量体等の重合体に、架
橋剤を少量添加して高分子反応を行い得られる三次元網
目重合体、例えば、ポリエチレンオキシド、ポリアクリ
ルアミド等の重合体に塩化シアヌル、ピロメリット酸塩
化物等を架橋剤として添加、反応して得られる重合体等
が好ましく用いられる。
とともに重合する事により得られる三次元網目共重合体
、あるいは、一種類以上の前記単量体等の重合体に、架
橋剤を少量添加して高分子反応を行い得られる三次元網
目重合体、例えば、ポリエチレンオキシド、ポリアクリ
ルアミド等の重合体に塩化シアヌル、ピロメリット酸塩
化物等を架橋剤として添加、反応して得られる重合体等
が好ましく用いられる。
一方、係るゲルを構成する液体としては、水、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、インペンタン、ベンゼン等の
炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極柱溶
媒類等、またそれらの間の混合溶媒、あるいはそれらの
溶媒に、塩化カリウム、プロピオン酸アンモニウム等の
塩類、尿素、グルコース等の有機物質などを溶質として
添加した溶液等が好ましく用いられる。
ル、エタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、インペンタン、ベンゼン等の
炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極柱溶
媒類等、またそれらの間の混合溶媒、あるいはそれらの
溶媒に、塩化カリウム、プロピオン酸アンモニウム等の
塩類、尿素、グルコース等の有機物質などを溶質として
添加した溶液等が好ましく用いられる。
ゲルを構成する前記三次元網目重合体と液体とは、重合
体が液体中で示す臨界溶解温度(単独重合体が単純溶媒
中で示すフローリーのθ温度に対応する温度)が5℃か
ら2oo℃、好適には30″Cから100℃の範囲に存
在する組み合わせである事が望ましい。
体が液体中で示す臨界溶解温度(単独重合体が単純溶媒
中で示すフローリーのθ温度に対応する温度)が5℃か
ら2oo℃、好適には30″Cから100℃の範囲に存
在する組み合わせである事が望ましい。
一方、色素としては、前述の網目重合体の内部又は表面
にのみ限定存在することが要求される。
にのみ限定存在することが要求される。
このように限定存在させる方法としては、色素と網目重
合体を化学的に結合させる。いわゆる化学結合法、巨大
粒子分子の存在下で3次元架橋反応を起こさせることに
より、網目の中に巨大粒子を閉じこめる包含法等がある
。
合体を化学的に結合させる。いわゆる化学結合法、巨大
粒子分子の存在下で3次元架橋反応を起こさせることに
より、網目の中に巨大粒子を閉じこめる包含法等がある
。
化学結合法に用いる事のできる色素としては。
例えば、ダイアミライエロー〇、スミフィックスレッド
B、ダイアミラブリリアントグリーン6B、セルマゾー
ルブリリアントブルーG等の反応染料が挙げられる。ま
た、包含法に用いる事のできる色素としては、ボ1.I
R−478、ボ!J S−119、ホ!JT−128
(ダイナポール社製)、セイカゲンWブ/l/−BKI
EiOO、セイカゲ7Wブルー BK1300 (大日
製化製)等の高分子染料、ベンジジンイエローGR、ク
ロモフタルオレンジ4R、トルイジンマルーンMT−2
、パルカンファストオレンジCG、パーマネントレッド
F5R、リトールルビンGK、ブリリアントカーミン3
B、サンヨーレッドB−G511、モナストラルマルー
ン、パーマネントレッドE5B 、パーマネントピンク
E、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、
ナフトールグリーンBN、ダイアモンドブラック等の顔
料が挙げられる。
B、ダイアミラブリリアントグリーン6B、セルマゾー
ルブリリアントブルーG等の反応染料が挙げられる。ま
た、包含法に用いる事のできる色素としては、ボ1.I
R−478、ボ!J S−119、ホ!JT−128
(ダイナポール社製)、セイカゲンWブ/l/−BKI
EiOO、セイカゲ7Wブルー BK1300 (大日
製化製)等の高分子染料、ベンジジンイエローGR、ク
ロモフタルオレンジ4R、トルイジンマルーンMT−2
、パルカンファストオレンジCG、パーマネントレッド
F5R、リトールルビンGK、ブリリアントカーミン3
B、サンヨーレッドB−G511、モナストラルマルー
ン、パーマネントレッドE5B 、パーマネントピンク
E、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、
ナフトールグリーンBN、ダイアモンドブラック等の顔
料が挙げられる。
ゲル含有層2の中のゲルの大きさ、形状、配列は任意で
あり、ゲルが一体となってゲル含有層2に充填されてい
てもよいし、クラック状1分散状、集塊状等に充填され
ていてもよい、また、画素の形状、配列等に対応させて
ゲルあるいは微少ゲル群を配置してもよい、一般に一個
のゲルの大きさは画素のそれと同等かそれ以下が好適で
ある。さらに、ゲル含有液層2の厚さとしては、i p
、 m −1000g taが適当であり、好ましくは
lル11〜100 ILmが最適な範囲である。
あり、ゲルが一体となってゲル含有層2に充填されてい
てもよいし、クラック状1分散状、集塊状等に充填され
ていてもよい、また、画素の形状、配列等に対応させて
ゲルあるいは微少ゲル群を配置してもよい、一般に一個
のゲルの大きさは画素のそれと同等かそれ以下が好適で
ある。さらに、ゲル含有液層2の厚さとしては、i p
、 m −1000g taが適当であり、好ましくは
lル11〜100 ILmが最適な範囲である。
また、透明保護板3としては、前述の基板lの説明で例
示した透明体が用いられる。
示した透明体が用いられる。
抵抗発熱層7としては、硼化ハフニウム、窒化タンタル
等の金属化合物又はニクロム等の合金、インジウム錫酸
化物(ITO)等の透明酸化物等が好ましく用いられ、
膜厚としては、500 A〜5000Aの範囲が好適で
ある。
等の金属化合物又はニクロム等の合金、インジウム錫酸
化物(ITO)等の透明酸化物等が好ましく用いられ、
膜厚としては、500 A〜5000Aの範囲が好適で
ある。
また、抵抗発熱層保護層10としてはポリアミド、ポリ
イミド、ポリエステル、テフロン等の有機高分子あるい
は二酸化ケイ素、酸化タンタル等の酸化物などが用いら
れ、膜厚としては5ル膳以下が好適である。なお、この
抵抗発熱層保m層!Oは1本発明の実施に不可欠のもの
ではないが、抵抗発熱層7とゲル含有液層2とを分離す
ることによって電気的に絶縁する事になり、素子の安定
化を計ることができる。このため実用的には設ける事が
望ましい。
イミド、ポリエステル、テフロン等の有機高分子あるい
は二酸化ケイ素、酸化タンタル等の酸化物などが用いら
れ、膜厚としては5ル膳以下が好適である。なお、この
抵抗発熱層保m層!Oは1本発明の実施に不可欠のもの
ではないが、抵抗発熱層7とゲル含有液層2とを分離す
ることによって電気的に絶縁する事になり、素子の安定
化を計ることができる。このため実用的には設ける事が
望ましい。
[作 用]
次に本発明による光学素子の動作(作像、光変調)原理
を第1図及び第2図を用いて説明する。
を第1図及び第2図を用いて説明する。
なお、図は反射型の例を示すが基板!、抵抗発熱層7.
同保護層10に透明な材料を用いれば、同じ構成により
透過型の光学素子となる。第1図及び第2図共、基板l
の表面上に配置した抵抗発熱層7を、外部に設けた電源
20からの電流によって加熱し、隣接するゲル含有液層
2の温度を制御するように構成したものである。
同保護層10に透明な材料を用いれば、同じ構成により
透過型の光学素子となる。第1図及び第2図共、基板l
の表面上に配置した抵抗発熱層7を、外部に設けた電源
20からの電流によって加熱し、隣接するゲル含有液層
2の温度を制御するように構成したものである。
第1図は高温では液体を吸ってW潤し、低温ではこの液
体を吐いて収縮するゲルを含有する液層2を挟持した光
学素子の概略構成図である。第1図において、抵抗発熱
層7につながるスイッチ9は閉状態となっているため、
抵抗発熱層7は電源20からの電流によって加熱される
。このため、隣接するゲル含有液層2中のゲルは液体を
吸って膨潤状態となる。このため、高温領域4に入射す
る光1i 8−1は、液層中に存在する色素による吸収
の影響をほとんど受けない、他方、抵抗発熱層7aにつ
ながるスイッチ9aは開状態となっているため、抵抗発
熱層7aには電流は流れない、したがって、隣接するゲ
ル含有液層2中のゲルは液体を吐いた収縮状態にある。
体を吐いて収縮するゲルを含有する液層2を挟持した光
学素子の概略構成図である。第1図において、抵抗発熱
層7につながるスイッチ9は閉状態となっているため、
抵抗発熱層7は電源20からの電流によって加熱される
。このため、隣接するゲル含有液層2中のゲルは液体を
吸って膨潤状態となる。このため、高温領域4に入射す
る光1i 8−1は、液層中に存在する色素による吸収
の影響をほとんど受けない、他方、抵抗発熱層7aにつ
ながるスイッチ9aは開状態となっているため、抵抗発
熱層7aには電流は流れない、したがって、隣接するゲ
ル含有液層2中のゲルは液体を吐いた収縮状態にある。
このため、低温領域5内に入射する光線6−2は液層中
に存在する色素による吸収の影響を強く受ける。
に存在する色素による吸収の影響を強く受ける。
一方、第2図に示す光学素子に用いられる液層は、前記
液層とは正反対の性質をもつ液層で、低温では液体を吸
って膨潤し、高温では液体を吐いて収縮する性質を示す
。この様な液層を用いた場合、第2図に示す様に、高温
領域5に入射する光線8−1は色素による吸収の影響を
強く受け、低温領域4に入射する光線6−2は色素によ
る吸収の影響をほとんど受けない。、 。
液層とは正反対の性質をもつ液層で、低温では液体を吸
って膨潤し、高温では液体を吐いて収縮する性質を示す
。この様な液層を用いた場合、第2図に示す様に、高温
領域5に入射する光線8−1は色素による吸収の影響を
強く受け、低温領域4に入射する光線6−2は色素によ
る吸収の影響をほとんど受けない。、 。
以上の説明で明らかな様に11本発明はゲルの膨潤、収
縮を熱的に制御することにより1.光吸収の請合を変化
させ、像形成や光変調を行うものである。なお、ゲル含
有液N2の特性を、第1図及び第2図で説明した2種類
のうちのど島らにするかは、前項で例示した重合体及び
液体を適宜組み合わせることによって、任意に選択する
ことができる。
縮を熱的に制御することにより1.光吸収の請合を変化
させ、像形成や光変調を行うものである。なお、ゲル含
有液N2の特性を、第1図及び第2図で説明した2種類
のうちのど島らにするかは、前項で例示した重合体及び
液体を適宜組み合わせることによって、任意に選択する
ことができる。
[実施例]
第3図は1本発明の一実施例を示す基板の斜視図である
。第3図において、厚さ0.7mm 、大きさ50m層
×25鵬濡のガラス板よりなる基板1の表面上に、厚さ
100OAの窒化タンタル膜をスパッタリング法により
形成し、続いてこの成膜面にホトレジストを塗布し、基
板lの短辺(25層層)に平行になるように20木/1
IIlのストライプ状パターンを焼付は後、エツチング
処理により余分の窒化タンタル膜を選択的に除去して、
残りを抵抗発熱層11とした0次に、その上に厚さ20
00Aの1丁0膜をスパッタリング法により積層し、同
様の処理工程を経て、所定のパターニングを行ない、第
3図に示すストライプ状の電極層12を得た。この時、
さらに発熱部分(40ILsg X25ILII )を
得るために抵抗発熱層II上のITOを一部除去した。
。第3図において、厚さ0.7mm 、大きさ50m層
×25鵬濡のガラス板よりなる基板1の表面上に、厚さ
100OAの窒化タンタル膜をスパッタリング法により
形成し、続いてこの成膜面にホトレジストを塗布し、基
板lの短辺(25層層)に平行になるように20木/1
IIlのストライプ状パターンを焼付は後、エツチング
処理により余分の窒化タンタル膜を選択的に除去して、
残りを抵抗発熱層11とした0次に、その上に厚さ20
00Aの1丁0膜をスパッタリング法により積層し、同
様の処理工程を経て、所定のパターニングを行ない、第
3図に示すストライプ状の電極層12を得た。この時、
さらに発熱部分(40ILsg X25ILII )を
得るために抵抗発熱層II上のITOを一部除去した。
次に、その上に抵抗発熱層保護層10として厚さ2 I
Lra ノ5i02JIIをスパッタリング法により積
層した。ただし、抵抗発熱層11の両端部は、後でリー
ド線をつけるために、 5i02膜がつかないように遮
蔽して行った。この抵抗発熱層11を設けた基板1と、
厚さ0.31腸、大きさ50腸層X 10+w層のガラ
ス製透明保護板3とをマイラーフィルムをスペーサーと
して用いて10ILmの間隙で向い合わせて接着した。
Lra ノ5i02JIIをスパッタリング法により積
層した。ただし、抵抗発熱層11の両端部は、後でリー
ド線をつけるために、 5i02膜がつかないように遮
蔽して行った。この抵抗発熱層11を設けた基板1と、
厚さ0.31腸、大きさ50腸層X 10+w層のガラ
ス製透明保護板3とをマイラーフィルムをスペーサーと
して用いて10ILmの間隙で向い合わせて接着した。
実施例1
水60腸βにモナストラルーレッド(C,1,Pigm
entViolet 13; (:;、1.41350
0) 300mgをボールミルいて分散させた着色液に
、水浴上でトイソプロビルアクリルアミド4.8g,
N,N−メチレンビスアクリルアミド80■g%過硫酸
アンモニウム40騰gを溶解し、テトラメチルエチレン
ジアミン150■pを添加して減圧にて脱気した.この
溶液を室温で30分間放置した後、生成したゲルを最大
粒径1μ層程度になるまでエマレータにより破砕した.
このゲルを50℃の温水にて洗浄し,収縮させるととも
にゲル内に捕集されなかった色素を除去した.このゲル
を水80麿pに分散させスラリー状としたうえ,前述の
基板lと透明保護板3との隙間に充填封入し、光学素子
とした。
entViolet 13; (:;、1.41350
0) 300mgをボールミルいて分散させた着色液に
、水浴上でトイソプロビルアクリルアミド4.8g,
N,N−メチレンビスアクリルアミド80■g%過硫酸
アンモニウム40騰gを溶解し、テトラメチルエチレン
ジアミン150■pを添加して減圧にて脱気した.この
溶液を室温で30分間放置した後、生成したゲルを最大
粒径1μ層程度になるまでエマレータにより破砕した.
このゲルを50℃の温水にて洗浄し,収縮させるととも
にゲル内に捕集されなかった色素を除去した.このゲル
を水80麿pに分散させスラリー状としたうえ,前述の
基板lと透明保護板3との隙間に充填封入し、光学素子
とした。
このようにして得られた光学素子の,任意の組合せの抵
抗発熱層11に,周波数1 kHzの電気パルス信号(
パルス高20v、パルス長51sec)を情報信号に応
じて入力したところ、情報信号に対応する所定の位置が
応答し、像が形成された。
抗発熱層11に,周波数1 kHzの電気パルス信号(
パルス高20v、パルス長51sec)を情報信号に応
じて入力したところ、情報信号に対応する所定の位置が
応答し、像が形成された。
実施例2
フタロシアニングリーンO.+38g ヲエタノール2
5mlにボールミルを用いて分散させ、さらにイソブチ
ルアクリルアミド2g,エチレンジメタクリレート43
層g,アゾビスイソブチロニトリル6rsgヲ添加し、
窒素ガスを導入して溶存酸素をパージした。その後、8
0℃に加温し,ゲル化が起こるまで、30分おきに振動
させ、色素の沈澱を防いだ。
5mlにボールミルを用いて分散させ、さらにイソブチ
ルアクリルアミド2g,エチレンジメタクリレート43
層g,アゾビスイソブチロニトリル6rsgヲ添加し、
窒素ガスを導入して溶存酸素をパージした。その後、8
0℃に加温し,ゲル化が起こるまで、30分おきに振動
させ、色素の沈澱を防いだ。
さらに8時間後,生成したゲルを60℃に保ったまま平
均粒径IB■程度になるまでエマレータにて破砕した.
このゲルを放冷し、エタノールで洗かして捕集されなか
った色素を除去した後、エタノール30mil中に分散
させ懸濁液とした.この液を前記実施例1と同様に、基
板1と透明保護板3との隙間に充填封入し,光学素子と
した.この光学素子に、前記実施例1と同様にしてパル
ス信号を入力したところ、情報信号に対応する所定の位
置が応答し,像が形成された。
均粒径IB■程度になるまでエマレータにて破砕した.
このゲルを放冷し、エタノールで洗かして捕集されなか
った色素を除去した後、エタノール30mil中に分散
させ懸濁液とした.この液を前記実施例1と同様に、基
板1と透明保護板3との隙間に充填封入し,光学素子と
した.この光学素子に、前記実施例1と同様にしてパル
ス信号を入力したところ、情報信号に対応する所定の位
置が応答し,像が形成された。
上記実施例1及び実施例2から,情報信号に応じた書き
込みが可能であることが確認された。
込みが可能であることが確認された。
[発明の効果]
以上説明したように,本発明による光学素子は光散乱特
性に優れているため、コントラストの高い明瞭かつ高解
像の画像を得ることができ、視野角の制限もなくすこと
ができる.したがって、表示装置として長時間使用した
場合でも目の疲れを感じさせることがない.また、液層
がわずかな加熱で変調するので、表示装置の消費電力を
節減させることができる.さらに、色素を選ぶことで種
々の色調を得ることができる。
性に優れているため、コントラストの高い明瞭かつ高解
像の画像を得ることができ、視野角の制限もなくすこと
ができる.したがって、表示装置として長時間使用した
場合でも目の疲れを感じさせることがない.また、液層
がわずかな加熱で変調するので、表示装置の消費電力を
節減させることができる.さらに、色素を選ぶことで種
々の色調を得ることができる。
第1図及び第2図は本発明の基本概念を示す概略構成図
,第3図は本発明の一実施例を示す基板の斜視図である
。 l・・・基板、2・・・ゲル含有液層、3・・・透明保
護板,7,7a・・・抵抗発熱層、10・・・抵抗発熱
層保護層、11・・・抵抗発熱層、12・・・電極層。 第1図 基板の供?Ji面 第3図
,第3図は本発明の一実施例を示す基板の斜視図である
。 l・・・基板、2・・・ゲル含有液層、3・・・透明保
護板,7,7a・・・抵抗発熱層、10・・・抵抗発熱
層保護層、11・・・抵抗発熱層、12・・・電極層。 第1図 基板の供?Ji面 第3図
Claims (1)
- (1)温度変化によって膨潤又は収縮する脱吸液体性ポ
リマーと、該脱吸液体性ポリマーに吸収又は排出される
液体と、前記脱吸液体性ポリマーに固定された色素とか
らなるゲル含有液層を、少なくとも一方の基板の表面に
抵抗発熱層を形成した一対の基板間に挟持してなる光学
素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13908185A JPS62927A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | 光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13908185A JPS62927A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | 光学素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62927A true JPS62927A (ja) | 1987-01-06 |
Family
ID=15237037
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13908185A Pending JPS62927A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | 光学素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62927A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04107534A (ja) * | 1990-08-29 | 1992-04-09 | Japan Steel Works Ltd:The | 光学素子 |
US6295167B1 (en) | 1998-07-06 | 2001-09-25 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Optical material and optical device |
US7435479B2 (en) | 2003-11-19 | 2008-10-14 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Light-controlling element and method for manufacturing the same |
-
1985
- 1985-06-27 JP JP13908185A patent/JPS62927A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04107534A (ja) * | 1990-08-29 | 1992-04-09 | Japan Steel Works Ltd:The | 光学素子 |
US6295167B1 (en) | 1998-07-06 | 2001-09-25 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Optical material and optical device |
US7435479B2 (en) | 2003-11-19 | 2008-10-14 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Light-controlling element and method for manufacturing the same |
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