JPH07261163A - 含液晶／高分子マイクロカプセル、その製造方法及び液晶記録表示媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 スメクチック液晶粒子が高分子膜によって包
囲されたスメクチック液晶マイクロカプセル及びその製
造方法、更にはこれらの液晶マイクロカプセルを高分子
マトリックスと共に液晶／高分子複合膜とし、電界や熱
応答性を有し、カード等の如く情報の書き換え可能な表
示や記録を行うことが出来る液晶記録表示媒体を提供す
ること。 【構成】 スメクチック液晶が高分子膜によって包囲さ
れていることを特徴とする液晶マイクロカプセル、ラジ
カル反応性界面活性剤及び／又はラジカル反応性保護コ
ロイドによってスメクチック液晶を水性媒体中に分散さ
せ、ラジカル開始剤を用いたｉｎ ｓｉｔｕ重合によっ
て液晶をカプセルすることを特徴とする液晶マイクロカ
プセルの製造方法、及びこれらの液晶マイクロカプセル
と高分子マトリックスとからなる液晶／高分子複合膜を
導電性基板上に形成してなることを特徴とする液晶記録
表示媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、スメクチック液晶粒子
が高分子膜によって包囲されたスメクチック液晶マイク
ロカプセル及びその製造方法に関し、これらの液晶マイ
クロカプセルは高分子マトリックスと共に液晶／高分子
複合膜とすることによって、電界や熱応答性を有し、カ
ード等の如く情報の書き換え可能な表示や記録を行うこ
とが出来る液晶記録表示媒体に応用することが出来る。

【０００２】

【従来の技術】従来、少なくとも一方が透明である二枚
の電極基板の間に所定のシールが施されたセル中にスメ
クチック液晶を封入した書き換え可能な表示媒体が提案
されている。この表示媒体においては、最初に液晶が等
方性になるまで加熱しながら基板間に一定の電圧を印加
させて液晶を配向させ、電圧を印加したまま冷却する。
表示媒体の液晶はこの状態で透明である。次に表示媒体
の表示したい箇所のみを液晶が等方性になるまで加熱す
ると液晶の配向が乱れる。この配向が乱れた部分が光散
乱性となり、これにより透過又は反射による情報の表示
が可能となる。更に再度等方性になるまで加熱し、電圧
を印加しながら冷却すれば、配向の乱れた部分も再配列
して全体が透明となり表示された情報が消去される。

【０００３】しかしながら、上記表示媒体は、（１）２
枚の偏光板が必要な為、視野角が狭く、又、輝度が不足
している為に視認性が悪い、（２）セル厚依存性が大き
く、大面積化が困難である、（３）構造が複雑で、セル
への液晶の封入が困難である為、製造コストが高い等の
問題があり、表示媒体の軽量化、薄型化、大面積化、低
消費電力化、低コスト化等には限界がある。

【０００４】この様な問題点を解決する液晶表示媒体と
して、スメクチック液晶を高分子マトリックスに分散さ
せたスメクチック液晶／高分子複合膜の応用が期待さ
れ、その研究開発が活発化してきた。スメクチック液晶
／高分子複合膜を用いた液晶表示媒体及びその製造方法
が多数開示されているが、その１つとしてスメクチック
液晶をポリビニルアルコール（ＰＶＡ）水溶液中に分散
したエマルジョンから液晶表示媒体を作製する方法（特
開昭６３−１２４０２４号公報）が挙げられる。この方
法で作製された液晶表示媒体は、二色性染料を添加する
ことによってコントラスト比を向上させることが可能で
あり、又、加熱時の透過率が低い等の特徴を有してい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとしている問題点】上記のスメクチ
ック液晶のＰＶＡ分散水溶液から作製された液晶表示媒
体は、上述した様な特徴を有しているが、スメクチック
液晶の滲み出し、駆動電圧が高い、コントラストが低
い、表示媒体作製時のエマルジョンのコーティング適性
が低い等の問題点がある。

【０００６】特に高コントラスト化を目的として、スメ
クチック液晶が滲み出さない様にする為に、スメクチッ
ク液晶が高分子マトリックス中で独立相であることを特
徴とする技術が特開昭６２−４８７８９号公報に記載さ
れ、この文献には、「スメクチック相を有するカプセル
化液晶」が開示されているが、このスメクチック液晶が
完全な独立相として存在しているとは考えられない。

【０００７】その理由として、「”カプセル化液晶”又
は”カプセル化液晶物質”とは、例えば、個々のカプセ
ル又はエマルジョンを乾燥させてなる安定な固体媒体中
の個々の空隙中に液晶を封じ込め、又は高分子マトリッ
クスで包囲された特定量の液晶物質を意味している。し
かし、個々の空隙は、例えば、一つ以上の通路により互
いに連結しているかも知れない。液晶は、個々の空隙及
び連結通路の両方に存在するのが好ましい。この様に、
各々の空隙内の液晶は流動的に一つ以上の連結通路を経
由してつながっている。」旨記載されているからであ
る。

【０００８】P.S.Drzaic〈J.Appl.Phys.,60(5),2142(19
86)〉によれば、「液晶がカプセル化されていると云う
よりも、ポリマーマトリックス中に液晶がネットワーク
を形成していると表現した方が正確である。但し、物性
は液晶が不連続なカプセルとして考えたモデルで説明す
ることが出来る。」ことが示されている。

【０００９】又、従来の液晶表示媒体の作製方法では、
液晶粒子の大きさを制御することが出来ない為、粒子径
分布が大きくなる。小さい粒子が多数存在すると液晶を
配向させるときの駆動電圧が高くなってしまう。又、大
きい粒子が多数存在するとコントラストに大きな影響を
及ぼす液晶とポリマーマトリックスとの界面の面積が小
さく、コントラスト比が低下するという問題が生じる。

【００１０】又、上記の如き液晶表示媒体の作製方法で
使用されている高分子マトリックスは、ポリビニルアル
コール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リチオールのＵＶ硬化樹脂等、いずれも耐水性及び熱安
定性に劣っていたり、又、いずれの樹脂も分子運動性が
高く、デバイスとして用いる場合の信頼性及び安定性に
欠ける。又、表示媒体作製時の液晶エマルジョンのコー
ティング適性についても、液晶が完全にポリマーによっ
て包含されていない、即ち、完全なエマルジョンになっ
ていない為、粘度のコントロールが困難で、塗布基板で
ある透明電極に対する濡れ性が悪く、安定した液晶／高
分子複合膜を形成することは出来ない。

【００１１】従って、本発明の目的は、上記従来技術の
問題点を解決し、スメクチック液晶粒子が高分子膜によ
って包囲されたスメクチック液晶マイクロカプセル及び
その製造方法、更にはこれらの液晶マイクロカプセルを
高分子マトリックスと共に液晶／高分子複合膜とし、電
界や熱応答性を有し、カード等の如く情報の書き換え可
能な表示や記録を行うことが出来る液晶記録表示媒体を
提供することである。

【００１２】

【問題点を解決する為の手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、スメクチック液
晶が高分子膜によって包囲されていることを特徴とする
液晶マイクロカプセル、ラジカル反応性界面活性剤及び
／又はラジカル反応性保護コロイドによってスメクチッ
ク液晶を水性媒体中に分散させ、ラジカル開始剤を用い
たｉｎ ｓｉｔｕ重合によって液晶をカプセルすること
を特徴とする液晶マイクロカプセルの製造方法、及びこ
れらの液晶マイクロカプセルと高分子マトリックスとか
らなる液晶／高分子複合膜を、少なくとも一方が透明で
ある導電性基板間に挟持してなることを特徴とする液晶
記録表示媒体である。

【００１３】

【作用】本発明は、ラジカル反応性界面活性剤及び／又
はラジカル反応性保護コロイドを用いたｉｎ ｓｉｔｕ
重合法によってスメクチック液晶をマイクロカプセル化
することによって、液晶記録表示媒体とした時にスメク
チック液晶の滲み出し、液晶配向時の高駆動電圧等の従
来技術の問題を解決するだけでなく、表示のコントラス
ト及び表示媒体作製時のコーティング適性に優れ、更に
はデバイスとしての信頼性及び安定性を向上させた各種
のスメクチック液晶記録表示媒体を提供することが出来
る。

【００１４】

【好ましい実施態様】次に好ましい実施態様を挙げて本
発明を更に詳しく説明する。本発明の液晶マイクロカプ
セルは、液晶粒子が高分子膜によって包含され、芯物質
がスメクチック液晶であり且つ壁物質が高分子材料から
なることを特徴としている。

【００１５】本発明のマイクロカプセルの芯物質となる
液晶としては、従来公知のいずれのスメクチック液晶も
使用することが出来る。これらのスメクチック液晶はネ
マチック相を示す温度範囲が広いものが好ましく、本発
明においては、ネマチック相を示す温度範囲が１℃以上
のスメクチック液晶を使用することによって、表示を消
去する時の駆動電圧を充分に低下させることが出来る。
又、これらのスメクチック液晶には、コントラスト比の
向上や着色等を目的として、二色性染料を、例えば、ス
メクチック液晶１００重量部当たり１〜１０重量部の割
合で混入させることも出来る。

【００１６】マイクロカプセルの壁物質としては、透明
性に優れ且つ液晶と相溶性のない高分子材料であれば、
いずれも使用することが出来るが、好ましい壁物質とし
ては、例えば、（メタ）アクリル系高分子材料、ビニル
系高分子材料及びフッ素形高分子材料等のラジカル付加
重合体が挙げられる。これらの高分子材料はカプセル化
時に架橋剤を併用して架橋させることも出来る。

【００１７】上記構成のマイクロカプセル化液晶におい
て、壁材料として使用する高分子材料は、芯物質である
スメクチック液晶１００重量部当たり５〜２０重量部の
範囲で使用することが好ましい。壁材料の使用量が上記
範囲未満であると、壁の厚さがうすい為に液晶の滲み出
し等の問題を充分には解決することが出来ない。一方、
使用量が上記範囲を越えると壁の厚さが厚い為に壁に取
り込まれる二色性色素の量が増え、着色してしまう為電
圧印加時の反射濃度が十分低くならない等の点で好まし
くない。又、カプセル化した状態における壁の厚みは、
使用する液晶、高分子材料、カプセル化方法等によって
変化するが一般的には約１０〜１００ｎｍ程度である。

【００１８】上記構成のマイクロカプセル化液晶粒子
は、体積分布において１μｍ以下の粒子が全粒子の１０
％以下の割合であるのが好ましく、１μｍ以下の粒子が
１０％を越えると、カプセル内で液晶分子が配向しない
液晶粒子が増加する為、電圧印加時に反射濃度が下がら
ないので好ましくない。

【００１９】以上の如き本発明のマイクロカプセル化液
晶は、水性媒体中に、スメクチック液晶をラジカル反応
性界面活性剤及び／又はラジカル反応性保護コロイドで
乳化分散し、水性媒体中或はスメクチック液晶中にラジ
カル開始剤を溶解或は分散し、開始剤の分解温度まで昇
温して重合させることによって、液晶分散粒子の表面に
カプセル壁膜を作製することによって得られる。又、ス
メクチック液晶中に、ラジカル反応性モノマーを溶解さ
せることによって壁膜の厚さや材質をコントロールする
ことが出来る。

【００２０】本発明で用いられるラジカル反応性界面活
性剤としては、市販されているイオン性、ノニオン性の
反応性界面活性剤を用いることが出来る。例えば、ニュ
ーフロンティアＮ−１７７Ｅ、Ｎ−２５０Ｚ、Ｎ−２８
０Ａ、Ａ−２２９Ｅ、或は、Ｈ−３３５５Ｎ、Ｈ−３３
５５Ｓ（以上第一工業製薬製）、スチレンスルホン酸ソ
ーダ、２−スルホエチルメタクリレート、ジアリルジメ
チルアンモニウムクロライド、２−アクロイロキシエチ
ルトリメチルアンモニウムクロライド、２−メタクロイ
ロキシエチルトリメチルアンモニウムメトキシサルフェ
ート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールポリテトラメチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール
ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート等
が挙げられる。好ましくは２官能以上の界面活性剤を混
合することによってカプセル壁を架橋させて壁の強度を
向上させることが出来る。

【００２１】又、ラジカル反応性保護コロイドは、親水
性基と疎水性基とを有するポリマーの側鎖にラジカル反
応性基を導入したもの、例えば、（部分鹸化）ポリビニ
ルアルコールの水酸基にアクリロイル基を導入したもの
の如く、付加重合性二重結合を有するものであればどの
様なものでも使用することが出来る。

【００２２】本発明では、液晶の乳化に際し、上記のラ
ジカル反応性界面活性剤及び／又はラジカル反応性保護
コロイドに加えて、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒ
ドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロ
ース、ポリエチレングリコール、ポリスチレンスルホン
酸ソーダ、ポリ（２−スルホエチルメタクリレート）、
ポリ（２−アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモ
ニウムクロライド）等の水溶性保護コロイドを併用する
ことが出来る。

【００２３】液晶中に溶解させてもよいラジカル重合性
モノマーとしては、スチレン、酢酸ビニル、（メタ）ア
クリル酸エステル、ジビニルベンゼン等、液晶と相溶性
があるものを用いることが出来る。好ましくは２官能以
上のモノマーを混合することによって壁材料を架橋高分
子とすることが出来る。上記の夫々の材料は、スメクチ
ック液晶材料１００重量部当たりラジカル反応性界面活
性剤及び／又はラジカル反応性保護コロイドの総重量で
１０〜１００重量部の割合が好ましい。又、ラジカル重
合性モノマー等を用いる場合にはその使用した量だけ前
述したラジカル反応性界面活性剤及びラジカル反応性保
護コロイドの量を減じる必要がある。又、水溶性保護コ
ロイドは必要に応じた量で使用すればよい。

【００２４】重合開始剤としては、水溶性、油溶性等い
ずれも用いることが出来るが、過硫酸カリウム等の様な
水溶性のものが好ましい。重合温度を上げることが支障
になる場合はレッドクス系開始剤を用いればよい。重合
開始剤は反応性材料の総容量によって開始剤の濃度を変
える必要があるので一概には決められない。又、重合開
始剤を用いないで、γ線や電子線等の様な電離性放射線
を用いて重合を開始することも可能である。

【００２５】この様にして得られる含スメクチック液晶
／高分子マイクロカプセルは、重合媒体から取り出さず
にエマルジョンの状態のままで、該エマルジョンに適当
な高分子マトリックス材料を溶解又は分散させた後、適
当な基板に塗布して液晶／高分子複合膜を形成すること
も可能であるが、上記エマルジョンのコーティング適
性、得られる膜の強度等を考慮して、エマルジョン中に
水溶性又は水分散性高分子を添加してもよい。

【００２６】又、エマルジョンのコーティング適性や乾
燥性を高める為、エマルジョンの溶媒を置換することも
可能である。その為に、エマルジョン中のマイクロカプ
セルだけを液媒体から一般的な方法で一旦取り出し、取
り出したマイクロカプセルを適当な溶媒で再分散すれば
よい。この場合に、溶媒中に適当な高分子材料を加えて
塗工及び乾燥して製膜すれば、直ちに液晶／高分子複合
膜とすることが出来る。

【００２７】上記のマイクロカプセル化液晶及び高分子
マトリックス材料を含むエマルジョンを使用して液晶／
高分子複合膜及び液晶記録表示媒体を製造する方法とし
ては、該エマルジョンを、液晶記録表示媒体を構成すべ
き導電性基板の面に、例えば、電着塗装方法、スクリー
ン印刷、メタルマスクを用いたステンシル印刷、刷毛塗
り、スプレーコーティング、ブレードコーティング、ド
クターコーティング等の適当な手段により塗工し、これ
を乾燥することによって液晶／高分子複合膜を形成し、
必要により保護層を設けることによって本発明の液晶記
録表示媒体を形成することが出来る。又、前記の様にし
て導電性基板上に液晶／高分子複合膜を形成し、その複
合膜面にもう一方の導電性基板を貼合してもよい。

【００２８】上記液晶記録表示媒体において使用される
導電性基板は、従来公知の液晶表示素子に一般的に使用
されているものであって、本発明では、従来公知の導電
性基板はいずれも使用可能であり、具体的には、例え
ば、ＩＴＯ、ＳｎＯ₂ 系、ＺｎＯ系の様な透明導電性材
料をガラスや高分子フィルム等の様な透明基板に付着さ
せた一対の電極基板である。この時、他の一方に不透明
導電性基板を用いる場合には、その電極が反射板として
の機能も要求される為、例えば、アルミニウム反射電極
を設けた基板が好ましい。その基板自体はガラス、高分
子フィルム或いはその他のものであってもよい。又、透
明導電性基板の液晶／高分子複合膜とは反対の面にＡｌ
₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ等をガラス、高分子フィルムに
形成してなる反射板を貼合してもよい。

【００２９】又、一対の基板間に形成される液晶／高分
子複合膜の厚みは一般的に約３〜２３μｍ程度が好まし
い。膜厚が上記範囲未満であると表示のコントラストが
低くなる等の点で好ましくなく、一方、膜厚が上記範囲
を越えると駆動電圧が高くなる等の点で好ましくない。
又、液晶／高分子複合膜における液晶と高分子複合膜に
おける液晶と高分子材料の重量比は、９５／５〜５／９
５が一般的であるが、特に５５／４５〜３５／６５の範
囲が好ましい。液晶材料が上記範囲未満であると、加熱
時の反射濃度が低くなる等の点で好ましくなく、一方、
液晶材料が上記範囲を越えると電圧印加時の反射濃度が
高くなる等の点で好ましくない。本発明の液晶表示記録
媒体は、電圧印加時に液晶が配向して光が透過し、液晶
層が背景色となり、加熱によって液晶の配向が乱れて液
晶層が二色性色素の色になるもので、電圧印加若しくは
加熱のどちらか一方により書込み、他の一方により消去
するものである。電圧印加は上下の電極若しくは導電性
起板が一枚である場合にはコロナ帯電を用いて印加する
ものである。

【００３０】

【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に
具体的に説明する。尚、文中部又は％とあるのは特に断
りのない限り重量基準である。 実施例１ スメクチック液晶（Ｓ−６、メルク・リミテッド社製）
１００部に、二色性色素（Ｓ−４２８、三井東圧化学
製）２部を添加して温度７０℃で３０分間撹拌した。こ
の混合溶液にメチルメタクリレート１１．５６部及び
２，２’−アゾビスブチロニトリル２部を添加して室温
で４時間撹拌した。この混合溶液にＰＶＡ（ＫＰ−０
６、日本合成化学工業製、重合度６００、鹸化度７１．
０〜７５．０）５重量％水溶液２５２．４部を添加し、
超音波分散を行った。

【００３１】次いで、窒素雰囲気下、７０℃で６時間静
置重合した。その結果スメクチック液晶をマイクロカプ
セル化（平均粒径（直径）２．０μｍ）することが出来
た。粒子径分布の測定には、マイクロトラックＭＫ−Ｉ
Ｉ ＳＴＡ粒度分布計（ＬＥＥＤ＆ＮＯＲＴＨＲＵＰ社
製）を用いた。この分散液に増粘剤としてＰＶＡ（ＫＨ
−２０、日本合成化学工業製、重合度２，０００、鹸化
度７８．５〜８１．５）１０重量％水溶液７６０．５部
を添加して室温で４時間撹拌した。この分散液を用い
て、ＩＴＯ蒸着ガラス基板上にドクターブレードを用い
て塗布し、乾燥させてスメクチック液晶／高分子複合膜
（厚み１０．０μｍ）を形成した。複合膜面に別のＩＴ
Ｏ蒸着ＰＥＴフイルムを貼りあわせ、電圧印加時と電圧
無印加時の反射濃度を色濃度計（ＲＤ９１４−Ｓ、マク
ベス社製）を用いて測定した。尚、電圧印加条件は、電
圧５００Ｖの短形波、時間１ｓｅｃとした。測定の結果
反射濃度差は０．６０であった。

【００３２】実施例２ スメクチック液晶（ＳＣＥ−９、メルク・リミテッド社
製、ネマチック相を示す温度範囲９１．０〜１１５．０
℃）１００部に、二色性色素（Ｓ−４２８、三井東圧化
学製）３部を添加して温度７０℃で３０分間撹拌した。
この混合溶液にメチルメタクリレート１１．６部及び
２，２’−アゾビスブチロニトリル２部を添加して室温
で４時間撹拌した。この混合溶液にＰＶＡ（ＫＰ−０
６、日本合成化学工業製、重合度６００、鹸化度７１．
０〜７５．０）５重量％水溶液２５２．８部を添加し、
超音波分散を行った。

【００３３】次いで、窒素雰囲気下、７０℃で６時間静
置重合した。その結果スメクチック液晶をマイクロカプ
セル化（平均粒径（直径）２．０μｍ）することが出来
た。粒子径分布の測定は実施例１と同様に行なった。こ
の分散液に増粘剤としてＰＶＡ（ＫＨ−２０、日本合成
化学工業製、重合度２，０００、鹸化度７８．５〜８
１．５）をＳＣＥ−９／（ＫＰ−０６＋ＫＨ−２０）＝
５０／５０（重量比）となる様に添加して撹拌した。こ
の分散液を用いて、ＩＴＯ蒸着ガラス基板上にドクター
ブレードを用いて塗布し、乾燥させてスメクチック液晶
／高分子複合膜（厚み１０．０μｍ）を形成した。複合
膜面に別のＩＴＯ蒸着ＰＥＴフイルムを貼りあわせて液
晶記録表示媒体とした。２５℃及び電圧無印加状態にお
ける反射濃度を色濃度計（ＲＤ９１４−Ｓ、マクベス社
製）を用いて測定したところ０．９であった。次の温度
１００℃で電圧５０Ｖの短形波を印加しながら２５℃ま
で冷却したところ反射濃度は０．４となった。

【００３４】実施例３ スメクチック液晶（Ｓ−９、メルク・リミテッド社製）
１００部に、二色性色素（Ｓ−４２８、三井東圧化学
製）３部を添加して温度７０℃で３０分間撹拌した。こ
の混合溶液にメチルメタクリレート１１．６７部及び
２，２’−アゾビスブチロニトリル２部を添加して室温
で４時間撹拌した。この混合溶液にＰＶＡ（ＫＰ−０
６、日本合成化学工業製、重合度６００、鹸化度７１．
０〜７５．０）５重量％水溶液２５４．８部を添加し、
超音波分散を行った。

【００３５】次いで、窒素雰囲気下、７０℃で６時間静
置重合した。その結果スメクチック液晶をマイクロカプ
セル化（平均粒径（直径）２．０μｍ）することが出来
た。粒子径分布の測定は実施例１と同様に行なった。こ
の分散液に増粘剤としてＰＶＡ（ＫＨ−２０、日本合成
化学工業製、重合度２，０００、鹸化度７８．５〜８
１．５）をＳ−６／（ＫＰ−０６＋ＫＨ−２０）＝５０
／５０（重量比）となる様に添加して撹拌した。この分
散液を用いて、ＩＴＯ蒸着ガラス基板上にドクターブレ
ードを用いて塗布し、乾燥させてスメクチック液晶／高
分子複合膜（厚み１０．０μｍ）を形成した。複合膜面
に別のＩＴＯ蒸着ＰＥＴフイルムを貼りあわせて本発明
の液晶記録表示媒体とした。電圧印加時と電圧無印加時
の反射濃度を色濃度計（ＲＤ９１４−Ｓ、マクベス社
製）を用いて測定した。尚、電圧印加条件は、電圧５０
０Ｖの短形波、時間１ｓｅｃとした。測定の結果反射濃
度差は０．９であった。これを１００℃まで加熱して電
圧５０Ｖの短形波を印加しながら室温にして反射濃度を
測定したところ０．５であった。

【００３６】実施例４ スメクチック液晶（Ｓ−６、メルク・リミテッド社製）
１００部に、二色性色素（Ｓ−４２８、三井東圧化学
製）２部を添加して温度７０℃で８０分間撹拌した。こ
の混合溶液にスチレン５３．３３部、ジビニルベンゼン
１３．３３部及び反応性界面活性剤（ニューフロンティ
ア：Ａ２２９Ａ、第一工業製薬製）８．３３部を添加し
て室温で４時間撹拌した。この混合溶液にポリビニルア
ルコール（ＫＰ−０６、日本合成化学工業製、重合度６
００、鹸化度７１．０〜７５．０）５重量％水溶液１６
６．７部を添加し、超音波分散を行った。次いで、窒素
雰囲気下、５０℃に保ち、過硫酸カリウム０．０６６７
部及び亜硫酸水素ナトリウム０．０６６７部を加え６時
間静置重合した。その結果スメクチック液晶をマイクロ
カプセル化することが出来た。

【００３７】この分散液に増粘剤としてポリビニルアル
コール（ＫＨ−２０、日本合成化学工業製、重合度２，
０００、鹸化度７８．５〜８１．５）１０重量％水溶液
７６０．５部を添加して室温で４時間撹拌した。この分
散液を用いて、ＩＴＯ蒸着ガラス基板上にドクターブレ
ードを用いて塗布し、乾燥させてスメクチック液晶／高
分子複合膜（厚み１１．０μｍ）を形成した。複合膜面
に別のＩＴＯ蒸着ＰＥＴフイルムを貼りあわせて本発明
の液晶記録表示媒体とした。電圧印加時と電圧無印加時
の反射濃度を色濃度計（ＲＤ９１４−Ｓ、マクベス社
製）を用いて測定した。尚、電圧印加条件は、電圧５５
０Ｖの短形波、時間１ｓｅｃとした。測定の結果反射濃
度差は０．６５であった。

【００３８】実施例５ イソホロンジイソシアネート２００モルに適量のジラウ
リン酸ジ−ｎ−ブチルスズを加え、６０℃に保った状態
で、両末端に水酸基を有する水酸基変性シリコーン（Ｋ
Ｆ−６００１、信越化学製）１００モルを滴下した。次
いで２−ヒドロキシエチルアクリレート２１０モルを滴
下して、電離放射線硬化樹脂であるジメチルシロキサン
骨格のウレタンアクリレートを合成した。

【００３９】この様にして合成した樹脂３３．３３部
に、単官能シリコーンアクリレート（Ｘ−２２−５００
２、信越化学製）３３．３３部を混合し、反応性界面活
性剤（ニューフロンティア：Ａ２２９Ａ、第一工業製薬
製）１６．６７部を加えた。そこに二色性色素（Ｓ−４
２８、三井東圧化学製）２部が溶解しているスメクチッ
ク液晶（Ｓ−６、メルク・リミテッド社製）１００部を
添加して超音波分散を行った。次いで電子線５Ｍｒａｄ
を照射した。その結果スメクチック液晶をマイクロカプ
セル化することが出来た。この分散液に増粘剤としてポ
リビニルアルコール（ＫＨ−２０、日本合成化学工業
製、重合度２，０００、鹸化度７８．５〜８１．５）１
０重量％水溶液７６０．５部を添加して室温で４時間撹
拌した。

【００４０】この分散液を用いて、ＩＴＯ蒸着ガラス基
板上にドクターブレードを用いて塗布し、乾燥させてス
メクチック液晶／高分子複合膜（厚み１０．５μｍ）を
形成した。複合膜面に別のＩＴＯ蒸着ＰＥＴフイルムを
貼りあわせ、電圧印加時と電圧無印加時の反射濃度を色
濃度計（ＲＤ９１４−Ｓ、マクベス社製）を用いて測定
した。尚、電圧印加条件は、電圧５０５Ｖの短形波、時
間１ｓｅｃとした。測定の結果反射濃度差は０．５４で
あった。

【００４１】比較例１ スメクチック液晶（Ｓ−６、メルク・リミテッド社製）
１００部に、二色性色素（Ｓ−４２８、三井東圧化学
製）２部を添加して温度７０℃で３０分間撹拌した。こ
の混合溶液にポリビニルアルコール（ＫＰ−０６、日本
合成化学工業製、重合度６００、鹸化度７１．０〜７
５．０）５重量％水溶液２５２．４部を添加し、超音波
分散を行った。この分散液に増粘剤としてポリビニルア
ルコール（ＫＨ−２０、日本合成化学工業製、重合度
２，０００、鹸化度７８．５〜８１．５）１０重量％水
溶液８７３．８部を添加して室温で４時間撹拌した。

【００４２】この分散液を用いて、ＩＴＯ蒸着ガラス基
板上にドクターブレードを用いて塗布し、乾燥させてス
メクチック液晶／高分子複合膜（厚み１０．０μｍ）を
形成した。複合膜面に別のＩＴＯ蒸着ＰＥＴフイルムを
貼りあわせ、電圧印加時と電圧無印加時の反射濃度を色
濃度計（ＲＤ９１４−Ｓ、マクベス社製）を用いて測定
した。尚、電圧印加条件は、電圧５００Ｖの短形波、時
間１ｓｅｃとした。測定の結果反射濃度差は０．４５で
あった。

【００４３】応用例１ 実施例１のスメクチック液晶／高分子分散液をＩＴＯ蒸
着ポリエチレンテレフタレートフイルム上にドクターブ
レードを用いて塗布し、乾燥させてスメクチック液晶／
高分子複合膜（厚み１０．０μｍ）を形成した。次いで
この複合膜表面上に保護層（厚み５．０μｍ）を形成し
た。この様にして作製した積層シートを８５ｍｍ×５４
ｍｍのサイズのカードに打ち抜き成形して書き換え可能
なカードを得た。上記カードに１０ｋｖのコロナ放電を
付した後の反射濃度を測定した結果、０．４１であっ
た。このカードにサーマルヘッドで０．４ｍＪ／ｄｏｔ
の感熱記録を行った結果、記録印字部分の反射濃度は
０．８９であった。更にこの感熱記録されたカードを１
０ｋｖのコロナ帯電に付したところ、記録が消去され、
感熱記録を行う前の状態と同一状態のカードとなった。

【００４４】

【発明の効果】以上の如き本発明によれば、ラジカル反
応性界面活性剤及び／又はラジカル反応性保護コロイド
を用いたｉｎ ｓｉｔｕ重合法によってスメクチック液
晶をマイクロカプセル化することによって、液晶記録表
示媒体とした時にスメクチック液晶の滲み出し、表示の
消去時における高駆動電圧等の従来技術の問題を解決す
るだけでなく、表示のコントラスト及び表示媒体作製時
のコーティング適性に優れ、更にはデバイスとしての信
頼性及び安定性を向上させた各種のスメクチック液晶記
録表示媒体を提供することが出来る。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スメクチック液晶が高分子膜によって包
   囲されていることを特徴とする液晶マイクロカプセル。
2. 【請求項２】 壁物質が、（メタ）アクリル系高分子材
   料、ビニル系高分子材料及びフッ素形高分子材料等のラ
   ジカル付加重合体からなる請求項１に記載の液晶マイク
   ロカプセル。
3. 【請求項３】 壁物質が、架橋した高分子材料からなる
   請求項１又は２に記載の液晶マイクロカプセル。
4. 【請求項４】 二色性染料を含有する請求項１〜３項に
   記載の液晶マイクロカプセル。
5. 【請求項５】 体積分布において１μｍ以下の粒子の含
   有量が全粒子の１０％以下である請求項１〜４項に記載
   の液晶マイクロカプセル。
6. 【請求項６】 スメクチック液晶がネマチック相を示す
   温度領域が１℃以上である請求項１〜５項に記載の液晶
   マイクロカプセル。
7. 【請求項７】 ラジカル反応性界面活性剤及び／又はラ
   ジカル反応性保護コロイドによってスメクチック液晶を
   水性媒体中に分散させ、ラジカル開始剤を用いたｉｎ
   ｓｉｔｕ重合によって液晶粒子をカプセルすることを特
   徴とする液晶マイクロカプセルの製造方法。
8. 【請求項８】 スメクチック液晶が付加重合性モノマー
   を含有する請求項６に記載の液晶マイクロカプセルの製
   造方法。
9. 【請求項９】 モノマー、ラジカル反応性界面活性剤或
   はラジカル反応性保護コロイドが２個以上のラジカル反
   応性基を有する請求項７又は８に記載の液晶マイクロカ
   プセルの製造方法。
10. 【請求項１０】 ラジカル開始反応を電離性放射線によ
    って生じさせる請求項７〜９に記載の液晶マイクロカプ
    セルの製造方法。
11. 【請求項１１】 請求項１〜６項に記載の液晶マイクロ
    カプセル又は請求項７〜１０によって得られた液晶マイ
    クロカプセルと高分子マトリックスとからなる液晶／高
    分子複合膜を、導電性基板上に形成してなることを特徴
    とする液晶記録表示媒体。
12. 【請求項１２】 液晶／高分子複合膜の膜厚が３〜２３
    μｍである請求項１１に記載の液晶記録表示媒体。
13. 【請求項１３】 液晶／高分子複合膜の重量比が５５／
    ４５〜３５／６５である請求項１１〜１２に記載の液晶
    記録表示媒体。