JPS6292225A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6292225A JPS6292225A JP23370285A JP23370285A JPS6292225A JP S6292225 A JPS6292225 A JP S6292225A JP 23370285 A JP23370285 A JP 23370285A JP 23370285 A JP23370285 A JP 23370285A JP S6292225 A JPS6292225 A JP S6292225A
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- Japan
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- aliphatic alkyl
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- layer
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気テープ、磁気ディスクなどの磁気記録媒
体に適したもので、特に回転ヘッド型ビデオテープレコ
ーダーに最適の磁気記録媒体に関するものである。
体に適したもので、特に回転ヘッド型ビデオテープレコ
ーダーに最適の磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術
鉄、コバルl−、ニッケ〜または、それらを主成分とす
る合金を真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティ
ングなどの真空製構法により、ホリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムナトの高分子フィルムや非磁性金属
薄板などから成る堰板上に形成して成る強磁性金属薄膜
型磁気記録啄木は1従来の塗布型磁気記録媒体に比べて
記録密度を飛躍的に向上せしめることが可能であるが、
この高密度化のためには、磁気記録媒体の表面を極力平
担化して磁気ヘッドと磁気記録媒体間のスペーシングロ
スを極力減少せしめることが必要である。
る合金を真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティ
ングなどの真空製構法により、ホリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムナトの高分子フィルムや非磁性金属
薄板などから成る堰板上に形成して成る強磁性金属薄膜
型磁気記録啄木は1従来の塗布型磁気記録媒体に比べて
記録密度を飛躍的に向上せしめることが可能であるが、
この高密度化のためには、磁気記録媒体の表面を極力平
担化して磁気ヘッドと磁気記録媒体間のスペーシングロ
スを極力減少せしめることが必要である。
しかし、表面を平担化しすぎるとヘッドタッチ。
走行性に支障をきだすだめ表面を微細に粗面化するとと
もに、各即有機滑剤を含む表面波膜を設けることにより
、これを解決する必要がある。
もに、各即有機滑剤を含む表面波膜を設けることにより
、これを解決する必要がある。
従来、そのような有機滑剤として、各種の脂肪酸、脂肪
酸エステル、脂肪酸アミド、シリコンオイル、フッ素オ
イル等が単独あるいは種々複合化された形で使用されて
きた。
酸エステル、脂肪酸アミド、シリコンオイル、フッ素オ
イル等が単独あるいは種々複合化された形で使用されて
きた。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記の各種有機滑剤を使用した媒体は、ス
チル再生寿命において、常温〜高温(10°C〜30′
C)では、通常30分以上のヅr命を何するが、気温が
5°C以下になると寿命が30分以下、ときには数分以
下に低下することが本発明者らの検討の結果明らかにな
った。
チル再生寿命において、常温〜高温(10°C〜30′
C)では、通常30分以上のヅr命を何するが、気温が
5°C以下になると寿命が30分以下、ときには数分以
下に低下することが本発明者らの検討の結果明らかにな
った。
問題点を解決するだめの手段
本発明は、分子末端に炭素数3以上のフロロアルキル基
/基と炭素数8以上の脂肪族アルキル基とアミノ基とを
それぞれ1個以上有する有機化合物を含む4嘆を、酸素
を含む強磁性金属薄膜上に形成せしめたものであり、上
記有機化合物薄層と強磁性層表面の酸化層とでもって前
記問題点を解決したものである。
/基と炭素数8以上の脂肪族アルキル基とアミノ基とを
それぞれ1個以上有する有機化合物を含む4嘆を、酸素
を含む強磁性金属薄膜上に形成せしめたものであり、上
記有機化合物薄層と強磁性層表面の酸化層とでもって前
記問題点を解決したものである。
作用
本発明は01J記のように構成することによって、フロ
ロアルキル基と脂肪族アルキル基のもつ安定した滑性作
用とアミノ基の強磁性金属薄膜表面の酸化層への強い反
応力との相乗効果により、低温Fにおけるスチル再生寿
命を向上せしめることができるものである。
ロアルキル基と脂肪族アルキル基のもつ安定した滑性作
用とアミノ基の強磁性金属薄膜表面の酸化層への強い反
応力との相乗効果により、低温Fにおけるスチル再生寿
命を向上せしめることができるものである。
実施例
図は本発明の実施例に係る磁気記録謀体の基本1黄成を
示す拡大断面図である。図において、1は基板、2は強
磁性金属薄膜、3は表面被膜層である。表面被膜層3は
、分子末端に炭素数3以上のフロロアルキル基と炭素数
8以上の脂肪族アルキ/V基とアミノ基とをそれぞれ1
個以上有する有機化合物を含む薄層で構成される。
示す拡大断面図である。図において、1は基板、2は強
磁性金属薄膜、3は表面被膜層である。表面被膜層3は
、分子末端に炭素数3以上のフロロアルキル基と炭素数
8以上の脂肪族アルキ/V基とアミノ基とをそれぞれ1
個以上有する有機化合物を含む薄層で構成される。
本発明に使用する上記のフロロアルキル基(Rrと記す
)、脂肪族アルキル基(Rと記す)並びにアミノ基を有
する有機化合物としては、たとえば多価アルコールエス
テル誘導体 R−OH((H2)aCONH2 Rf 不飽和脂肪酸誘導体 ■ CH3 アルキルアミン誘導体 RN−COCIhGH2Rf RfSO□NRCH
2CONH2CH2C0NH,2 アルキルコハク酸誘導体 R−CH−(H2−COORf 丁 0NH2 等がある。
)、脂肪族アルキル基(Rと記す)並びにアミノ基を有
する有機化合物としては、たとえば多価アルコールエス
テル誘導体 R−OH((H2)aCONH2 Rf 不飽和脂肪酸誘導体 ■ CH3 アルキルアミン誘導体 RN−COCIhGH2Rf RfSO□NRCH
2CONH2CH2C0NH,2 アルキルコハク酸誘導体 R−CH−(H2−COORf 丁 0NH2 等がある。
以北の有機化合物は、まず、カルボギシル含有>iて塩
化チオニルを付加しカルボン酸クロライドを合成し、さ
らに、そのカルボン酸クロライドにアンモニアを付加す
ることにより合成が可能である5、その合成付加反応の
例を次に示す。
化チオニルを付加しカルボン酸クロライドを合成し、さ
らに、そのカルボン酸クロライドにアンモニアを付加す
ることにより合成が可能である5、その合成付加反応の
例を次に示す。
CHOCORCHOCOR
CH2COOHCH2COOH。
アンモニア 0H20CORf
↓ I
CHOCOR
0H2COHH2
その他に、本発明に使用する前記有機化合物として、多
価アミン誘導体 がある。
価アミン誘導体 がある。
フロロアルキル基としては、炭素数3以上、さらに好ま
しくは6以上の直鎖または分枝パーフロロアルギル基、
または炭素数3以上、さらに好ましくは5以上の末端炭
素に水素原子を1個以上有する直鎖フロロアルキル基(
たとえば、HCF20TI20120F20F2− )
が適しており、炭素数が2以下の場合にはスチル寿
命が短かくなる。
しくは6以上の直鎖または分枝パーフロロアルギル基、
または炭素数3以上、さらに好ましくは5以上の末端炭
素に水素原子を1個以上有する直鎖フロロアルキル基(
たとえば、HCF20TI20120F20F2− )
が適しており、炭素数が2以下の場合にはスチル寿
命が短かくなる。
脂肪族アルギル基としては、炭素数8以上、さらに好ま
しくは10以上の直鎖または分校アルギル基が適してお
り、炭素数7以下の場合にはスチル寿命が低下する。
しくは10以上の直鎖または分校アルギル基が適してお
り、炭素数7以下の場合にはスチル寿命が低下する。
本発明に用いるmJ記有機化合物としては、同一分子内
に上記フロロアルキル基と脂肪族アルギル基とアミツブ
人とを少なくとも各1個以上末端基として有しているこ
とが必ヴであり、いずれか1種類または2種類の末端基
を有する有機化合物を混合して、混合状態において上記
3種の末端基を取り揃えたとしても本発明と同様の効果
を得ることは困難である。上記の各基は同一分子中に複
数個存在させることが可能であり、また上記以外の末端
基(たとえば、0H5−、02H5−等の炭素数が7以
下の炭化水素基、HCF2−、 C2F5−等の炭素数
が2以下の、フロロアルキル基、等)を存在せしめるこ
とも可能である。
に上記フロロアルキル基と脂肪族アルギル基とアミツブ
人とを少なくとも各1個以上末端基として有しているこ
とが必ヴであり、いずれか1種類または2種類の末端基
を有する有機化合物を混合して、混合状態において上記
3種の末端基を取り揃えたとしても本発明と同様の効果
を得ることは困難である。上記の各基は同一分子中に複
数個存在させることが可能であり、また上記以外の末端
基(たとえば、0H5−、02H5−等の炭素数が7以
下の炭化水素基、HCF2−、 C2F5−等の炭素数
が2以下の、フロロアルキル基、等)を存在せしめるこ
とも可能である。
本発明に使用する前記有機化合物の分子量としては、3
000以下、さらに好ましくは2ooO以下が適当であ
る。分子量が3000以上であると、スチル時の出力が
不安定となる。
000以下、さらに好ましくは2ooO以下が適当であ
る。分子量が3000以上であると、スチル時の出力が
不安定となる。
前記有機化合物中における各末端基の比率としては、分
子量比率で、炭素数3以上のフロロアルキル基が10〜
80%、炭素数8以上の脂肪族アルキル基が10〜80
%、アミノ基が3〜20%が適当である。この範囲以外
では、低温のスチル寿命改善効果が得られ難い。
子量比率で、炭素数3以上のフロロアルキル基が10〜
80%、炭素数8以上の脂肪族アルキル基が10〜80
%、アミノ基が3〜20%が適当である。この範囲以外
では、低温のスチル寿命改善効果が得られ難い。
弾磁性金属l;、[i膜上には、前記有機化合物を表面
1n/当り0.1−1−6oo、さらに好ましくは、0
.5〜2oOmgの割合でそれ単独、あるいは他の滑剤
、防錆剤、樹脂等との複合体として薄層状に存在せしめ
るのが良い。また、それを存在せしめる方法としては、
強磁性金属薄膜表面に直接塗布、あるいは蒸着する方法
以外に、磁気記録媒体の積層(捲回)時に強磁性金属薄
膜表面へ転写せしめる方法も可能である。
1n/当り0.1−1−6oo、さらに好ましくは、0
.5〜2oOmgの割合でそれ単独、あるいは他の滑剤
、防錆剤、樹脂等との複合体として薄層状に存在せしめ
るのが良い。また、それを存在せしめる方法としては、
強磁性金属薄膜表面に直接塗布、あるいは蒸着する方法
以外に、磁気記録媒体の積層(捲回)時に強磁性金属薄
膜表面へ転写せしめる方法も可能である。
強磁性金属薄膜としては、例えば斜め蒸着あるいは垂直
蒸着法にて形成されるコバルト、ニッケル、鉄等を主体
とする金属薄膜、それらの合金を主体とする金属薄膜(
゛例えば、(:5oNi、 CoCr等)であって、
成膜時の雰囲気を酸素ガスが支配的とした時に得られる
酸素を含むものが適当である。
蒸着法にて形成されるコバルト、ニッケル、鉄等を主体
とする金属薄膜、それらの合金を主体とする金属薄膜(
゛例えば、(:5oNi、 CoCr等)であって、
成膜時の雰囲気を酸素ガスが支配的とした時に得られる
酸素を含むものが適当である。
酸素の含有量としては、強磁性金属に対する原子数比で
、少なくとも3%以上、好ましくは5%以上が適当であ
る。3%以下であると、低湿でのメチル寿命改善効果が
得られ難い。
、少なくとも3%以上、好ましくは5%以上が適当であ
る。3%以下であると、低湿でのメチル寿命改善効果が
得られ難い。
強磁性金属薄膜を形成すべき基板としては、巨視的には
表面平滑度良好であり、かつ、微細な突起を有するもの
が適当で、例えば、表面に高さ50〜600人で、1−
当り平均lX10’〜108個の波状あるいは山状実記
を有するポリエステルフィルムは、特に好ましいもので
ある。
表面平滑度良好であり、かつ、微細な突起を有するもの
が適当で、例えば、表面に高さ50〜600人で、1−
当り平均lX10’〜108個の波状あるいは山状実記
を有するポリエステルフィルムは、特に好ましいもので
ある。
また、重合触媒残香に起因する微粒子をほとんど含まな
いポリエステルフィルムの表面に、延伸製膜途上で増粘
剤を含む変性シリコーンエマルジョン液を塗布硬化させ
ることにより得られた波状突起(高さ100人、密度1
×106個)を形成せしめたものの上に、連続真空斜め
蒸着法によりCoNi強磁性金属薄膜(Ni=20%、
膜厚1000人)を微量の酸素の存在下で形成せしめた
。
いポリエステルフィルムの表面に、延伸製膜途上で増粘
剤を含む変性シリコーンエマルジョン液を塗布硬化させ
ることにより得られた波状突起(高さ100人、密度1
×106個)を形成せしめたものの上に、連続真空斜め
蒸着法によりCoNi強磁性金属薄膜(Ni=20%、
膜厚1000人)を微量の酸素の存在下で形成せしめた
。
被膜中の酸素含量は原子数比で6であった。この試料を
人とする。
人とする。
ポリエステルフィルム内に添加されたシリカ微粒子によ
る勾配のゆるやかな粒状突起(平均高さ70人、平均直
径1μm)が表面100μm2当り数個存在し、しかも
重合触媒残香に起因する微粒子による比較的大きな突起
を極力低減せしめだポリエステルフィルムの表面に、直
径150へのシリカコロイド粒子を核とし、紫外線硬化
エポキシ樹脂を結合剤とする急峻な山状突起をlX10
7個形成せしめて、基板上に上記と同様の条件でQoN
i膜(Ni=20%、膜厚1000人、酸素含量7%)
を形成せしめたものを試料Bとする。
る勾配のゆるやかな粒状突起(平均高さ70人、平均直
径1μm)が表面100μm2当り数個存在し、しかも
重合触媒残香に起因する微粒子による比較的大きな突起
を極力低減せしめだポリエステルフィルムの表面に、直
径150へのシリカコロイド粒子を核とし、紫外線硬化
エポキシ樹脂を結合剤とする急峻な山状突起をlX10
7個形成せしめて、基板上に上記と同様の条件でQoN
i膜(Ni=20%、膜厚1000人、酸素含量7%)
を形成せしめたものを試料Bとする。
また、比較例としてBにおいて蒸着時て酸素の導入を行
なわなかったもの(Bにおいて酸素含量のみ2%以下と
したもの)をCとする。これらの蒸着膜上にあらかじめ
合成試作した各種の有機化合物溶液を塗布し薄層を形成
させた後、所定幅に切断して磁気テープを作り、これら
を−5°C中で試作ビデオデツキに掛けてスチル再生特
性を測定した。スチル再生寿命は、出力が初期値から1
0dB低下するまでの時間としだ。それらの結果を次表
にまとめて記す。なお、比1咬例として、フロロアルキ
ル基のないもの・・・・・・(14)、脂肪族アルキル
基のないもの・・・・・・(13)、アミノ基のないも
の・・・・・・(15)、磁性膜の酸素含量の低いもの
・・・・・・(7)等を加えている。
なわなかったもの(Bにおいて酸素含量のみ2%以下と
したもの)をCとする。これらの蒸着膜上にあらかじめ
合成試作した各種の有機化合物溶液を塗布し薄層を形成
させた後、所定幅に切断して磁気テープを作り、これら
を−5°C中で試作ビデオデツキに掛けてスチル再生特
性を測定した。スチル再生寿命は、出力が初期値から1
0dB低下するまでの時間としだ。それらの結果を次表
にまとめて記す。なお、比1咬例として、フロロアルキ
ル基のないもの・・・・・・(14)、脂肪族アルキル
基のないもの・・・・・・(13)、アミノ基のないも
の・・・・・・(15)、磁性膜の酸素含量の低いもの
・・・・・・(7)等を加えている。
発明の効果
以上の結果から明らかなように、本発明の磁気記録媒体
は、低温におけるスチル再生寿命が長く安定しているた
め価前の非常に高いものである。
は、低温におけるスチル再生寿命が長く安定しているた
め価前の非常に高いものである。
図は本発明の磁気記録媒体の1実施例の拡大断面図であ
る。 1・・・・・・基板、2・・・・・・強磁性金属4嘆、
3・・・・・表面被覆層(有機化合物薄膜)。
る。 1・・・・・・基板、2・・・・・・強磁性金属4嘆、
3・・・・・表面被覆層(有機化合物薄膜)。
Claims (1)
- 分子末端の炭素数3以上のフロロアルキル基と炭素数8
以上の脂肪族アルキル基とアミノ基とを、それぞれ1個
以上有する有機化合物を含む薄層を、酸素を含む強磁性
金属薄膜上に形成せしめたことを特徴とする磁気記録媒
体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23370285A JPS6292225A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23370285A JPS6292225A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6292225A true JPS6292225A (ja) | 1987-04-27 |
Family
ID=16959206
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23370285A Pending JPS6292225A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6292225A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01278059A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-08 | Nec Corp | 半導体集積回路装置 |
US5188747A (en) * | 1990-09-04 | 1993-02-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorine-containing lubricant compounds |
US5252400A (en) * | 1990-11-13 | 1993-10-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorine-containing compounds |
US5266724A (en) * | 1990-09-04 | 1993-11-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorine-containing compounds |
-
1985
- 1985-10-18 JP JP23370285A patent/JPS6292225A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01278059A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-08 | Nec Corp | 半導体集積回路装置 |
US5188747A (en) * | 1990-09-04 | 1993-02-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorine-containing lubricant compounds |
US5266724A (en) * | 1990-09-04 | 1993-11-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorine-containing compounds |
US5252400A (en) * | 1990-11-13 | 1993-10-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorine-containing compounds |
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