JPS6286367A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は電子写真に関り、円筒状、複数のローラに張架
された可撓性エンドレスシート状或はシームレスシート
状の感光体基体に感光体塗料物（てＯＰＣ塗料を塗設す
る方法に関する。

（発明の背景） 電子写真の感光体は、インパクト法等の各種の成形法で
作られた円筒状ドラム或は可撓性エンドレスシートもし
くはシームレスシート状の感光体基体に光導電層或は電
荷発生層、電荷伝達層更に保護層等、電子写真プロセス
のタイプに応じた各種の層が塗設されて作成される。そ
れらの各層ばいづれも薄く且つ均一厚みで組成的或は物
性的にも均質であることが要求される。

前記各層塗膜を形成する方法としては、浸漬塗布法、ス
プレーガンによるスプレー塗布法或は超音波によるＵ　
Ｓスプレー塗布法等が知られている。

前記浸漬法は一般に円筒状ドラム基体如適用され、感光
体塗料中に、該基体が縦方向に浸漬され、付着膜厚、均
一膜厚がえられるよう、ゆっくり縦方向に引上げられる
。しかしこの方法では引上先頭部が薄膜となり易く且っ
膜厚の自由な設定が困難でありスプレー法が着目される
。

しかしスプレー法に於てもスプレーガンを用いるスプレ
ー法は回転もＬ　＜は周回する基体への感光体塗料のス
プレー計当りの付着率が悪く塗布効率が低い。捷だ急速
に乾燥し浮遊している微細な連用粒子がスプレー気流に
巻込捷れ基体表面に付着し顆粒面を形成して層の均一性
を損い、件だ１１Ｓスプレー法に於ては超音波入力に対
するスジ１／−量が少〈生産性が問い。

更に感光体の組成により或は、電荷発生体及び電荷輸送
体を混合して一層として塗布する詩碑ウェット膜厚の厚
い時には液垂れによるむら及び／ｌルの発生があり、塗
料濃度を上げて薄膜塗布し該不都合を回避する手法が行
われるが限度があって充分に対処することができない。

（発明の目的） 本発明の目的は電子写真感光体のスプレー塗布法による
感光体ドラムもしくに感光体ベルトの製造に於て感光体
塗料の塗布効率がよ〈厚膜塗布が可能で寸だ生産性の高
い均一な膜厚を有する電子写真感光体の製造方法を提供
することにある。

（発明の構成） 前記本発明の目的は、感光体基体表面の少くとも１部が
円筒曲面をなして連続周回し、該周回方向が垂直面に含
捷れるように保持された感光体基体に対して、該周回表
面に沿ってスキャンし感光体塗料を感光体基体表面にス
プレーする電子写真感光体の製造方法に於て、少くとも
１本のスプレーガンを用いてスプレースキャンによる重
層スプレー塗布を行う間に、１スギヤン終了毎に間欠的
に乾燥期間を介入させることを特徴とする電子写真感光
体の製造方法によって達成される。

次に本発明を図を用いて説明する。

第１図は連続周回する感光体基体の例を示した。

同図（ａｌは複数のローラに張架σれた可撓性感光体基
体を示し同図（１））は円筒状感光体基体を示す。

第１図に於て１０は基体、Ｄは周回長もしくは円周長り
の基体幅、Ｓはスプレーガン、Ｓはスプレ一方向と基体
表面との交点であるスプレー中心、該スプレー中心は基
体１０の表面を基体の幅方向にベクトルＶで主走査を行
い、周回方向にベクトルｌ（周回速度）で副走査を行う
走査線上にある。

次に第２図にスプレーを受ける基体表面の展開図と走査
線の関係を示した。図に於て２０は展開された面積ｒ、
　ｘ　ｎの基体表面、ａはスプレー中心を含むスプレー
領域を示１〜、スプレー領域ａの範囲、形状はスプレー
ガンの形式、基体表面とスプレー噴出口との距離等によ
って選ぶことができる。

第２図（ａｌは基体表面２０の０点からはじするスプレ
ースキャンに於＜ｌ＞Ｖの時の走査線（スフレ−中心Ｓ
）の軌跡を示し、第′２図（＋）ｌ　ｉｔ一般的場合の
走査線の軌跡を示す。一般的には走査は飛越走査の形態
と々す、実線は往路走査、破線は帰路走査である。

またＷは最終的な走査線間隔即ちスプレー間隔（以後線
密度と称す）であって、前記スプレー領域ａと線密度と
を調和させａの重畳程度を制御することによって塗布の
均一性が加えられる。

更にｌ＞ｖの時には帰路走査を用いることなく一回の往
路走査だけで基体を感光体塗料で塗−にげることのでき
るｌ／Ｖの範囲がある。但しｌがあまり太きいと、塗ら
れた塗料が遠心力で振飛ばされたり或はスプレー粒子が
相対的に剛性となり剛性粒子として弾き飛ばされる事態
を生じ、塗布品位、塗布効率が下り、剰えコスト高の塗
布装置を必要とするので、ｌとしては例えば１０ｃｒｎ
程度の径の円筒状基体の場合６０Ｏｒｐｍ以下がのぞま
しい、またＶについても実用的見地から定められる。

捷だ主走査速度Ｖと幅りなる基体に対する主走査幅Ｄ／
（但しＤ　＝　Ｄ’として説明を進める）、及び副走査
速度ｌと基体の周回長りとの間に、整数に１及びに２を
定めて Ｔ、／Ｔ）　　Ｘ　　（ｋ、／に２）−／／ｖを作ると
、ｋ、／に２の値如何によっては、スプレースキャンを
続行ｊ−でいるうちに走査線が重畳する事態が起り、ス
プレー領域ａと線密度Ｗの制御によっても均一塗布が困
難に々る。即ちＪ　／　ｋ２が整数値となる時には２　
Ｘ　ｋｌ／に２回周回後に、またに１／　ｋ２　が整数
でない時にば１）ｋ２が偶数の時に１回、１１）ｋ、が
奇数の時２に１回後に最初のスプレースキャン始点にも
どる。従ってｌ及びｖｆ）選んで前記事態を避けること
が好しい。

同本発明に於ては前記好しい条件を満足するならは往路
主走査速度と帰路主走査速度が異っていても差支えない
。

更にスプレーガンＶ［複数本用いて所定基体表面のスプ
レー被覆面積を上げ塗り上げ所要時間全短縮することが
できる。

この際スプレーガンの配置は、１つの着目したスプレー
ガンに対しその他のスプレーガンｉｔ該着目したスプレ
ーガンの描く走査線の線密度間隔の間にその他のスプレ
ーガンの走査線が入るよう位置決めすることが好しい。

前記のように整えられたスプレースキャンは、線密度Ｗ
の走査線群を形成しながら周回する基体表面に縞状をな
［７′で拡がってゆく。

第２図によって説明すると０点から出発した往路走査線
ｇｌｌから順次往路走査線ｇ＋２、ｇｌＢ、・・・・、
ｇｌｋｘ　　・・・・と進行しｇ、ｎに到り、遂にｇ、
ｎト、　Ｋ相当する走査線が最初のｇｌｌ　を越えるに
到り、ｇ、ｎ＋。

けｇ、ｎ　　として二重目のスプレースキャンに入る。

即ち往路走査線群ｇｌｌ〜ｇ、＋１が終了したことに」
：ってスプレースキャンによる１重の均一な膜層のスプ
レー塗布が終了する。

伺スプレースキャンに於て往路或は帰路スキャンのみで
スプレー塗布を行ってもよいし、往路、帰路共に用いて
もよい。

本発明に於ては所定の厚みを与えるまで前記スプレース
キャンを繰返し重層スプレー塗布を行いながら、その間
各層スプレー塗布中或は各層スプレー塗布終了時に乾燥
期間を介入させ、固形膜を順次形成し々から感光体層を
作成するものである。

乾燥期間を介入させた重層スキャン塗布を行うことによ
り、スプレースキャンに最も適した物性の塗料を用いて
任意の膜厚の感光体を安定して作成することができしか
も成型れによる塗布むら、膜面での泡の発生を防ぐこと
ができる。

尚前記上、副走査速度Ｖ、７．線密度Ｗ及びスプレー領
域ａは基体幅Ｄ、周回長Ｉ・、スプレーガン或は塗料物
性等を勘案して実験的に定められるが例えば周回してい
る感光体基体にスプレースキャンする場合、スプレ一方
向から約１５°の角を張ったスプレー錐の頂点を該基体
表面から１００〜３００ｍｍ５好しぐば５０　％　１５
０　ｍｍけなして前記したスプレー領域ａの範囲を選び
、主走査速度Ｖを１〜２００７７＋７７１／　Ｓｅｃ　
（７）間匠とって、線密度ｗ　ｋ　０．１〜２（ｌ　ｍ
ｍ、好しくけ１〜１５ｍｍとすれば本発明の好［−いり
様を与える。

また本発明に於て介入させる乾燥期間の頻度、時期はウ
ェット塗膜の物性、走査速度、スプレー肝、乾燥風温度
、風解等によって定められ、介入乾燥時間は介入時期に
よって任意に定められるが０．５〜１８０秒好しくけ２
〜１００秒である。

本発明は電子写真に於る機能分離型の感光体の製造に好
しく適用され、該感光体は、キャリア発生物質とキャリ
ア輸送物質を共に含有する１つの感光体塗料をスプレー
塗布する方法、キャリア発生層とキャリア輸送層とを別
々の塗料を用いて夫々塗布形成する方法、キャリア発生
層は蒸着で形成する方法等で製造することができる。

キャリア発生層は可能を含む場合と含まない場合とが考
えられるが、いずれも感度の向上等が望まれている。

前記ギヤリア発生層２の厚さＩｉｏ、０５〜１０μｍが
よく、０．１〜５　ｐｍが更によい。０．０５　）ｔｍ
未満及び１０μｍ、　ｆ越える場合では充分な光感度が
得られない。

以下本発明の感光体について具体的説明する。

まず本発明に使用可能なギヤリア発生物質としでは可視
光を吸収してフリーキャリアを発生する有機顔料、が用
いられる。かがる有機顔料としては （１）　モノアゾ系顔料、ポリアゾ系顔料、金属錯塩ア
ゾ系顔料、スチルベンアソ系顔料、チアゾールアゾ系顔
料、 （２）　ペリレン系顔料、 （３）　アントラキノン系又は多環キノン系顔料、（４
）　インジゴイド系顔料、 （５）　フタロシアニン系顔料、 （６）　カルボニウム系顔料、 （７）　キノンイミン系顔料、 （８）　メチン系顔料、 （９）　キノリン系顔料、 （１０）　　二１・口系顔判、 （１１）　　ニトロソ系顔料、 （１２）ペンツキノン及びナフトギノン系顔料、（１３
）　　ナフタルイミド系顔料、 （１４）　　ビスベンズイミダソール誘導体、等のペリ
ノン系顔料等が挙げられる。

前記した顔料の分散媒としては、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、アセトン、メチルエチルク！・ン、シクロヘ
ギサノン、ベンゼン、トルエン、ギシレン、クロロホル
ム、１．２−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、
イソプロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチル
ホルポギシド等が挙げられる。

キャリア発生物質としての前記顔料ｄ−前記分散媒に単
独で又は適邑なバインダ泣１脂と共に分散されて塗料が
調製される。

本発明に係る前記キ４・リア輸送物質表しては、光照射
した時に前記キャリア発生層でギヤリアを発生するのに
充分な光を透過し、負の帯電を行なった時にＶ［所望の
帯電電位を保つことができる物質を使用することが必要
とされる。かかるキャリア輸送物質としては、例えばス
チリル化合物、ヒドラゾン化合物、オキサゾール誘導体
、オキザジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジ
アゾ・−ル誘導体、ｌ−リアゾール誘導体、イミダゾー
ル誘導体、イミダシロン誘導体、イミダゾリジン誘導体
、ビスイミダゾリジン誘導体、ピラゾリン誘導体、オキ
サゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミ
ダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導
体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチ
ルベン誘導体、ポＩＪ　−Ｎ　−ヒニル力ルハソール、
ポリ−１−ビニルビＩノン、ポリ−９−ビニルアントラ
セン、２．４゜７−ドリニトロフルオレノン、２．４．
５□７＝テトラニトロフルオレノン、２．７−シニトロ
フルオレノン等が挙げられる。

これらのキャリア輸送物質は、必要に応じて前記キャリ
ア発生層中に添加するととができる。

捷た、キャリア輸送層中にはキャリア輸送物質の他、バ
インダー附脂を含有してもＪ：い。

本発明に係るバインダー明脂としては、例えばポリエチ
レン、ポリプロピレン、アクリル慎・１脂、メタクリル
慎１脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポギシ耐
脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル
可能、アルギツドＩＷＪ脂、ポリカーボネー１−　［４
脂、シリコン附脂、メラミン間脳等の付加重合型可能、
重付・加型可能、重縮合型制服、並びＫこれらの慎・１
脂の繰り返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂
、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体制能等の絶
縁性樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分
子有機半導体を挙げることができる。そして、このバイ
ンダー樹脂の顔料に対する割合は、０〜２００重計チ、
特に１０〜１００　　重唱′係の範囲が望ましい。

伺、このキャリア輸送層には、可撓性の向上、残留電位
の低減、反復使用時の疲労１成域の目的で種々の添加剤
を含有せしめることができる。斯かる添加剤としては、
ジフェニル、塩化ジフェニル、０−ターフェニル、ｐ−
ターフェニル、ジブチルフタレ−１・、ジメチルグリコ
ールフタレー１−　、ジオクチルフタレート、トリフェ
ニル燐酸、メチルナフタリン、ベンゾフェノン、塩素化
パラフィン、ジラウリルチオプロピオネ−１−１３，５
−ジニトロ安息香酸、各種フルオロカーボン類等を挙げ
ることができる。

本発明に係る感光体基体は導電性を有することが必要で
あり、該導電性基体としては、アルミニウム、ニッケル
などの金属シート寸たけ金属ドラム；金属箔をラミネー
トするかアルミニウム、酸化スズ、酸化インジウムなど
を蒸着したプラスチックフィルム；或いは導電性物質を
塗布した紙、プラスチックフィルム又はドラムを使用す
ることができる。

（実施例） 次に実施例によって本発明を説明する。

外径８０Φ長さ３００ｍｍのアルミドラムを用いて、軸
を水平方向にして１７５　ｒｐｍで回転させ、その軸方
向にスプレイングシステムジャパン製の２流体ノズル（
エアーノズル６４、液ノズル１６５０　）を用いて４２
ｍ−ｅｃでスキャンさせながら１．２−ジクロルエタン
中にポリカーボネーＩ−樹脂を２．４ｗｌ／ｖｏｌ−チ
溶かした液を６０ＣＣ／７７１７７１で送液し、エアー
圧２．０に９／ｃｕｔ　　でスプレーした後 乾燥期間　　　　　２分、 乾燥温度　　　　　２５°Ｃ５ 風　　　速　　　　　　　　２　ｍｍ／ｓｅｃの条件で
１００秒乾燥させた後に、２回目のスプレーを行なった
ところ、未乾の部分にスプレーの風が当ることによる″
吹かれムラ”を抑える事ができ、乾燥期間を設けない場
合には、吹き荒れが生じ均一な膜厚が得られなかったの
に対し、きれいな塗布を達成できた。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に於る感光体基体の周回の態様を示す
図である。 第２図は感光体基体の展開された表面に於るスプレー走
査線の軌跡の説明図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 感光体基体表面の少くとも１部が円筒曲面をなして連続
   周回し、該周回方向を含み基体表面に直角な面が垂直で
   あるように保持された感光体基体に対して、該周回表面
   に沿ってスキャンし感光体塗料を感光体基体表面にスプ
   レーする電子写真感光体の製造方法に於いて、少くとも
   １本のスプレーガンを用いてスプレースキャンによる重
   層スプレー塗布を行う際に、１スキャン終了毎に間欠的
   に乾燥期間を介入させることを特徴とする電子写真感光
   体の製造方法。