JPS6284053A - β−ナフタレンスルホン酸の製造方法 - Google Patents

β−ナフタレンスルホン酸の製造方法

Info

Publication number
JPS6284053A
JPS6284053A JP22395485A JP22395485A JPS6284053A JP S6284053 A JPS6284053 A JP S6284053A JP 22395485 A JP22395485 A JP 22395485A JP 22395485 A JP22395485 A JP 22395485A JP S6284053 A JPS6284053 A JP S6284053A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
naphthalene
acid
dinaphthylsulfone
naphthalenesulfonic acid
sulfuric acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22395485A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Tanaka
信 田中
Setsu Takeo
竹尾 節
Hiroyuki Sugiura
杉浦 啓之
Tsugio Hotta
堀田 次男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
Priority to JP22395485A priority Critical patent/JPS6284053A/ja
Publication of JPS6284053A publication Critical patent/JPS6284053A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業との利用分野〉 本発明は高純度のβ−ナフタレンスルホン酸製造におけ
るジナフチルスルホンの除去方法に関する。なお、β−
ナフタレンスルホン酸はナフタレン系染料あるいはセメ
ント分散剤などの出発原料として重要な物質である。
〈従来技術とその問題点〉 一般に、ナフタレンをスルホン化してβ−ナフタレンス
ルホン酸を得るには、ナフタレンに対し過剰の濃硫酸を
用い、140〜170℃程度の高温で反応させる必要が
ある。この際、副生物としてα−ナフタレンスルホン酸
、ナフタレンジスルホン酸、ジナフチルスルホンが生成
する。この様な副生物を含むスルホン化マスからβ−ナ
フタレンスルホン酸を晶析分離する方法が既に報告され
ている(特開昭52−136154号)。この方法はス
ルホン化マスに水を加え、温度および硫酸濃度を調整し
、β−ナフタレンスルホン酸を結晶析出させる方法であ
る。
この方法ではα−ナフタレンスルホン酸およびジナフタ
レンスルホン酸は母液中に溶解し、これらの副生物の含
有量が小さいか、または含まれないβ−ナフタレンスル
ホン酸が得られると報告されているが、ジナフチルスル
ホンの挙動については何も述べていない。
従って、より高純度のβ−ナフタレンスルホン酸を得る
には、この物質の挙動を明らかにし、これを確実に除去
する方法を確立する必要がある。
〈発明の目的〉 従って、本発明の目的は、ナフタレンのスルホン化マス
からジナフチルスルホンを除去して高純度のβ−ナフタ
レンスルホン酸を収率よく得ることができるβ−ナフタ
レンスルホン酸の製造方法を提供しようとするにある。
〈発明の構成〉 上記目的は下記の発明によって達成される。
すなわち、第1の発明は、β−ナフタレンスルホン酸を
製造するに際し、ナフタレンを硫酸でスルホン化して得
られたスルホン化マスを水または硫酸水溶液で希釈し、
ナフタレンスルホン酸濃度を30wt%以下に下げ、か
つ液温を0〜40℃以内に調整することによりジナフチ
ルスルホンを晶析させることを特徴とするβ−ナフタレ
ンスルホン酸の製造方法を提供するものである。
また、第2の発明は、β−ナフタレンスルホン酸を製造
するに際し、ナフタレンを硫酸でスルホン化して得られ
たスルホン化マスを水または硫酸水溶液で希釈し、β−
ナフタレンスルホン酸を晶析分離し、得られた母液を水
または硫酸水溶液で希釈してナフタレンスルホン酸濃度
を30wj%以下に下げ、かつ液温を0〜40℃以内に
58整することによりジナフチルスルホンを晶析させる
ことを特徴とするβ−ナフタレンスルホン酸の製造方法
を提供するものである。
このように、本発明は、スルホン化マス中の副生物の溶
解現象に注目したものであり、ナフタレンスルホン酸は
硫酸溶液に溶解するが、ジナフチルスルホンは溶解せず
にナフタレンスルホン酸溶液に溶解すること、そしてナ
フタレンスルホン酸濃度と温度を制御することによりジ
ナフチルスルホンを晶析させることができるという知見
に基づくものである。
そして第1および第2の発明から導出される利点は次の
ようなものであると考えられる。
第2の発明により分離された母液中からジナフチルスル
ホンを除去することができ、ジナフチルスルホンを含ま
ない、もしくは非常に含有量の少ないナフタレンスルホ
ン酸溶液が得られる。この液は多くの利点を有し、また
多くの用途も可能でありその例を以下に示す。
■ ホルムアルデヒドと縮合させ、セメントや染料の分
散剤とすることができる。これらの分散剤の原料にはジ
ナフチルスルホンの存在は好ましくなく、ジナフチルス
ルホン含Nff1の少ないナフタレンスルホン酸の製造
が望まれているからである。
■ ジナフチルスルホンを除去した母液を脱水濃縮して
、硫酸濃度と温度を調整し再びジナフチルスルホン含有
量の小さいβ−ナフタレンスルホン酸を晶析分離させる
ことができ、β−ナフタレンスルホン酸収率をトげるこ
とかできる。
■ ジナフチルスルホンを除去したド)液は、β−ナフ
タレンスルホン酸含有量の多いナフタレンスルホン酸溶
液であるので、スルホン化マスの希釈液として使用する
ことにより、β−ナフタレンスルホン酸晶析時にスルホ
ン化マスから母液へのβ−ナフタレンスルホン酸の溶解
t′cを抑えることができ、その結果ジナフチルスルホ
ン含−(′r量の小さいβ−ナフタレンスルホン酸の収
率を上げることができる。
■ 母液を再びスルホン化工程へ戻し、リサイクルさせ
るとスルホン化マス中のジナフチルスルホン含有量が増
す傾向があるが、本発明のジナフチルスルホンを除去し
た母液をリサイクルするとジナフチルスルホン含有量は
増えない。
よってB)液に溶解損失していたβ−ナフタレンスルホ
ン酸をiTGび回収することができるため、β−ナフタ
レンスルホン酸の収率が著しく向上する。
また、第1の発明により得られるナフタレンスルホン酸
溶液は上記の0の用途に非常に好適である。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
このβ−ナフタレンスルホン酸の晶析分離を行う原料で
あるスルホン化マスは勿論β−ナフタレンスルホン酸含
有量が多く、他の副生物含有量が少ない方が好ましい。
具体的にはナフタレンのスルホン化におけるβ−ナフタ
レンスルホン酸の反応選択率が70モル%以上であるこ
とが好ましい。β−ナフタレンスルホン酸の反応選択率
が70モル%未満のスルホン化マスから晶析させて得ら
れるβ−ナフタレンスルホン酸の濃度は一般的に低く、
かつ得られる結晶の収率も低い。
この条件を満足するスルホン化条件仁してはスルホン化
剤として濃硫酸をナフタレンに対し0.8〜1.5倍モ
ル用い、120〜180℃で反応させるのが望ましい。
 濃硫酸の使用量が少ないとα−ナフタレンスルホン酸
が多く副生じ、使用量が多いとナフタレンジスルホン酸
とジナフチルスルホンの副生量が多いからである。また
、反応温度が低いとα−ナフタレンスルホン酸が多く副
生じ、反応温度が高いとナフタレンジスルホン酸とジナ
フチルスルホンの副生量が多いからである。
次にスルホン化マスの中には未反応ナフタレンが含まれ
いているが、ナフタレンはβ−ナフタレンスルホン酸の
晶析の母液中には溶解しないでβ−ナフタレンスルホン
酸結晶に混入するため、あらかじめ除去する必要がある
。ナフタレンの除去方法としては水蒸気蒸留または溶媒
抽出等の方法が適用できる。
以上示した条件で得られるスルホン化マス中には未反応
硫酸が含まれており、このスルホン化マスに水または硫
酸水溶液を適量加えることにより硫酸濃度を調整し、温
度を40℃以下に冷却するとβ−ナフタレンスルホン酸
結晶が生成する。加える水または硫酸水溶液の量を多く
すると得られるβ−ナフタレンスルホン酸の純度は向上
するが、収率が低下する。また、少なすぎるとβ−ナフ
タレンスルホン酸の純度が低下する。
生成したβ−ナフタレンスルホン酸結晶の分離には通常
の濾過に用いられる方法が適用できる。
このβ−ナフタレンスルホン酸精製法の原理は、スルホ
ン化反応副生物を母液に溶解し、β−ナフタレンスルホ
ン酸を純粋に結晶化させることから成っている。スルホ
ン化の生成物であるβ−ナフタレンスルホン酸、α−ナ
フタレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸類は水ま
たは硫酸水溶液に溶解し、モしてβ−ナフタレンスルホ
ン酸、α−ナフタレンスルホン酸の溶解度は検出ら〔科
学と工業、lユ、38 (1963))によって報告さ
れて既に公知となっている。また、ナフタレンジスルホ
ン酸類はナフタレンモノスルホン酸類よりもより親水性
が増し、水または硫酸水溶液への溶解度は一般的に高い
ことが知らされている。
以上の様にナフタレンスルホン酸の溶解挙動は明らかに
なっている。
次に、本発明において明らかにされたジナフチルスルホ
ンの挙動について述べる。
ジナフチルスルホンは水または硫酸水溶液にほとんど不
溶である。
また、第1図に示されるように、ジナフチルスルホンの
β−ナフタレンスルホン酸水溶液への溶解度はβ−ナフ
タレンスルホン酸濃度に依存することがわかり、この溶
解度データからナフタレンスルホン酸濃度を調整するこ
とにより、ジナフチルスルホンを沈殿分離できることが
わかる。
なお、第1図を作成するにあたり測定に用いたジナフチ
ルスルホンの組成はα、α′−ジナフチルブチホン wt%であり、この組成はβ−ナフタレンスルホン酸を
主生成物として得るナフタレンのスルホン化条件でのジ
ナフチルスルホンの分布を代表するものである。
以上のような知見に基づく本発明のジナフチルスルホン
の除去方法は次のようなものである。
まず、第1の方法では、面述のようにして得られたβ−
ナフタレンスルホン酸の反応選択率が70モル%以上の
スルホン化マスから未反応ナフタレンを除去したものを
水または硫酸水溶液で希釈するとジナフチルスルホンが
析出し、析出したジナフチルスルホンは容易に濾過で分
離することができるものである。ナフタレンは水または
硫酸水溶液またはナフタレンスルホン酸水溶液にはほと
んど溶解しないため、スルホン化マスを希釈してジナフ
チルスルホンと同時に濾過除去してもよいし、スルホン
化マスを水蒸気蒸留してナフタレンを留去してもよいが
、ナフタレンは回収し再び原料としてリサイクル使用す
るのが好ましいため後者の方がより好ましい。
本発明においてスルホン化マス希釈液中のナフタレンス
ルホン酸濃度は30胃L%以下であることが好ましく、
30wt%以上の濃度ではジナフチルスルホンはほとん
ど除去されない。
また、母液の濃度は第1の方法におけるのど同様の理由
で0〜40℃の範囲内に制御する。2が好ましい。
このような方法を実施するプロセスをまとめると、例え
ば第2図のようになる。
また、第2の方法は、前述のようにβ−ナフタレンスル
ホン酸を晶析分離した後の母液を水または硫酸水溶液で
希釈すると、ジナフチルスルホンが析出し、析出したジ
ナフチルスルホンは容易に濾過で分離することができる
ものである。
本発明において母液希釈液中のナフタレンスルホン酸濃
度は30胃L%以下であることが好ましく、30wt%
以上の濃度ではジナフチルスルホンはほとんど除去され
ない。
また、母液の温度は0〜40℃の範囲内に制御するのが
好ましい。40℃をこえるとジナフチルスルホンの溶解
度が高く、ジナフチルスルホンを分離することは難しい
。また、0℃未満ではナフタレンスルホン酸類も多く析
出するため、ナフタレンスルホン酸を損失することにな
り好ましくない。
このような方法を実施するプロセスをまとめると、例え
ば第3図のようになる。
く実 施 例〉 以下、本発明を実施例につき具体的に説明する。
(実施例1) ナフタレンを硫酸でスルホン化して、表1に示す組成の
スルホン化マスを得た。このスルホン化マスを用いて水
希釈によるジナフチルスルホンの除去について調べた。
−1=スルホンヒマスの組成 Ili位 (wt% ) ジナフチルスルホン生成分布 単位(wt%) この結果を第4図に示す。
本発明の温度範囲である20℃においてナフタレンスル
ホン酸濃度を30wt%以下とするとジナフチルスルホ
ンが除去されることがわかる。
また、同じスルホン化マスを5%硫酸水溶液で3倍に希
釈し、希釈液を25℃に冷却し、析出したジナフチルス
ルホンを濾過により除去した。ジナフチルスルホンの除
去率は51%であった。
(実施例2) ナフタレンを硫酸でスルホン化して得られたスルホン化
マスを水または硫酸水溶液で希釈し、β−ナフタレンス
ルホン酸を晶析分離し1表2に示す組成の母液を得た。
この母液を用いて水希釈によるジナフチルスルホンの除
去について調べた。
′ 2:、−の 単位(wt%) ジナフチルスルホン生成分布 単位(wt%) この結果を第5図に示す。
本発明の温度範囲である10℃、20℃、30℃におい
てナフタレンスルホン酸濃度を30wt%以下とすると
、ジナフチルスルホンが除去されることがわかる。
また、同じ母液を5%硫酸水溶液で2,5倍に希釈し希
釈液を20℃に冷却し析出したジナフチルスルホンを濾
過により除去した。ジナフチルスルホンの除去率は75
%であった。
〈発明の効果〉 本発明においては、β−ナフタレンスルホン酸を製造す
るに際し、ナフタレンを硫酸でスルホン化して得られた
スルホン化マスからβ−ナフタレンスルホン酸を晶析分
離した後の母液、あるいはスルホン化マスそのものを水
または硫酸水溶液で希釈してナフタレンスルホン酸濃度
を30wt%以下に下げ、かつ液温を0〜40℃に調整
しているため、ジナフチルスルホンを晶析させて除去す
ることができる。
そして、このようなジナフチルスルホンを除去したgk
液あるいはスルホン化マスを用いて高純度のβ−ナフタ
レンスルホン酸を収率よく得ることができ、多くの用途
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、ジナフチルスルホンのβ−ナフタレンスルホ
ン酸水溶液に対する溶解度を示すグラフである。 第2図は、第1の発明を実施するプロセスの1例を示す
工程図である。 第3図は、第2の発明を実施するプロセスの1例を示す
工程図である。 第4図は、第1の発明における水希釈によるジナフチル
スルホンの除去率を示すグラフである。 第5図は、第2の発明におけろ水希釈によるジナフチル
スルホンの除去率を示すグラフである。 FIG、1 p−fフタレンス/レホン献濠度(Wt’/e)FIG
、2 FIG、3 番 濾過 flG、4 スルホン化ンヌの4秋侍十

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)β−ナフタレンスルホン酸を製造するに際し、ナ
    フタレンを硫酸でスルホン化して得られたスルホン化マ
    スを水または硫酸水溶液で希釈し、ナフタレンスルホン
    酸濃度を30wt%以下に下げ、かつ液温を0〜40℃
    以内に調整することによりジナフチルスルホンを晶析さ
    せることを特徴とするβ−ナフタレンスルホン酸の製造
    方法。
  2. (2)β−ナフタレンスルホン酸を製造するに際し、ナ
    フタレンを硫酸でスルホン化して得られたスルホン化マ
    スを水または硫酸水溶液で希釈し、β−ナフタレンスル
    ホン酸を晶析分離し、得られた母液を水または硫酸水溶
    液で希釈してナフタレンスルホン酸濃度を30wt%以
    下に下げ、かつ液温を0〜40℃以内に調整することに
    よりジナフチルスルホンを晶析させることを特徴とする
    β−ナフタレンスルホン酸の製造方法。
JP22395485A 1985-10-08 1985-10-08 β−ナフタレンスルホン酸の製造方法 Pending JPS6284053A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22395485A JPS6284053A (ja) 1985-10-08 1985-10-08 β−ナフタレンスルホン酸の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22395485A JPS6284053A (ja) 1985-10-08 1985-10-08 β−ナフタレンスルホン酸の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6284053A true JPS6284053A (ja) 1987-04-17

Family

ID=16806298

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22395485A Pending JPS6284053A (ja) 1985-10-08 1985-10-08 β−ナフタレンスルホン酸の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6284053A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0383961A (ja) * 1989-08-25 1991-04-09 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd β―ナフタレンスルホン酸の製造法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0383961A (ja) * 1989-08-25 1991-04-09 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd β―ナフタレンスルホン酸の製造法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
USRE49370E1 (en) Cyclic process for the production of taurine from monoethanolamine
US5852211A (en) Process for the conversion of the sodium salt of 2-keto-L-gulonic acid to the free acid
US11623914B2 (en) Cyclic process for producing taurine from monoethanolamine
US4162270A (en) Process for producing 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone of high purity
US4111979A (en) Process for producing 8-amino-1-naphthol-3,6-disulfonic acid
JP5052234B2 (ja) コハク酸の製造方法
JPS6284053A (ja) β−ナフタレンスルホン酸の製造方法
US5210288A (en) Process for the preparation of d-(-)-4-hydroxyphenylglycine and l-(+)-4-hydroxyphenylglycine, starting from d.l.-4-hydroxyphenylglycine
CN1028169C (zh) 直接分离巯甲丙脯酸的方法
KR940000810B1 (ko) 결정상태의 글루타민산을 제조하는 방법
US4242275A (en) Process for the preparation of isomer-free toluene-4-sulfonic acid
JPS58180466A (ja) ナフタレンスルホン酸の製造方法
JPS6339853A (ja) β−ナフタレンスルホン酸の製造方法
US5097074A (en) Process for purifying 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone
US3355485A (en) Preparation of sodium cyclohexyl sulfamate free of sulfate ions
JPH0413657A (ja) 2,4―ジアミノベンゼンスルホン酸の製造方法
JPH01190661A (ja) 4,4′−ジヒドロキシジフエニルスルホンの精製法
JPS58157760A (ja) m−キシレン−4−スルホン酸の製造法
JPH0413655A (ja) 2―ニトロトルエン―4―スルホン酸の製造方法
JPS62440A (ja) ジヒドロキシ安息香酸異性体の分離法
JPS5874525A (ja) 亜砒酸と石膏を含有する硫酸酸性水溶液より亜砒酸と石膏の分離方法
JPS6360962A (ja) 2,6−ナフタレンジスルホン酸および2,7−ナフタレンジスルホン酸の製造方法
RU1436456C (ru) Способ получения 2,5-диоксибензолсульфоната калия
JP4226258B2 (ja) 2,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法
JPH0210131B2 (ja)