JPS6281754A - 撮像用半導体装置 - Google Patents

撮像用半導体装置

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Publication number
JPS6281754A
JPS6281754A JP60222403A JP22240385A JPS6281754A JP S6281754 A JPS6281754 A JP S6281754A JP 60222403 A JP60222403 A JP 60222403A JP 22240385 A JP22240385 A JP 22240385A JP S6281754 A JPS6281754 A JP S6281754A
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JP
Japan
Prior art keywords
light
receiving element
shift register
semiconductor substrate
light receiving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60222403A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidetoshi Yamada
秀俊 山田
Masatoshi Ida
井田 正利
Yutaka Yunoki
裕 柚木
Toru Watanabe
徹 渡辺
Nobuhiro Okuda
奥田 亘宏
Hiroshi Sato
宏 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sharp Corp, Olympus Optical Co Ltd filed Critical Sharp Corp
Priority to JP60222403A priority Critical patent/JPS6281754A/ja
Publication of JPS6281754A publication Critical patent/JPS6281754A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14831Area CCD imagers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は固体撮像装置として使用しうる半導体装置に関
する。
(従来の技術とその問題点) 固体撮像装置は小型、軽量、長寿命、低消費電力等の利
点を有し、近時撮像管に代わり広く用いられている。第
4図に電荷結合素子(COD)により形成した、いわゆ
るインターライン転送方式(ILT方式)の電子カメラ
用固体撮像装置の従来例を示す。
第4図において、半導体基板1上に、pnダイオード又
はMO9構造からなる受光素子2aをそれぞれ列状に複
数個配列してなる受光素子列2が複数列設けられ、受光
素子2aがマトリックス状に配置されている。各受光素
子列2に沿って垂直シフトレジスタ3.3、・・・が設
けられるとともに各垂直ソフトレジスタ3の一端に接し
て水平シフトレジスタ4か形成されている。
上記構成において、半導体基板1への露光に応し各受光
素子列2における各受光素子2aに蓄積された電荷は、
一定時間間隔で図示しない転送ゲートを介して対応する
垂直ノットレジスタ3に転送される。各垂直シフトレジ
スタ3に転送された信号電荷は一行ずつ、すなわち各受
光素子列2中の横方向の同一線上に位置する受光素子2
aiからの信号電荷ごとに同期して順次水平ノットレジ
スタ4へ転送され、更に各行の信号電荷群が該水平ノッ
トレジスタ・1から出力増幅器5を介して順次読み出さ
れる。
ところで、この上うな撮像装置において、1回の撮像期
間中における半導体基板1への露光量が不充分な場合は
、出力信号が小さくなり、その結果出力信号の信号雑音
比S/Nが不満足な値となる。一方、上記露光量が過剰
になると、受光素子2aから電荷が溢出し、いわゆるブ
ルーミングが生じる。従って、上記露光量は適正な値に
調整する必要がある。
そこで上記のような撮像装置において、露光量測定用の
測光素子を設け、該測光素子で検出される受光素子列へ
の露光量が所定値に達した時点で撮像を行うものが知ら
れている。ところが、その場合、上記測光素子は受光素
子列を有する半導体基板とは別体に構成されているので
、半導体基板へ入射する光量を、被写体と上記基板を結
ぶ光路内で測定することができず、従って正確な光量測
定が不可能であった。
又、第5図に示すように、半導体基板1の前方にハーフ
ミラ−6を設置し、撮像レンズ7を透過して半導体基板
lへ入射する光の一部をハーフミラ−6により測光素子
8側に反射させて測光するようにしたものが知られてい
る。この構成によれば、実質的に被写体と基板lを結ぶ
光路内で測光することができる。しかしながら第5図の
構成では、入射光の一部を反射させているので、それだ
け基板1に入射する光量が減少して感度が低下するとい
う問題がある。又レンズ7と基板1間にハーフミラ−6
を挿入しているので、入射光に収差が生じ、画質が悪化
する。
(問題点を解決するための手段) 本発明は以上のような不具合を解消することを目的とし
ている。そのため本発明に係る撮像用半導体装置は、半
導体基板上に、複数の受光素子を配列してなる受光素子
列、各受光素子から転送された信号電荷を順次出力部へ
転送するノットレジスタ及び上記受光素子列への露光量
を検出して各受光素子からノットレジスタへの信号電荷
の転送を規定する測光素子を形成したことを基本的な特
徴とする。
なお、上記測光素子は半導体基板上における受光素子列
領域の周辺部に設L′Iることかできる。その場合、北
記測光素子は半導体基数−にの上記受光素手配領域の周
辺部における対称位置に複数個設けることか好ましい。
又、上記受光素子列及びノットレジスタは例えば電荷結
合素子により形成することができる。
(実施例) 以下、本発明の詳細な説明する。この実施例は従来例同
様、ILT方式のCODにより構成し第1図に示すよう
に、固体撮像装置の半導体基板l上には、それぞれ複数
の受光素子2aからなる複数の受光素子列2.2、・・
互いに平行にかつ図中左右方向に等間隔を置いて形成さ
れ、複数の受光素子2aがマトリックス状に配置されて
いる。
各受光素子列2の右脇に沿ってそれぞれ垂直ノットレジ
スタ3が設けられるとともに各垂直シフトレジスタ3の
一端に接して水平シフトレジスタ4が形成されている。
該水平ソフトレジスタ4は出力増幅器5を介して信号出
力端子IOに接続される。又、上記3受光素子列2とそ
れに対応する垂直ノットレジスタ3間にはそれぞれ転送
ゲート11が介設されている。
そして、基板l上における受光素子2a群の配列された
領域の周辺部における該受光領域の中心に対して対称な
位置に、4つの矩形状測光素子12a〜12dが設けら
れている。これら測光素子12a〜12dは、例えば各
受光素子2a同様にn+不純物拡散領域からなるフォト
ダイオードとして形成されA− 上記各測光素子12a〜12dは、それぞれ各測光素子
12a〜+2dの出力を適当な増幅率で増幅する測光増
幅器13a= 13 d及び測光出力端子14a〜14
dを介して加算器15に接続されている。
該加算器15は、各測光出力端子14a=14dから送
られる増幅後の測光出力Mon−1=Mon−4を加算
するとともに該加算値を積分し、積分された測光出力M
onを比較516に出力する。
この比較器16は測光出力Monが予め設定した基準値
Voに達した時点で、駆動回路17に撮像規定信号を送
信する。基準値Voとしては1回の撮像のための適正露
光型が選定される。
駆動回路17は、内部的に又は外部から供給される垂直
同期信号VD(第2図参照)及び上記撮像規定信号等に
基づいて各垂直シフトレジスタ3に垂直ソフトパルスΦ
Vを、水平シフトレジスタ4に水平シフトパルスΦHを
、各転送ゲート11に転送パルスΦTをそれぞれ出力す
る。なお、上記加算器15、比較器16及び駆動回路1
7は基板lの外部に配置される。
第2図において、L記垂直同期パルスVDは一定時間間
隔を1〃いて高レベル■4と低レベルL、の間で切り換
えられ、このVDの1つの立ち下がり(HからLへの切
り換わり)から次の立ち下がりまでh月周期をなす。Φ
Tは上記転送パルス、ΦVは上記垂直シフトパルスであ
り、該垂直シフトパルスΦVは転送周波数として、通常
転送周波数「v(例えば15.75KH2)と、高速駆
動周波数rc(例えばIMHz)を備えている。又、S
igは信号出力端子10からの信号出力、Manは上記
測光出力である。
以下、」二足撮像装置の各部における動作を時刻を追っ
て具体的に説明する。
時刻T、におけるVDの立ち下がりに同期して転送パル
スΦTが高レベルとされ、その直後のVDの立ち上かり
に同期してΦTが再び低レベルとされる。この転送パル
スΦTにより時刻T1以前に各受光素子2aに蓄積され
ていた電荷、すなわち残留電荷が各受光素子列2から転
送ゲート11を介して対応する垂直シフトパルス3に転
送される。
それにより、時刻T、から各受光素子2aに入射光量に
応じて新たに信号電荷が蓄積され始める。
又、時刻T1におけるVDの立ち下がりに同期して加算
器15に初期基準値が設定され、加算器15において時
刻T1から基板1への露光量に比例した測光出力Mon
の積分が開始される。更に駆動回路17は、時刻T11
以降各垂直ノットレジスタに高速駆動周波数[Cて垂直
シフトパルスΦVを出力し、それにより各受光素子列2
から垂直シフトレジスタ3に転送された残留電荷が水平
ノットレジスタ4及び出力増幅器5を介して出力端子1
0に高速で掃き出される。なお、このようにして掃き出
される残留電荷は、画像信号としては利用されない。
時刻T2において測光出力Manが基準値Voに達する
と、前述のように比較器16から駆動回路17に撮像規
定信号か送信される。それに応じて駆動回路17は各転
送ゲート11に転送パルスΦTを出力する。この転送パ
ルスΦTに基づいて、時刻T。
T2間に各受光素子2aに蓄積された信号電荷が6++
友十ス、肩i直 パ) rklノ ・′ノ 7 々 q
 に番昼弓6太ハ ス   tヱお」二足残留電荷は高
速で掃き出されるので、該掃き出しは時刻T2以前に終
了する。
時刻T2において垂直ノットレジスタ3.3、・・に転
送された信号電荷は一時的に該垂直ノットレジスタ3.
3、・・・に保持される。時刻T3におけるVDの立ち
下がりに同期して再び各垂直ノットレジスタ3が作動さ
れ、それまで各垂直ノットレジスタ3に保持されてい1
こ信号電荷か通常転送周波数fvで水平シフトレジスタ
4へ転送されろ。
更に該信号電荷が水平ノフ)・レジスタ4及び出力増幅
器5を介して出力端子10に信号出力Sigとして読み
出されろ。このようにして、第1周期における時刻T、
−T2間に各受光素子2aに蓄積された信号電荷が、第
2周期T3  T−中に読み出される。その際、1回の
信号電荷蓄積期間T、 T2における露光量は、常に基
め値VOと等しくすることができろ。なお時刻T2−T
、間に各受光素子2aに蓄積された電荷は、時刻T4か
ら開始される周期中に高速駆動で掃き出される。以上の
ような手順で、通常2周期ごとに1画像を得ろことがで
きる。
なお以上の説明では、ΦV1Φ■]はそれぞれl相のみ
としたが、使用されるCODの構造により、必要に応じ
それぞれ2相〜4相のパルスとすることができる。
又露先制御用の機械的シャッタを用い、時刻T1て該シ
ャッタが開、時刻T、で該シャッタが閉となるように露
光制御を行うことができる。
更に又各転送ゲート11を省略し、各垂直ノットレジス
タ3の電極を転送電極に兼用するとともに垂直シフトパ
ルスΦ■のパルス値を適宜に変更することにより、各受
光素子2aに蓄積された電荷を直接垂直ノットレジスタ
3へ転送することも可能である。
次に第2実施例を説明する。この第2実施例は第1実施
例と同様の撮像用半導体装置を有するが、光源としてス
I・ロポを使用した点で第1実施例と相違している。以
下、第3図のタイムチャートを参照しながら、第2実施
例の動作説明を行う。
第3図において、STはストロボ発光出力、■D〜Mo
nは前期第1実施例と同一のパルスあるいは信号を示す
。但し第2実施例では、垂直シフトパルスΦVは通常転
送周波数fvのみを有する。
時刻T、における垂直同期パルスVDの立ち下がりによ
り開始される第1周期中の時刻T2においてストロボ発
光が開始される。このストロボ発光に伴って、前記加算
器15て測光出力Monの積分が行われる。
時刻T3において測光出力Monが基準値Voに達する
と、露光量が所定値になったものと見なしてストロボ発
光を停止する。実際にストロボ発光が終了するのは時刻
T、よりやや遅れるが、この遅れ時間は比較的僅かであ
る。なおストロボ発光出力中に点線で示しているのは、
露光制御を行わない場合のストロボ発光の出力タイミン
グである。
次に時刻T4におけるVDの立ち下がりに同期した転送
パルスΦTにより、第1周期TIT4におけるストロボ
発光期間中に各受光素子2aに蓄積された電荷が対応す
る垂直シフトレジスタ3へ転送されろ。引続きこの電荷
は、第2周期T4−T5中に、各垂直シフトレジスタ3
から水平シフトレンスタ4及び出力増幅器5を介して出
力端子10に順次転送され、出力信号Sigとして読み
出される。このように光源としてストロボを用いた場合
にも、通常2周期ごどに1画像を得ることができる。
(発明の効果) 以上説明したように本発明では、露光量制御用の測光素
子を受光素子と同一半導体基板上に設置して半導体基板
に入射する光を基板上で直接測定するようにしたので、
正確な露光量測定が行える。
又、従来のハーフミラ−は不要となるので、入射光に収
差が発生したり、露光量が減少することもない。更に又
、測光素子は受光素子と同一の製造]二程で製造できる
ので、測光素子を受光素子と同一半導体基板上に設ける
ことによって半導体基板の製造工数が増すことらない。
又、上記測光素子を受光素子群が配列された受光領域の
周辺部に設けるようにすれば、受光素子肝/′rX1万
11九旧ナートナコト抜8尭沓ヱ昨ジロー抹埒上に容易
に測光素子を配置することができる。その場合、測光素
子を受光素子配列領域の周辺部における対称位置に複数
個設ければ、半導体基板全面に対する露光量をくまなく
測定することができるので、良好な露光制御が行えるよ
うになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例に係る撮像用半導体装置の
正面説明図、 第2図は第1図の装置の動作タイミングを示すタイムチ
ャート、 第3図は本発明の第2実施例に係る撮像用半導体装置の
動作タイミングを示すタイムチャート、第4図は従来の
固体撮像装置における撮像用半導体装置の正面説明図、 第5図は従来の固体撮像装置の側面説明図である。 l・・・半導体基板、2・・・受光素子列、2a・・・
受光素子、3・・・垂直シフトレジスタ、12a〜+2
d・・・測光素子。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社ほか1名 代 理 人 弁理士 前出 葆 ほか1名第2図 口い、エーーヶ2□」 第3図 しい1□二や、ニー 第4図 第5図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体基板上に、複数の受光素子を配列してなる
    受光素子列、各受光素子から転送された信号電荷を順次
    出力部へ転送するシフトレジスタ及び上記受光素子列へ
    の露光量を検出して各受光素子からシフトレジスタへの
    信号電荷の転送を規定する測光素子を形成したことを特
    徴とする撮像用半導体装置。
  2. (2)半導体基板上における受光素子列領域の周辺部に
    測光素子を設けた特許請求の範囲第1項に記載の装置。
  3. (3)半導体基板上の受光素子列領域の周辺部における
    対称位置に複数の測光素子を設けた特許請求の範囲第2
    項に記載の装置。
  4. (4)受光素子列及びシフトレジスタが電荷結合素子か
    らなる特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれかに記載
    の装置。
JP60222403A 1985-10-05 1985-10-05 撮像用半導体装置 Pending JPS6281754A (ja)

Priority Applications (1)

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JP60222403A JPS6281754A (ja) 1985-10-05 1985-10-05 撮像用半導体装置

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JP60222403A JPS6281754A (ja) 1985-10-05 1985-10-05 撮像用半導体装置

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JPS6281754A true JPS6281754A (ja) 1987-04-15

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ID=16781825

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60222403A Pending JPS6281754A (ja) 1985-10-05 1985-10-05 撮像用半導体装置

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JP (1) JPS6281754A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0787262A (ja) * 1993-09-09 1995-03-31 Nec Corp 固体撮像素子およびその測定方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0787262A (ja) * 1993-09-09 1995-03-31 Nec Corp 固体撮像素子およびその測定方法

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