JPS6281003A - 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 - Google Patents
電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物Info
- Publication number
- JPS6281003A JPS6281003A JP60220694A JP22069485A JPS6281003A JP S6281003 A JPS6281003 A JP S6281003A JP 60220694 A JP60220694 A JP 60220694A JP 22069485 A JP22069485 A JP 22069485A JP S6281003 A JPS6281003 A JP S6281003A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mol
- voltage
- resistance
- nonlinear resistor
- porcelain composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電気機器、電子機器で発生する異常高電圧、ノ
イズ、静電気から半導体及び回路を保護するところノ(
CaxSr1−X)アTiQ3(0.o01≦X≦0.
4)(0.95≦y<1.○O)、(BaaSrl−a
)bTi03(0.001≦a≦0.4)(0.95≦
b<1.○O)、(MgoSrl−c)dTt○3(0
.001≦c≦0.4)(0.95≦d<1.oo)
のうち少なくとも1種類以上を主成物とする電圧依存
性非直線抵抗体磁器組成分に関するものである。
イズ、静電気から半導体及び回路を保護するところノ(
CaxSr1−X)アTiQ3(0.o01≦X≦0.
4)(0.95≦y<1.○O)、(BaaSrl−a
)bTi03(0.001≦a≦0.4)(0.95≦
b<1.○O)、(MgoSrl−c)dTt○3(0
.001≦c≦0.4)(0.95≦d<1.oo)
のうち少なくとも1種類以上を主成物とする電圧依存
性非直線抵抗体磁器組成分に関するものである。
従来の技術
従来、各種電気機器、電子機器における異常高電圧の吸
収、ノイズの除去、火花消去、静電気対策のために、電
圧依存性非直線抵抗特性を有するSiCバリスタやZn
O系バリスタなどが使用されていた。このようなバリス
タの電圧−電流特性は近似的に次式のように表わすこと
ができる。
収、ノイズの除去、火花消去、静電気対策のために、電
圧依存性非直線抵抗特性を有するSiCバリスタやZn
O系バリスタなどが使用されていた。このようなバリス
タの電圧−電流特性は近似的に次式のように表わすこと
ができる。
I=(V/C)“
ここで、■は電流、■は電圧、Cはバリスタ固有の定数
であり、αは電圧非直線指数である。
であり、αは電圧非直線指数である。
SiCバリスタのαは2〜7程度、ZnO系バリスタで
はαが50にもおよぶものがある。このようなバリスタ
は比較的高い電圧の吸収には優れた性能を有しているが
、誘電率が低く固有の静電容量が小さいため、バリスタ
電圧以下の低い電圧や周波数の高いもの(例えばノイズ
など)の吸収に対してはほとんど効果を示さず、また誘
電損失tanδが6〜10%と大きい。
はαが50にもおよぶものがある。このようなバリスタ
は比較的高い電圧の吸収には優れた性能を有しているが
、誘電率が低く固有の静電容量が小さいため、バリスタ
電圧以下の低い電圧や周波数の高いもの(例えばノイズ
など)の吸収に対してはほとんど効果を示さず、また誘
電損失tanδが6〜10%と大きい。
一方、これらの低電圧のノイズなどの除去には見掛けの
誘電率が6×10 程度で、tanδが1%前後の半導
体コンデンサが利用されている。しかし、このような半
導体コンデンサはサージなどによりある限度以上の電圧
、電流が印加されると破壊したり、コンデンサとしての
機能を果たさなくなったりする。そこで近年、S r
T iO3を主成分とし、バリスタ特性とコンデンサ特
性の両方の機能を有するものが開発されているが、バリ
スタ電圧が低く、αが大きく、誘電率が大きく、サージ
耐量が大きいといった必要とされるすべての特性を満足
するものは未だ得られていない。
誘電率が6×10 程度で、tanδが1%前後の半導
体コンデンサが利用されている。しかし、このような半
導体コンデンサはサージなどによりある限度以上の電圧
、電流が印加されると破壊したり、コンデンサとしての
機能を果たさなくなったりする。そこで近年、S r
T iO3を主成分とし、バリスタ特性とコンデンサ特
性の両方の機能を有するものが開発されているが、バリ
スタ電圧が低く、αが大きく、誘電率が大きく、サージ
耐量が大きいといった必要とされるすべての特性を満足
するものは未だ得られていない。
発明が解決しようとする問題点
半導体及び回路をノイズ、静電気から保護するためには
バリスタ電圧が低く、α、誘電率、サージ耐量が大きく
、ノイズ減衰特性の優れた素子が必要である。
バリスタ電圧が低く、α、誘電率、サージ耐量が大きく
、ノイズ減衰特性の優れた素子が必要である。
本発明はこのような必要とする特性すべてを同時に満足
させるものである。
させるものである。
問題点を解決するための手段
本発明は上記の問題点を解決するために(Ca、5r1
−、)アTi○3(0.○o1≦x≦0.4 ) (0
.95≦y<1.00)(BaaSrl−a)bTiO
3(0.○o1≦a≦0.4) (0.96≦b<1.
00)(MgcS rl−c )d” 1o3(0.0
01≦c≦0.a ) (0.96≦d<1.00)の
うち少なくとも1種類以上を95.000〜99.99
7mol%、Y2O3,YF3のうち少なくとも1種類
以上を0.001〜2.000mo7%、C02O3を
0.Oo1〜2、OOOmod%、 CuOを0.00
1〜1.OOOmod%を含有してなる電圧依存性非直
線抵抗体磁器組成物を得ることにより上記問題点を解決
しようとするものである。
−、)アTi○3(0.○o1≦x≦0.4 ) (0
.95≦y<1.00)(BaaSrl−a)bTiO
3(0.○o1≦a≦0.4) (0.96≦b<1.
00)(MgcS rl−c )d” 1o3(0.0
01≦c≦0.a ) (0.96≦d<1.00)の
うち少なくとも1種類以上を95.000〜99.99
7mol%、Y2O3,YF3のうち少なくとも1種類
以上を0.001〜2.000mo7%、C02O3を
0.Oo1〜2、OOOmod%、 CuOを0.00
1〜1.OOOmod%を含有してなる電圧依存性非直
線抵抗体磁器組成物を得ることにより上記問題点を解決
しようとするものである。
作 用
一般にSrTiO3に電圧非直線性を持たせるには、一
度半導体化させた後、粒界部分だけを高抵抗化させるこ
とにより実現される。従って、半導体化の程度と高抵抗
化の程度によって特性が決まる。
度半導体化させた後、粒界部分だけを高抵抗化させるこ
とにより実現される。従って、半導体化の程度と高抵抗
化の程度によって特性が決まる。
そして、主成分としてS r T 103を用いると半
導体化は進行させることができるが、粒界部分を高抵抗
化させる段階で、粒界および粒界近傍が高抵抗化され、
粒界に形成されるバリヤの高さが低くなり、非直線性が
小さくなる。この原因はSrTiO3の粒界を十分に高
抵抗化させると、同時に粒内の抵抗もやや高くなるため
であると考えられる。従って、これを防ぐためには粒内
の抵抗を十分に小さくすることと、粒内の高抵抗化を進
みにくくする必要がある。
導体化は進行させることができるが、粒界部分を高抵抗
化させる段階で、粒界および粒界近傍が高抵抗化され、
粒界に形成されるバリヤの高さが低くなり、非直線性が
小さくなる。この原因はSrTiO3の粒界を十分に高
抵抗化させると、同時に粒内の抵抗もやや高くなるため
であると考えられる。従って、これを防ぐためには粒内
の抵抗を十分に小さくすることと、粒内の高抵抗化を進
みにくくする必要がある。
そこで、主成分としてS r T iOaのSr の一
部をCa、Ba、Mgで置換すると、粒内の酸素拡散係
数をS r T 103より小さくすることができる。
部をCa、Ba、Mgで置換すると、粒内の酸素拡散係
数をS r T 103より小さくすることができる。
すなわち、Sr の一部をCa、Ba、Mg で置換す
ると粒内が高抵抗化されにくくなる。
ると粒内が高抵抗化されにくくなる。
また、Ti に対する陽イオンの原子比(例えば(Ca
+Sr )/Ti )を1より小さくすると、Ti過剰
となり、欠陥が多数発生して半導体化を促進する。
+Sr )/Ti )を1より小さくすると、Ti過剰
となり、欠陥が多数発生して半導体化を促進する。
従って、Ti に対する陽イオンの原子比を1より小さ
くすると、素子の比抵抗をより小さくすることができる
。
くすると、素子の比抵抗をより小さくすることができる
。
このように、粒内を酸化されにくぐし、素子の比抵抗を
下げることにより、粒界に形成されるバリヤは高くなり
、非直線性は大きくなる。
下げることにより、粒界に形成されるバリヤは高くなり
、非直線性は大きくなる。
また、第2成分は主成分の半導体化を促進し、第3〜6
成分は粒界に偏析し、粒界の高抵抗化に有効に作用する
。
成分は粒界に偏析し、粒界の高抵抗化に有効に作用する
。
従って、本発明によればバリスタ特性とコンデンサ特性
の両方を同時に満足することができることとなる。
の両方を同時に満足することができることとなる。
実施例
以下に本発明の実施例をあげて具体的に説明する。
S rcOs 、 CaCo5、BaCo3,MgcO
3,T 102 全下記の第1表の組成比になるよう
に秤量し、ボールミルなどで60時間混合し、乾燥した
後、100゜°Cで10時間仮焼する。こうして得られ
た仮焼物を下記の第1表の組成比になるように秤量し、
ボールミルなどで24時間混合し、乾燥した後、ポリビ
ニルアルコールなどのバインダーを10wt%を 添加して造粒した後、1/C!Lのプレス圧力で10φ
III X 1 ’ uの円板状に成形する。この得ら
れた成形体は1000℃で2時間仮焼し、脱バインダー
を行った後、N2:H2=9:1の混合ガス中で160
0℃・3時間焼成する。さらに、空気中で1200’C
・6時間焼成し、こうして得られた第1図、第2図に示
す焼結体10両平面に外周を残すようにしてAq など
の導電性ペーストをスクリーン印刷し、600”C・6
分焼成し、電極2.3を形成する。
3,T 102 全下記の第1表の組成比になるよう
に秤量し、ボールミルなどで60時間混合し、乾燥した
後、100゜°Cで10時間仮焼する。こうして得られ
た仮焼物を下記の第1表の組成比になるように秤量し、
ボールミルなどで24時間混合し、乾燥した後、ポリビ
ニルアルコールなどのバインダーを10wt%を 添加して造粒した後、1/C!Lのプレス圧力で10φ
III X 1 ’ uの円板状に成形する。この得ら
れた成形体は1000℃で2時間仮焼し、脱バインダー
を行った後、N2:H2=9:1の混合ガス中で160
0℃・3時間焼成する。さらに、空気中で1200’C
・6時間焼成し、こうして得られた第1図、第2図に示
す焼結体10両平面に外周を残すようにしてAq など
の導電性ペーストをスクリーン印刷し、600”C・6
分焼成し、電極2.3を形成する。
次に、半田などによりリード線を取付け、エポキシなど
の樹脂塗装を行う。
の樹脂塗装を行う。
このようにして得られた素子の特性を以下の第2表に示
す。
す。
なお、第2表における誘電率は1kHzでの静電容量か
ら計算したものであり、サージ耐量はパルス性の電流を
印加した後のvlmA (1mAの電流を通した時の電
圧)の変化が±10係以内である時の最大のパルス性電
流値により評価している。
ら計算したものであり、サージ耐量はパルス性の電流を
印加した後のvlmA (1mAの電流を通した時の電
圧)の変化が±10係以内である時の最大のパルス性電
流値により評価している。
以下余白
発明の効果
以上に示したようにSr をCa、Ba、Mg で置換
し、陽イオンと陰イオンの原子比をT1 過剰にするこ
とにより、半導体化が促進される。特に、陽イオンと陰
イオンの原子比はバリスタ電圧に著しく影響し、バリス
タ電圧を下げることにより誘電率を大きくし、サージ耐
量の改善を可能にする。
し、陽イオンと陰イオンの原子比をT1 過剰にするこ
とにより、半導体化が促進される。特に、陽イオンと陰
イオンの原子比はバリスタ電圧に著しく影響し、バリス
タ電圧を下げることにより誘電率を大きくし、サージ耐
量の改善を可能にする。
例えば、(CaxSr1−り、Ti○3と表わした場合
のXの値は0.001未満では置換による効果が見られ
ず、0.4を越えるとCaが固溶限界を越えて粒界に析
出するため、粒子径が小さくなるためバリスタ電圧が高
くなり、誘電率の低下、サージ耐量の低下をもたらし、
望ましくない。また、yの値は1、00の場合は半導体
化があまり促進されずバリスタ電圧が高く、0.96未
満ではTi が過剰となるために分離して結晶化し、粒
子径が小さくなるためバリスタ電圧が高くなり、微構造
が不均一になるためサージ耐量が著しく低下する。
のXの値は0.001未満では置換による効果が見られ
ず、0.4を越えるとCaが固溶限界を越えて粒界に析
出するため、粒子径が小さくなるためバリスタ電圧が高
くなり、誘電率の低下、サージ耐量の低下をもたらし、
望ましくない。また、yの値は1、00の場合は半導体
化があまり促進されずバリスタ電圧が高く、0.96未
満ではTi が過剰となるために分離して結晶化し、粒
子径が小さくなるためバリスタ電圧が高くなり、微構造
が不均一になるためサージ耐量が著しく低下する。
Y2O3,YF3 は半導体化を促進するが、0.0
01mol%未満では効果を示さず、2.○OQmo7
%を越えると粒界の高抵抗化を抑制するため、αが小さ
く、tanδが犬きく、サージ耐量が小さくなり望まし
くない。
01mol%未満では効果を示さず、2.○OQmo7
%を越えると粒界の高抵抗化を抑制するため、αが小さ
く、tanδが犬きく、サージ耐量が小さくなり望まし
くない。
Co2O3,Cuoは粒界に偏析して粒界の高抵抗化に
寄与する。その効果は0.001 mol%未満では効
果を示さず、Co2o3は2.OOOmol%を越える
と、CuOは1.OOOmol%を越えると、バリスタ
電圧の増加、誘電率の低下をもたらし望ましくない。
寄与する。その効果は0.001 mol%未満では効
果を示さず、Co2o3は2.OOOmol%を越える
と、CuOは1.OOOmol%を越えると、バリスタ
電圧の増加、誘電率の低下をもたらし望ましくない。
また、Ag2O,Al2O3は粒界に偏析して粒界を補
強し、サージ耐量の増加に寄与する。その効果は0.○
o1mOl係未満では効果を示さず、3.000mol
%を越えるとバリスタ電圧の増加、誘電率の低下をまね
き望ましくない。
強し、サージ耐量の増加に寄与する。その効果は0.○
o1mOl係未満では効果を示さず、3.000mol
%を越えるとバリスタ電圧の増加、誘電率の低下をまね
き望ましくない。
さらに、S T02は粒子の成長を促進し、バリスタ電
圧の低下に寄与する。その効果は0.001 molチ
未満では効果を示さず、5.000 mol %を越え
ると粒界にガラス層が形成され、誘電率の低下、サージ
耐量の低下をもたらし望ましくない。
圧の低下に寄与する。その効果は0.001 molチ
未満では効果を示さず、5.000 mol %を越え
ると粒界にガラス層が形成され、誘電率の低下、サージ
耐量の低下をもたらし望ましくない。
以上に述べたように本発明によれば、バリスタ電圧が比
較的低く、αが犬きく、誘電率が犬きく、tanδが小
さく、サージ耐量が大きいといった特性を同時に満足す
ることができ、ノイズ及び静電気の吸収に必要なすべて
の特性を同時に満足することができ、実用1の効果は極
めて大きい。
較的低く、αが犬きく、誘電率が犬きく、tanδが小
さく、サージ耐量が大きいといった特性を同時に満足す
ることができ、ノイズ及び静電気の吸収に必要なすべて
の特性を同時に満足することができ、実用1の効果は極
めて大きい。
また、実施例では一部の組合せについてのみ示したが、
それ以外の組合せについても同様の効果があることを確
認した。
それ以外の組合せについても同様の効果があることを確
認した。
第1図、第2図は本発明の一実施例により得られた電圧
依存性非直線抵抗体素子を示す平面図。 正面図である。 1・・・・・・焼結体、2.3・・・・・・電極。
依存性非直線抵抗体素子を示す平面図。 正面図である。 1・・・・・・焼結体、2.3・・・・・・電極。
Claims (3)
- (1)(Ca_xSr_1_−_x)_yTiO_3(
0.001≦x≦0.4)(0.95≦y<1.00)
、(Ba_aSr_1_−_a)_bTiO_3(0.
001≦a≦0.4)(0.95≦b<1.00)、(
Mg_cSr_1_−_c)_dTiO_3(0.00
1≦c≦0.4)(0.95≦d<1.00) のうち少なくとも1種類以上を95.000〜99.9
97mol%、Y_2O_3、YF_3のうち少なくと
も1種類以上を0.001〜2.000mol%、Co
_2O_3を0.001〜2.000mol%、CuO
を0.001〜1.000mol%を含有してなる電圧
依存性非直線抵抗体磁器組成物。 - (2)(Ca_xSr_1_−_x)_yTiO_3(
0.001≦x≦0.4)(0.95≦y<1.00)
、(Ba_aSr_1_−_a)_bTiO_3(0.
001≦a≦0.4)(0.96≦b<1.00)、(
Mg_cSr_1_−_c)_dTiO_3(0.00
1≦c≦0.4)(0.95≦d<1.00) のうち少なくとも1種類以上を92.000〜99.9
96mol%、Y_2O_3、YF_3のうち少なくと
も1種類以上を0.001〜2.000mol%、Co
_2O_3を0.001〜2.000mol%、CuO
を0.001〜1.000mol%、Ag_2O、Al
_2O_3のうち少なくとも1種類以上を0.001〜
3.000mol%を含有してなる電圧依存性非直線抵
抗体磁器組成物。 - (3)(Ca_xSr_1_−_x)_yTiO_3(
0.001≦x≦0.4)(0.95≦y<1.00)
、(Ba_aSr_1_−_a)_bTiO_3(0.
001≦a≦0.4)(0.95≦b<1.00)、(
Mg_cSr_1_−_c)_dTiO_3(0.00
1≦c≦0.4)(0.96≦d<1.00) のうち少なくとも1種類以上を87.000〜99.9
95mol%、Y_2O_3、YF_3のうち少なくと
も1種類以上を0.001〜2.000mol%、Co
_2O_3を0.001〜2.000mol%、CuO
を0.001〜1.000mol%、Ag_2O、Al
_2O_3のうち少なくとも1種類以上を0.001〜
3.000mol%、SiO_2を0.001〜5.0
00mol%を含有してなる電圧依存性非直線抵抗体磁
器組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60220694A JPS6281003A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60220694A JPS6281003A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6281003A true JPS6281003A (ja) | 1987-04-14 |
Family
ID=16755024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60220694A Pending JPS6281003A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6281003A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5015492A (en) * | 1989-04-03 | 1991-05-14 | Rutgers University | Method and apparatus for pulsed energy induced vapor deposition of thin films |
-
1985
- 1985-10-03 JP JP60220694A patent/JPS6281003A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5015492A (en) * | 1989-04-03 | 1991-05-14 | Rutgers University | Method and apparatus for pulsed energy induced vapor deposition of thin films |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6281003A (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 | |
JP2830322B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 | |
JP2808775B2 (ja) | バリスタの製造方法 | |
JP2727693B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 | |
JP2800268B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 | |
JPS625611A (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 | |
JP2830321B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 | |
JP2555791B2 (ja) | 磁器組成物及びその製造方法 | |
JP2808777B2 (ja) | バリスタの製造方法 | |
JP2789675B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 | |
JPS6348802A (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 | |
JP2789674B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物およびバリスタの製造方法 | |
JP2808778B2 (ja) | バリスタの製造方法 | |
JP2548278B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 | |
JP2548277B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 | |
JP2630156B2 (ja) | 半導体磁器組成物及びその製造方法 | |
JP2555790B2 (ja) | 磁器組成物及びその製造方法 | |
JPS62134903A (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 | |
JP2580916B2 (ja) | 磁器組成物及びその製造方法 | |
JPH0740522B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 | |
JPS60206108A (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 | |
JPS60254704A (ja) | 電圧依存性非直線低抗体磁器組成物 | |
JPS60254703A (ja) | 電圧依存性非直線低抗体磁器組成物 | |
JPS63215019A (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 | |
JPH0682562B2 (ja) | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 |