JPS6278549A - 放射感受性フイルム用現像液およびこれを用いる現像法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポジのレジストフィルム、特にアルカリ凸丁
溶性柄月旨／ジアン゛ケトン系ホトレジストの現像につ
いて高いコントラストおよび高い感度を得るための手段
として、カルボキシル化界面活性剤および無機塩を水酸
化カリウム溶液に添加することに関する。５以とのコン
トラスト値（カンマ）が光学感度２５　ｍＪ／６ｎ２に
おいて、非露光レジストからのフィルム損失が無視でき
る状態で得られる。

本発明は出願中のジエイ・エムーレピスらの“硬調ホト
レジスト用現像液＋、米国特許出願第３６０．６００号
明細書（１９８４年１０月１５日出願）に開示される発
明をと回る改良である。

ホトレジストはフィルムが照射線源、たとえば紫外線ま
たは１子もしくはイオンのビームに露光されたのち現像
液に対するそれらの溶解性応答を変化させるポリマーフ
ィルムである。露光の結果、ホトレジストフィルムの露
光部と非露光部（マスクされた部分）との間に異なる溶
解速度が生じ、これによりフィルムの現像後に表面レリ
ーフパターンが得られる。

露光領域がより可溶性になるホトレジストはポジ作用性
であると呼ばれる。しかし、ホトレジストの溶解性の変
化は相対的な変化に１ぎす、ホトレジストのより溶解性
の低い非＾元部分ですらある程度は溶解するので、露光
された相対的に可溶性のホトレジスト部分と露光されな
かった相対的に不溶性のホトレジスト部分との現像速度
差（すなわちコントラスト）を高める方法はいずれも有
利である。

ポジのホトレジストは一般に水性アルカリ可溶性樹脂、
たとえはノボラック樹脂もしくはポリ（ｐ−ヒドロキシ
スチレン）、およびジアゾナフトキノンスルホン酸エス
テル系の光増感剤からなる。樹脂および光増感剤は回転
塗布などの方法により、有機の溶剤または溶剤混合物か
ら基板、たとえばシリコンクエーハおよびクロムめっき
ガラス板上に施すことｂ′−できる。ポジのホトレジス
トの処理に用いられる現像液はアルカリ水溶液、たとえ
ばケイ酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化テトラメチルアンモニウム。

および水酸化アンモニウムである。レジストの感度を高
めるために、神々の塩つ；現１ふ液に添加されている。

これらの塩にはリン酸ナトリウム、ホウ酸ナトリクム、
炭酸ナトリウム、およびケイ酸ナトリウムが含まねる。

対応する酸の添加によって塩ｂ；現イま液中に虫取する
ので、ナトリウム陽イオンシエ特に必要ではない。しか
しコントラストまたは解像能の改良は得られていない。

既存のポジのホトレジスト系は大部分が、処理条件に応
じて３〜５の最大コントラスト値（ガンマ）をもつ。こ
のオーダーのガンマに伴う問題は、報告された性能にお
いて明らかである。一般にこのオーダーのガンマは弱い
現像液および長い現像時間を採用して得られ、こねに伴
い処理鯖り；減少する。

５よりも大きなガンマは特定の界面活性剤を現像液に添
加することによって達成される。第四アンモニウム系界
面活性剤は水酸化テトラメチルアンモニウム系現像液の
コントラストを高め、フルオロカーボン系の非イオン界
面活性剤は水酸化アルカリ系（ｔなわちＮａＯＨおよび
ＫＯＨ）ｍ像ｎのコントラストを高める。これらの界面
活性剤は高いコントラストを与えるが、反復浸漬境像処
非については現像液寿命が限られている。一般に界面活
性剤の効果は第１材料が現像されたのち大幅に減少し、
その結果必要な４元ｆが変化する。これらの現像液は、
現像液ｂ″一連続的に補給される噴霧現像法には好適で
あり、またはパドル法の場合のように１回使用して廃棄
されろう高いコントラスト、高い感度、および安定な浴
寿命を与えるポジのホトレジスト用の水性塩基系現像液
が儀まれる。得らねるガンマは５以上、感度は４０　ｍ
Ｊ／創２以上、浴寿命は現像液１ガロン（約４ｔ）当た
りウェーハ４００以七でなければならない。

高いコントラストによって、ホトレジスト１ＭＩＩ象形
成に際して線幅調整およびプロセスラチチュードが得ら
れる。高い感度によって、露光器具における高いウェー
ハ処理′ｆａ：が可能となる。長い浴寿命によって、現
像浴の交換前に多数の基板を処理することができ、これ
によって時１ｄ）および経済性の点で現像液の使用経費
が低下する。

醒幅調整は、被覆された基板丘のステップまたは位相を
被僚したレジストに細い線を定めなければならない場合
に重装である。パターンを施されたレジストの幾何学的
形状の線幅は、線がステップを横切る際に寸法ｂ（変化
する。レジストのコントラストが高いほどステップを横
切る際の寸法の変化に対する影響が少ない。高いコント
ラストによって得へｔ′Ｉるプロセスラチチュードは、
隣接領域の非膵元レジストに影響を与えることなく霧光
レジストを過剰無光しうろことによる。その結果。

１μｍ以下のきわめて微細な幾何学的形状のパターンを
施すことｂ’−でき、レジストの処理は条件（たとえば
露光）の変化に対する感受性が低くなる。

高い感度はパターン付与過程の処理量にとって重要であ
る。必要な露光時間ｂ１短いほど、より多量の基板を一
定の露光器具により一定の時間内に処理でることができ
る。この特色は特に処理量６”−レジスト系の感度に決
定的に依存する直配式操作（たとえばｔ子ビームまたは
イオンビームリス法）について重要である。ホトリソグ
ラフィーについては、高い／１８度により露光器具の光
学素子を最良の質の画像を得るべく設定することが可能
となる。

より小さな開口によってより細い線のパターンを施すこ
とができ、これにより露光器具の処理量を犠牲にするこ
となく露光水準を低下させろことができる。これはレン
ズ系を通して基板上に画像を投写するプロジエクヅヨン
アライラーにおいて重要である。

硬調現保液は第１バッチが処理されたのち変化する可能
性がある。この変化は感度の変化およびパターンの線幅
ておける対応する変化として認められる。これらの変化
は線幅の調整にとって有害である。

従って、優れたコントラストを与え、後続バッチの基板
が現像されるのに伴って有意に変化せず、直径１０Ｄ＊
ａのノリコンウェーハ４００個相当分以とのオーダーの
ものを現像液４を中で現像できる程度の有効性を与える
改良された現像液が−要望ている。

本発明は光子、電子およびイオンを用いるリス露光に適
用できる。拝細には、感度ｔＪ″−改良されたため、半
導体デバイスおよびホトマスクの製造のためのリス処理
に際して、より高い処理ｆｉが得られる。本発明の現像
ｉは、画像が−デフォーカスされる投与露光７ステムに
おいて１ミクロン以下の比較的高い解像能を与える。す
なわちより高いコントラストにおいてより微細な幾何学
的寸法のパターンをレジスト性能施すことができる。さ
らに本発明は、浸漬現像液として用いる場合、現像浴の
寿命期間にわたって安定なレジスト性能を与えるＯ 本発明によれば、カルボキシル化界面活性剤を含有する
水性アルカリ金属塩基に無機化合物１種または２種以上
（通常はイオンを供給する無機塩、たとえば炭酸カリウ
ム）を添加することによって。

高いコントラスト、感度および浴寿命ｔ）−得られる。

好ましいアルカリ金属塩基は水酸化カリウムまたは水酸
化ナトリウムである。本発明の意図する界面活性剤は次
式に含まれるものである。

Ｒ−０−＜Ｃ２Ｈ４０）ｎ−ＣＨ２−ＣＯＯＸ式中、Ｒ
は炭素原子６〜１８個を有する直鎖または分枝炭化水素
残基、特にアルキル基であり、ｎは１〜２４の値を有し
、Ｘはに＋、Ｎａ＋まりｋｉ　Ｈ”などの陽イオンであ
る。＠記の米国特許第３６０，６００号明細書に詳述さ
れるように、カルボキシル化界面活性剤を含有させるこ
とにより、ホトレジスト用現像液にきわめて実用的なコ
ントラストの改良ｂ′−得られる。本発明の知見により
イオン供給性無機化合物（最も一般的には無機塩）をカ
ルボキシル化界面活性剤と共に現は液に含有させること
によつ℃得られろ感度の増大は、無機塩を除いた場合に
カルボキシル化界面活性剤を含む現像液によって得られ
る感度と比べて一般に２倍以上であり、対応するフィル
ム慣失はない。本発明によれば、水性媒質中で解離して
陰イオンおよび陽イオンを供給すイ）無機塩いずれを用
いても感度を高めろことができる。本発明に使用できる
一般的な塩類には、陰イオン５０２−１ＣＯ３２−０、
Ｃｌ−Ｐ０４３−１Ｂｒ−９ＮＯ３−、ボレートまたは
シーケートを陽イオノＫ　。

Ｎａ＋、Ｃａ＋、Ｍｇ＋、Ｌｉ＋またはＨ＋と組合わせ
て含むものｔＪ−ある。一般的な塩には炭酸カリウム、
塩化カリウム、炭酸ナトリウム、塩化カル７ウム。

硫酸ナトリウム、リン酸カリウム、臭化カリウム、硝酸
マグネシウム、ホウ酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、塩
化リチウム、炭酸水素ナトリウ！・、炭酸などが含まれ
る。さらにこれらの陰イオンおよび陽イオンを溶液中に
放出しつる試薬は、現像液の実質的なｐＨ変化を生じな
い限り使用できろ。

たとえばこれはＣＯ２を水性現像液に吹込み、これによ
りＣ０３′−陰イオンを発生させることによって行うこ
とができる。現像液にカルボキシル化界面活性剤のほか
に無機塩を含有させた結果得られる浴寿命の長さは、米
国特許出願第３６０，６０１’）号明細書に記載さねた
カルボキモル化界面活性剤改質組成物により得ら才ｌる
改良された浴寿命を妨げることはない。

本発明の現像液と共に用いられるホトレジストは組成物
の熱光部分が現像に際してより可溶性になる増感剤−側
脂組成物である。

この種のポジのホトレジストに用いられる適切な増感剤
は、分子の隣接位にジアゾ基とケト基をもつジアゾケト
ン、たとえば以下に記載されるキノンジアジドスルホン
酸訪酌体である。米国特許第２，９５８．５９９　；　
３，０４６，１１０　；　３，０４６，１１４　；０．
０４６，１１６　；　３，０４６，１１８　；　３，０
４６．１１９；０．０４６．１２１　；　３，０４６，
１２２　；　ｓ、０４６，１２５　；０．１０６，４６
５　；　０．１５８．９８３　；ろ、６５５，７０９　
；　３，７１１，２８５　；　４．１７４．２２２号各
明細書。これらをここに参考として引用する。

光増感剤は樹脂の溶解性を低下させる作用をもつ。照射
に際して光増感剤は化学反応を受けてカルボン酸を生成
し、これが妬元領域のホトレジストの溶解速度を高める
。

適切なアルカリ可溶性樹脂なポジのホトレジストに使用
できる。本発明の意図するものには、たとえば予備重合
させたフェノール−アルデヒド檎月旨、たトエはフェノ
ールホルムアルデヒドれ、これらはノボラックとして知
られ、市販されている、この型の樹脂はたとえは米国特
許第ろ，２０１，２３９　；　５．８６Ｂ．２５４　；
　４．１　２０．２１　９および４．１　７’０．４　
７　０明細明細書に示され℃いる。これらの記載をここ
に参考として引用する。これらのフェノール−アルデヒ
ド拉（脂コンパウンドは有機溶剤および水性アルカリ浴
液に可溶性でたけれはならない。

多数の７工ノール系化合物およびアルデヒドもしくはア
ルデヒド生成化合物から崗知の合成法によりノボラック
樹脂が得られるであろう。使用できるフェノール糸化合
物にはフェノール、キンレノール、クレゾール、レゾル
ンノール，ナフトール、ハイドロキノン、アルキルフェ
ノールオヨヒ水素化フェノールが含まれるが、これらに
限定さねない。使用できるアルデヒドおよびアルデヒド
生成化合物にはホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
パラホルムアルデヒド、ホルマリン、アクロレイン、ク
ロトンアルデヒドおよびフルフラールｂ′−含まれるが
、これらに限定されない。

本発明によれば現像液に特定の無機塩を、米国特許第３
６０，６［’）０号明細書に記載されたカルボキシル化
界面活注剤と共に含有させることにより現像液の感度ウ
−著しく改良されることを本発明者らは見出した。本発
明によれば水性アルカリ金属塩基（好ましくは水酸化カ
リウム）かＩ−１なるカルボキシル化界面活性剤改質現
像液に無機塩を添加することにより、その後のコントラ
ストまたは担像浴寿命の損失なしに実質的な感度改良が
得ろｎる。

この性能の改良は塩等，界面活性剤および塩の儂匹のバ
ランスにより達成されろうそれぞれが予想できる様式で
コントラストおよび／筐たけ感度に影響を与えるからで
ある。たとえば塩基および／または塩のｇ１度を高める
と、フィルム損失が許容できないｈ度になる時点によっ
て定められる実用限界にまで感度が高まるであろう。界
面活性剤は高いコントラストを与えるが、これに伴って
現像速度ｂ′−低下する。この感度低下は、塩の存在に
よって増大した感度をある程度打消す。しかしカルボキ
シル化界面活性剤および塩が現像液の性能に与える影響
は七ｊぞれきわめて著しい。これは本発明を説明する具
体列の比較によって最も容易に認めｌ−１ｒＬる、たと
えば８５１）Ｉ）ｍのカルボキシル化界面活性剤が０．
２Ｎ−ＫＯＨｍ液中に存在すると、コントラスト値（ガ
ンマ）が例１および５に示さｒるよ５ｖＣそねそｔ′１
．２かｂ７ＶＣ改良さねる。界面活性剤の添加によって
２０　ｍＪ／ｃｍ２へわずかではあるが容易ｖｃＦｊ３
められる感度低下が生じる。しかし非す光レジストフィ
ルムの損失は界面活性剤を含有する現像液については５
％から損失なしの状態にまで低下する。

無機塩、たとえは炭酸カリウムの飽加によって、例１お
よび２７に示されるように感度が２０１ｎＪ／ｃ７ｎ２
から１２ｒｎＪ／ｃｍ２に増大τる。しかしフィルム損
失はより太き（（７％対５％）、コントラストは改良さ
れず、共に２のガンマを与える。界面活性剤を含有する
現像液にこの塩を添加すると。

例５および２６ＶＣ示すように感度は２５　ｍＪ　／ｃ
ｍ２から７　ｍＪ／６ｎ２に増大するが、非露光フィル
ムの損失が増加することはなく、共に損失がなく、かつ
コントラストは高い状態に維持され、共に７のガンマを
もつ。こ４らおよび他の例につぃ℃は、界面活性剤と無
機塩の組合せによって、コントラストおよび非露光レジ
ストを犠牲にすることな（感度の増大が得られた。

使用できる数種の塩類のうち炭酸塩が有利に使用される
ことが認められた。炭酸カリウムｂ；好ましいが他の炭
酸塩、たとえは炭酸す）　ＩＪクム、炭酸リチクムなど
も使用できる。さらに固体状または気体状の二酸化炭素
を直接に現像液に添加して。

溶液中で直接にカーボネートを生成してもよい。

あルイｔａｌｌイオンＫ＋、Ｎａ＋、Ｃａ＋、Ｍ　ｇ　
＋　＋、Ｌｉ”またはＨ＋および陰イオンＳｏ４”＋、
Ｇｔ−１Ｐ０．３１Ｂｒ＋、ＮＯ３−、ボレートもしく
はンリヶートを含む塩も使用できる。

本発明の現像液系において、界面活性剤は前記の米国特
許第３６０，６００号明細書に示されたもの、すなわち
次式により表わされるものである。

Ｒ−０−（Ｃ２Ｈ，−０）ｎＣＨ２ＣＯＯＸ式中、Ｒは
６〜１８個の炭素原子を有する直鎖または分枝炭化水素
残基であり、ｎは１〜２４の整数であり、ＸはＨ＋、Ｎ
ａ＋、Ｋ＋　または多数の他の陽イオンのうちのいずれ
かであり；Ｒは好ましくはＣ１□〜ＣＩ５　　の直鎖で
あり、ｎは好ましくは５であり；Ｘは好ましくはアルカ
リ塩基のものと同一の隅イオン（好ましくはカリウムお
よび米国特許出願第３６０，６００号明細書に示された
他の例）である。

現像液（たとえば水酸化カリウム系現像液）を本発明に
よるカルボキシル化界面活性剤もしくは塩を含有させず
に、または本発明による界面活性剤以外の界面活性剤た
とえばエーロゾル（Ａｅｒｏｓａｌ　）Ｏ８（０，００
５％）を含有させて用いた場合、コントラストは２．２
および２．６であり、感度は２５ｍ　Ｊ　／ｃｔｎ　　
以上であった。イオン供給性無機化合物をも現像液に含
有させた本発明の現像液を用いた場合、５以上のコント
ラスト値が得られ、その際感度は２５　ｒｎＪ／備２以
下２以下に５ｍＪ／ｃｙ２以下であり、１ガロン（約４
１）の現像液中で１００鰭のウェーハ４００個以とがホ
トレジスト性能の損失なしに現像される浴寿命であった
。

比較に際して用いたホトレジストハシアゾナフトキノン
スルホン酸エステル系の光増感剤を含むノボラック樹脂
であった。ホトレジスト被膜は回転塗布法により調製さ
れた。基板は半導体デバイスの製造に用いられるものの
代表例であるシリコンウェーハであった。これらのウェ
ーハを２００℃で脱水ベーク処理し、次いで被覆する直
前にヘキサメチルジンラザン蒸気で１０分間、室温にお
いて下塗り処理した。ウェーハを厚さ１μｍのフィルム
が得られる速度で回転させた。被覆されたウェーハな９
Ｏ℃で５０分間、強制空気対流炉内で焼付けした。焼付
けののちウェーハな紫外線または電子ビームに露光した
。

ホトリソグラフィーは同一ウェーハ上に種々の露光水準
を与えるために種々の光学濃度の窓を備えたオプト−ラ
イン（０ｐｔｏ−Ｌｉｎｅ　）ステップタブレット解像
マスクを通して被覆ウェーハを露光することからなるも
のであった。入射紫外線露光量は、ステップタブレット
マスクを通して露光量ゼロからレジストが基板まで現像
されるのに十分な露光ｔまでの範囲の露光後を与えるも
のであった。評価のために既知の露光水準の領域または
ウェーハを得るために、当莱者は他の方法を採用するこ
とＯｌできる。

電子ビーム露光は改造されていないパーキン−エルマー
自動走査型電子顕微鏡を手動調整により用いて行わ４た
。加速電圧２０　ＫｅＶ　をビーム電ａ６ｎＡで用いた
。電子ビームのラスターパターンは倍率ろｏｏｏｘ、作
業距離１２す１においてほぼ各通約２０．αｍの長さを
もつ正方形状であった。

しかしラスター領域の露光量は不均一であった。

電子ビーム露光パターンを完全にクリアーするのに必要
な最小露光時間を比較することにより感度の相対的変化
を評価した。

電子ビーム露光レジストについて本発明の採用により得
た感度の増大は例２８と２９の比較によって示さ４る。

比較例の現像液と比べて本発明については塩基の濃度が
低く、界面活性剤の濃度６”−高い点て注目されたい。

これらの変化は共に系の総本体的感度を低下させる傾向
をもつと思われた。

それにもかかわらず、本発明によればファクター５の感
度増大が得られた。

露光後にレジストを既知の現像液に適した方法。

たとえば浸液法、噴霧法およびパドル法のいずれによっ
ても本発明の現像用組成物と接触させることができる。

本発明の新規な現像用組成物は少なくとも９のｐＨ５好
ましくは約１０．５以上、より好ましくは１２以上のｐ
Ｈにおいて作動する。現像ののち、工作物を水でリンス
し、さらに常法により処理することができる。残留する
ホトレジストの厚さを適切な方法、たとえば干渉計法、
プロフィル測定法および楕円偏光測定法のいずれによっ
ても測定できる。

現像液の約ｏ、ｏｏｏｉ〜約１．０重量％の量のカルボ
キシル化界面活性剤を用いることが有利である。

より有効なカルボキシル化界面活性剤の水準は０．００
５〜０．５％である。好ましい範囲は０．０１〜０．１
％である。従って水酸化カリウムの一度を変化させて感
度水準を維持しなければならない。界面活性剤が多いほ
ど現像液は濃厚でなければならない。すなわち界面活性
剤の一度が高くなると、感度が−低下。この効果は本発
明を説明する各側において明瞭に証明される。たとえば
に２Ｇ０３４％を含有する０、１７５　Ｎ−ＫＯＨ溶液
については、界面活性剤濃度が１２０ｐｐｍから４８　
［１ｐｐｍに上昇すると感度がはぼファクター２低下す
る（例１８および１９）。カルボキシル化界面活性剤と
組会わせて現像液の約０．００１〜約２０％の量の無機
塩を使用することが有利である。より有効な水準の無機
塩は０．１〜１５％である。好ましい範囲は１−１０％
である。従って一定のカルボキシル化界面活性剤および
カルボキシル化界面活性剤彦度について目的とする、ま
たは最大の感度を得るために、水酸化カリウムおよび無
機塩の濃度を変化させなければならない。塩が−多量る
ほど感度は現像液ｂ；非露光フィルムを攻撃し始める時
点まで高くなる。例１９と２０の比較によりこの効果が
きわめて顕著に示される。カルボキシル（１面活性剤４
８０　ｐｐｍを含有する０、１７５　Ｎ−ＫＯＨ溶液に
ついて、Ｋ２ＣＯ３濃度が４％から８％に上昇するのに
伴い、感度は１７ｍＪ／ｍ２から５ｍＪ／ｃＭ２に増大
する。しかし結果的にゼロから１％へのフィルム損失の
増加も生じる。

アルカリ金属塩基にはＫＯＨのほかＶＣＮａＯＨｌＬｉ
ＯＨ，ケイ酸す）　ＩＪウムなと、または水性現像液に
溶解したとき等しいイオン塩基度の水酸化カリウムを供
給しうる化合物も含まれる。たとえばケイ酸ナトリウム
を用いる場合、Ｎａ２Ｏ：　５ｉｎ２の比率は好ましく
は１：１〜５＝１である。アルカリ金属水酸化物の量は
、たとえばＫＯＨを用いる場合的０．１〜約１０％、好
ましくは０．５〜５％の範囲にある。炭酸カリウムのほ
かに使用できる塩ニハ、陰イオンＣｏ３”−、Ｃｌ−、
　Ｓｏ、−２，、Ｃｌ−。

Ｂｒ−、ＮＯ３−、ボレートまたはシリケートと陽イオ
ンＫ＋、Ｎａ＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ＋、Ｌｌ＋、またはＨ
＋を含むものが含まれる。溶液中でこれらのイオン種を
生成しうる試薬は、塩基の濃度が中和される塩基の量を
適正に補償する限り適している。塩の量は、たとえば炭
酸カリウムを用いる場合、０．１〜約２０％、好ましく
は１〜１０％の範囲にある。

ｐｐｍまたは％の値で表わした濃度は、生成現像液の重
量に対するものである。

以下の例は本発明をさらに説明するために提示される。

各別における詳細な列挙は特許請求の範囲に表示された
もの以外は限定と解すべきでない。

表示された部は特に指示しない限り現像液の重量に対す
る重量部である。

例１（比較例） ノボラック樹脂および表１の式１５ＶＣ示される光増感
剤の浴液からフィルムを回転塗布することによりホトレ
ジスト被膜を調製した。基板は７Ｕコンウエーハであり
、これは少なくとも１分間ホットプレー１−Ｊｚで５０
０℃の脱水ベーク処理され。

次いで被覆直前てヘキサメチルジシラザン蒸気で１０分
間、室温において処理されていた。次いで、ウェーハを
回転させて、１μｍの厚さの感光性樹脂組成物のフィル
ムを得た。被覆したウェーハを９０℃で５０分間、強制
空気対流炉内でベーキングした。ベーキングののち、同
一ウェーハとに種々の露光水準を得ろために１種々の光
学濃度の窓を備えたオプト−ラインステップタブレット
解像マスクを通してウェーハを紫外線に露光した。入射
露光量は透光量ゼロからレジストが基根まで現像される
のに十分なにに光量までの範囲のものであった。０．２
０ＯＮ水性水酸化カリウム現像−液を調製した。被覆さ
れた基板をこの現像液中で２２°Ｃにおいて６０秒間浸
漬現像した。工作物を脱イオン水中テリンスし、乾燥さ
せた。コントラストおよび感度のデータを表１に示す。

例２（比較例） エーロゾルＯ８（イソプロピルナフタリンスルホン酸ナ
トリウム、アメリカンΦサイアナミツドから得られる非
フツ素化界面活性剤）０．００５％を疹加して０．２５
ＯＮ水性水酸化カリウム現浄液を調製した。基板は例１
の記載に従って調製された。処理された基板をこの現像
液中で２２°Ｃにおいて６０秒間浸漬現像した。工作物
を脱イオン水でリンスし、乾燥させた。コントラストお
よび感度のデータを表Ｕに示す。

例５（比較例） ０．２０ＯＮ水性水酸化す）　ＩＪヮム現像液を調製し
た。基板は例１の記載に従って調製された。処理さねた
基板をこの現像液中で２２℃において６０秒間凝Ｕ現像
した。工作物を脱イオン水中でリンスし、乾燥させた。

コントラストおよび感度のデータを表１に示す。

例４（比較例） メタケイ酸ナトリウム０．１８０Ｍおよびリン酸ナトリ
ウム０．１０Ｍの水性現像液を調製した。基板は例１の
記載に従って調製された。処理された基板をこの現像液
中で２２℃において６ｏ秒間陸偵現像した。工作物を脱
イオン水中でリンスし、乾燥させた。コントラストおよ
び感度のデータを表１に示す。

例５（比較例） 界面活性剤混合物Ｒ−０（Ｃ２Ｈ４０）５０Ｈ２−ＣＯ
ＯＸ（式中ＲはＣ１□Ｈ２５〜ＣＩ５　Ｈ３１の直鎖炭
化水素残基であり、ＸはＨ＋である）　８５１）Ｉ）ｍ
を用いて０．２０ＯＮ水性水酸化カリウム状像液を調製
した。

基板は例１の記載に従って調製された。処理された基板
をこの現像液中で２２°Ｃにおいて６ｏ抄間ＭＭ現像し
た。工作物を脱イオン水中でリンスし。

乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表１に
示す。

例６．（比較例） 例５で用いた界面活性剤８３ｐｐｍを添加して０．２０
ＯＮ水性水酸化ナトリウム現像液を調製した。基板は例
１の記載に従って調製された。処理された基板をこの現
像液中で２２℃において６０秒間浸漬現像した。工作物
を脱イオン水中でリンスし、乾燥させた。コントラスト
およびＡ％　度のデータを表０に示す。

例７（比較例） 例５で用いた界面活性剤８３ｐｐｍを添加してメタケイ
酸ナトリウム０．１８０Ｍおよびリン酸ナトリウム０．
１００Ｍの水性現像液をＭ４製した。基板は例１の記＠
ＶＣ従って調製された。処理された基板ヲこの現像液中
で２２℃において６０秒間浸漬現像した。工作物を脱イ
オン水中でリンスし、乾燥させた。コントラストおよび
感度のデータを表■に示す。

例８（比較例） 界ｔｎ活ｔｌｌＪｍｅ物Ｒ−ｏ（Ｃ２Ｈ，０）５ＣＨ２
−ＣＯＯＨ（式中ＲはＣｌ２Ｈ２５〜Ｃ１５Ｈ３１の分
枝炭化水素残基である）８０ｐ１）ｍを用いて０．２０
ＯＮ水性水酸化カリウム現１象液を調製した。基板は例
１の記載に従って調製された。処理された基板をこの現
像液中で２２°Ｃにおいて６０秒間浸漬現像した。工作
物を脱イオン水中でリンスし、乾燥させた。得ら４．た
コントラストおよび感度のデータを表１に示す・ 例９（比較例） 例８で用いた界面活性剤ｓ　ｏ　ｐｐｒｕを用いて０．
２０ｔｌＮ水性水酸化ナトリウム現像液を調製した。基
板は例１の記載と同様にして調製された。処理された基
板をこの現像液中で２２℃において６０秒間浸漬現像し
た。工作物を脱イオン水中でリンスし、乾燥させた。コ
ントラストおよび感度のデータを表■に示す。

例１０（比較例） 式Ｇ２Ｈ５−０−（Ｃ２Ｈ４０）、ＣＨ２−ＣＯＯＨの
界面活性剤ｓ　ｏ　ｐｐｍを用いて０．２０ＯＮ水性水
酸化カリウム現像液を調製した。基板は例１の記載に従
って調製された。処理された基板をこの現像液中で２２
℃で６０秒間浸漬現像した。工作−を脱イオン水中でリ
ンスし、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータ
を表口に示す、 例１１（比較例） 式Ｃ，Ｈ８０−（ｃ２Ｈ，Ｏ）、−ＣＲ２−ＧＯＯＨノ
界面活性剤ｓ　ｏ　ｐｐｍを用いて０．２０ＯＮ水性水
酸化カリウム現１．＊液を調製した。基板は例１の記載
に従って調製された。処理された基板をこの現像液中で
２２℃において６０秒間浸漬現像した。工作物を脱イオ
ン水中でリンスし、乾燥させた。コントラストおよび感
度のデータを表ＵＶｃ示す。

例１２（比較例） 式Ｃ２３Ｈ２７０−（Ｃ２Ｈ４０）　、８−ＣＨ２−Ｃ
０ＯＨの界面活性剤ｓ　ｏ　ｐｐｍを用いて０．２［１
ＯＮ水性水酸化す）　ｌ］ウム現像液を調製した。基板
は例１の記載と同杼にして調ｉされた。処理された基板
をこの現像液中で２２℃において６０秒間浸漬現ｆ象し
た。工作物を脱イオン水中でリンスし、乾燥させた。コ
ントラストおよび感度のデータを表１に示す。

例１５（比較例） 式（ｉ　−ＣＨ＞　−０−（Ｃ２Ｈ４０）　５ＣＨ２−
Ｃ０ＯＨの痒面活性１ａｒｌｌ　８０　ｐｐｍを用いて
０．２０ＯＮ水性水酸化カリウム現像液を調製した。基
板は例１の記載に従って調ネ“！さｊた。処理された基
板なこの現像液中で２２℃において６０秒間＆［現像し
た。

工作物を脱イオン水中でリンスし、乾燥させた、コント
ラストおよび感度のデータを表２に示す。

例１４（比較例） 水酸化ナトリウム０．１２６Ｎおよびホウ酸ナトリウム
０．２７１Ｎの水性現像液をυ−４製した。基板は例１
の記載に従って調製された。処理された基板をこの現像
液中で２２℃【おいて６０秒間授ｉ〃現像した、工作物
を脱イオン水中でリンスし、乾燥させた。コントラスト
および感度のデータを表１に示す。

例１５（比較例） 世１５で用いた界面活性剤８５　ｐｐｍを添加して水酸
化ナトリウム０．１２６Ｎおよびホウ酸ナトリウム０．
２７１Ｎの水性現像液を調製した。基板は列１の記載に
従って調製さねた。処理された基板をこの現像液中で２
２℃において６０秒間Ｕ泄現像した。工作物を脱イオン
水中で１）ンスし、乾燥させた。コントラストおよび感
度のデータを表１１に示す。

例１６ 例５で用いた界面活性剤ｓ　［１１）Ｉ）ＩＩＩおよび
ｉＭＡ化カリウム１％を添加して０．２０ＯＮ水性水酸
化カリウム現像液を調製した。基板に例１の記載に従っ
て調製された。処理された基板をこの現１人液中で２２
℃において６０秒間ダＦＺ現像した。工作物を脱イオン
水でリンスし、乾燥させた。コントラストおよび感度の
データを表［１に示す。

例１７ 例１５で用いた界面活性剤１ｎ２ｐｐｔｎおよび炭酸カ
リウム２％を添加して０．１７５Ｎ水性水酸化カリウム
＃ｌ像液を調製した。基板は例１の記載に従って調製さ
れた。処理された基板をこの現像液中で２２℃において
６０秒間浸漬現像した。工作物を脱イオン水中でリンス
し、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表
■に示す。

例１日 例１５で用いた界面活性剤１２０ｐ１）ｍおよび炭酸カ
リウム４％を添加して０．１７５Ｎ水性水酸化カリクム
現像液を調製した。基板は例１の記載に従って調製さね
た。処理された基板をこの現像液中で２２℃において６
０秒間浸偵現イオした。工作物を脱イオン水中でリンス
し、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表
■に示す。

例１９ 例１５で用いた界面活性剤４８０　ｐｐｍおよび炭酸カ
リウム４％を添加して０．１７５Ｎ水性水酸化カリウム
現像液を調製した。基板は例１の記載に従って調製さす
また。処理された基板をこの現像液中で２２℃において
６０秒間浸漬現像した。工作物を脱イオン水中でリンス
し、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表
１１ＶＣ示す。

例２０ 例１５で用いた界面活性剤４８０　ｐＩ）ｍおよび炭酸
カリウム８％を添加して０．１７５Ｎ水性水酸化カリウ
ム現像液を陶製した。基板は例１の記載に従って調製さ
れた。処理さねた基板をこの現像液中で２２℃において
６０秒間浸漬現像した。工作物を脱イオン水中でリンス
し、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータをＮ
ｉｌに示す。

例２１ 例１５で用いた界面活性剤６０１）Ｉ）ｍおよび炭酸カ
リウム２％を添加して０．１５ＯＮ水性水酸化カリウム
現像液を調製した。基板は例１の記載に従って調製され
た。処理された基板ビこの現像液中で２２℃において６
０秒間浸漬現像した。工作物を脱イオン水中でリンスし
、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表Ｕ
に示す。

例２２ 例１５で用いた界面活性剤６０１）ｐｍおよび炭酸カリ
ウム０．５％を添加して０．１５ＯＮ水性水酸化カリウ
ム現像液を調製した。基板は例１の記載に従って調製さ
れた。処理された基板をこの現像液中で２２℃において
６０秒間浸漬現像した。工作物を脱イオン水中でリンス
し、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表
１に示す。

例２５ 例１５で用いた界面活性剤２４０　ｐｐｍおよび炭酸カ
リウム４％を添加して０．１７５Ｎ水性水酸化カリウム
現像液を調製した。基板は例１の記載に従って調製され
た。処理された基板をこの現像液中で２２℃において６
０秒間浸漬現像した。工作物を脱イオン水でリンスし、
乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表ＵＫ
示す。

例２４ 例１５で用いた界面活性剤４８０　ｐｐｍおよび炭酸カ
リウム４％を添加して０．２０ＯＮ水性水酸化カリウム
現像液を調製した。基板は例１の記載に従って調製され
た。処理された基板をこの現像液中で２２℃において６
０秒間浸漬現像した。工作物を脱イオン水中でリンスし
、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表Ｉ
に示す。

例２５ 例１５で用いた界面活性剤２４０ｐｐｍおよび炭酸カリ
ウム２％を添加して０．２０ＯＮ水性水酸化カリウム現
像液を調製した。基板は例１の記載に従って調製された
。処理された基板をこの現像液中で２２℃において６０
秒間浸漬現ｆ象した。工作物を脱イオン水中でリンスし
、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表■
に示す。

例２６ 例１５で用いた界面活性剤１２０ｐｐｍおよび炭酸カリ
ウム２％を添加して０．２０ＯＮ水性水酸化カリウム現
像液を調製した。基板を例１の記載に従って調製した。

処理された基板をこの現像液中で２２℃において６０秒
間浸漬現像した。工作物を脱イオン水中でリンスし、乾
燥させた。コントラストおよび感度のデータを表ａに示
す。

例２７（比較例） 炭酸カリウム０．５％を添加して０．２０ＯＮ水酸化カ
リウム現像液を調製した。基板を例１の記載に従って調
製した。処理された基板をこの現像液中で２２℃におい
て６０秒間浸漬現像した。工作物を脱イオン水でリンス
し、乾燥させた。コントラストおよび感度のデータを表
「に示す。

例２８（比較例） 例１の記載に従ってレジスト被膜を調製した。

試料を６ｎＡの電子ビームに６０秒間露光した。

この電子ビームにより生じたパターンの現像を、例１５
で用いた界面活性剤ｓ　ｏ　ｐｐｍを含む０．２０ＯＮ
炭酸カリウム溶液を用いて行った。走査型電子顕微鏡で
見たところパターンが得られていた。絶対的な感度およ
びコントラストは測定しなかった。

露光時間で表わした感度を表■に示す。

例２９ 例１の記載に従ってレジスト被膜を調製した。

試料を６ｎＡの電子ビームに５０秒以下露光した。

この電子ビームにより生じたパターンの現像を、例５で
用いた界面活性剤１２０ｐｐｍおよび炭酸カリウム６％
を含む０．１５ＯＮ水酸化カリウム溶液を現（’Ｉ’Ｑ
として用いて行った。生じたパターンは例６０で得たも
のと同様であった。露光時間で表わした感度を表１に示
す。

表 １ＫＯＨ（０，２ＯＮ）　　なし 一タリ ５　　Ｎａ０Ｈ（０，２ＯＮ）　　なし４　　Ｎａ　Ｓ
ｉＯ（０，１８Ｍ）／なしＮａ５ＰＯ，（０，１Ｍ） コＯＯＨ ５Ｈ１ ｏ　ｐｐｍ ６　　　Ｎａ０Ｈ（０，２ＯＮ）　　　例５と同じ７　
　　Ｎａ２５ｉＯ３（０，１８Ｍ）／　　例５と同じＮ
ａ５ＰＯ，（０，１０Ｍ　） Ｃ００ コ１５Ｈ。

ｓ　ｏ　ｐｐｍ ９　　　Ｎａ０Ｈ（０，２ＯＮ）　　　例８参照ン １４　　　　　　１．５　　　　　　　　８２２　　　
　　　１．５　　　　　　　　　５［（５５８０ 表　０（続） １１　　　　ＫＯＨ（０，２ＯＮ）　　　　０Ｈ−０−
（Ｃ２Ｈ，Ｏ）、−ＣＯＯＨｓ　ｏ　ｐｐｍ １２　　　ＫＯＨ（０，２ＯＮ）　　　　Ｃ１３Ｈ２７
−０−（Ｃ２Ｈ，Ｏ）、−ＣＯＯＨ８０ｐｐｍ Ｌ５　　　ＫＯＨ（０，２ＯＮ）　　　　（ｉ−Ｃ，８
Ｈ３７）−０−（Ｃ２Ｈ，）５−ＣＯｏｐｐｍ １４ＮａＯＨ（０，１２６Ｎ）／　　なしＮａ５ＢＯ３
（０，２７１Ｎ） １５　　　Ｎａ０Ｈ（０，１２６Ｎ）／　　例５参照Ｎ
ａ５ＢＯ３（０，２７１Ｎ） １６　　　ＫＯＨ（０，２０ＯＮ）　　　例５参照８０
ｐｐｍ　；　　ＫＣｌ　１％ １７　　　ＫＯＨ（０，１７５Ｎ）　　　例５参照１１
０２ｐ１）　　Ｋ２ＣＯ３２％ １８　　ＫＯＨ（０，１７５Ｎ）　　　例５参照１２０
　ｐｐｍ　　Ｋ２ＣＯ３４％ １９　　　ＫＯＨ（０，ｔ７５Ｎ）　　　例５珍魚；４
８０　ｐｐｍ　　Ｋｚ　Ｃｏ　３４　％感度　　　　コ
ントラスト　　フィルム損失１００　　　　　　＞１０
　　　　　　０５０　　　　　　＞１０　　　　　　０
０Ｈ５２１００ 表　ＩＩ（続） 例　　塩基　　　　　　　界面活性剤／塩２０　　　Ｋ
ＯＨ（０，１７５Ｎ）　　　例５参照；４８０ｐｐｍ　
Ｋ２ＣＯ３８％ ２１　　　ＫＯＨ（０，１５ＯＮ）　　　例５珍魚；６
０ｐｐｍＫ２ＣＯ３２％ ２２　　　ＫＯＨ（０，１５ＯＮ）　　　例５参照；６
０ｐｐｍ　　　Ｋ２ＣＯ３０，５％ ２５　　　ＫＯＨ（０，１７５Ｎ）　　　例５参照；２
４０ｐｐｍ　　Ｋ２ＣＯ３４％ ２５　　　ＫＯＨ（０，２０ＯＮ）　　　例５参照；２
４０ｐｐｍ、に２Ｇｏ３２％ ２６　　　ＫＯＨ（０，２０ＯＮ）　　　例５珍魚：１
２０ｐｐｍＫ２ＣＯ３２％ ＊　　例２１に比べて比較的少量の塩による改良が示さ
れる。

感　度　　　コントラスト　　フィルム損失（ｍＪ　７
ｃｍ２）　　　（ガンマ）　　　　（％）６０＊　　　
　　６　　　　　　０ 表　１　（続） Ｋ２ＣＯ２０，５％ ２８　　　ＫＯＨ（０，２０ＯＮ）　　　例５１照ｓ　
ｏ　ｐｐｍ ＊　　露光時間で表わす。

露光時間は感度に関連す−ある。

感度　　　　コントラスト　　フィルム損失（ｍＪ／ｍ
２）　　　Ｃガンマ）　　　　　（％）＊ ９０秒　　　　透明　　　　　　０ ＊ ５０秒　　　　透明　　　　　　０ 第１２頁の続き ０発　　明　者　　スーザン・アントワネ　　アメリカ
合ット・ファーガスン　　　力、ポック ０発　明　者　　ロランド・リー・チン　　アメリカ合
ル、セツジ の１発　　明　者　　ヴアレンテイン拳セオ　　アメリ
カ合ドア・ザパ゛　　　　　　　−ンフイー衆国ニュー
ヨーク州１４２２０．ウェスト・セネーズ・ロード　５
５４ 衆国ニューヨーク州１４２２１．ウィリアムズヴイムー
ア・コート　３９ 衆国ニューヨーク州１４０７５．ハムバーグ、グリルド
・ストリート　２０

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ａ）水性アルカリ金属塩基； （ｂ）水； （ｃ）総重量に対し少なくとも０．０００１％の次式 Ｒ−Ｏ−（ＣＨ＿２Ｈ＿４Ｏ）＿ｎ−ＣＨ＿２−ＣＯＯ
   Ｘ（式中Ｒは６〜１８個の炭素原子を有する直鎖または
   分枝炭化水素残基よりなる群から選ばれ、ｎは１〜２４
   の整数であり、ＸはＫ＾＋、Ｎａ＾＋およびＨ＾＋から
   選ばれる陽イオンである）のカルボキシル化界面活性剤
   ；および （ｄ）現像液の重量に対し約０．０１〜約２０重量％の
   イオン供給性無機化合物 からなる放射感受性フィルム用現像液。
2. （２）（ａ）水性アルカリ金属塩基； （ｂ）水； （ｃ）総重量に対し少なくとも０．０００１％の次式 Ｒ−Ｏ−（ＣＨ＿２Ｈ＿４Ｏ）＿ｎ−ＣＨ＿２−ＣＯＯ
   Ｘ（式中Ｒは６〜１８個の炭素原子を有する直鎖または
   分枝炭化水素残基よりなる群から選ばれ、ｎは１〜２４
   の整数であり、ＸはＫ＾＋、Ｎａ＾＋およびＨ＾＋から
   選ばれる陽イオンである）のカルボキシル化界面活性剤
   ；ならびに （ｄ）現像液の重量に対し約０．０１〜約２０重量％の
   ＳＯ＿４＾２＾−、ＣＯ＿３＾２＾−、Ｃｌ＾−、ＰＯ
   ＿４＾３＾−、Ｂｒ＾−、ＮＯ＿３＾−、ボレートおよ
   びシリケートよりなる群から選ばれる陰イオンと陽イオ
   ンＫ＾＋、Ｎａ＾＋、Ｃａ＾＋＾＋、Ｍｇ＾＋＾＋、Ｌ
   ｉ＾＋、およびＨ＾＋の無機塩 からなる放射感受性フィルム用現像液。
3. （３）（ａ）が水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム
   よりなる群から選ばれる、特許請求の範囲第１項に記載
   の現像液。
4. （４）（ｄ）が炭酸塩からなる、特許請求の範囲第１項
   、第２項または第３項に記載の現像液。
5. （５）約１０．５以上のｐＨを与えるのに十分なアルカ
   リ金属水酸化物を含有し、約０．０００５〜約０．５％
   の次式 Ｒ−Ｏ−（ＣＨ＿２Ｈ＿４Ｏ）＿ｎ−ＣＨ＿２−ＣＯＯ
   Ｘ（式中Ｒは６〜１８個の炭素原子を有する直鎖または
   分枝炭化水素残基よりなる群から選ばれ、ｎは１〜２４
   の整数であり、ＸはＫ＾＋、Ｎａ＾＋およびＨ＾＋から
   選ばれる陽イオンである）の界面活性剤、ならびに現像
   液の重量に対し約０．１〜約１５％のＳＯ＿４＾２−、
   ＣＯ＿３＾２＾−、Ｃｌ＾−、ＰＯ＿４＾３＾−、Ｂｒ
   ＾−、ＮＯ＿３＾−、ボレートおよびシリケートよりな
   る群から選ばれる陰イオンと陽イオンＫ＾＋、Ｎａ＾＋
   、Ｃａ＾＋＾＋、Ｍｇ＾＋＾＋、Ｌｉ＾＋、およびＨ＾
   ＋の無機塩を含有する水溶液からなる、基板上に施され
   、半導体デバイスまたは光学ホトマスクを形成する、露
   光された感光性フィルムを現像するための現像用組成物
   。
6. （６）アルカリ金属水酸化物が水酸化カリウムであり、
   無機塩が炭酸カリウムである、特許請求の範囲第５項に
   記載の組成物。
7. （７）（ａ）水性アルカリ金属塩基； （ｂ）水； （ｃ）次式 Ｒ−Ｏ−（ＣＨ＿２Ｈ＿４Ｏ）＿ｎ−ＣＨ＿２−ＣＯＯ
   Ｘ（式中Ｒは６〜１８個の炭素原子を有する直鎖または
   分枝炭化水素残基よりなる群から選ばれ；ｎは１〜２４
   の整数であり、ＸはＫ＾＋、Ｎａ＾＋およびＨ＾＋から
   選ばれる陽イオンである）のカルボキシル化界面活性剤
   ；ならびに （ｄ）現像液の重量に対し約０．０１〜約２０重量％の
   、カーボネート陰イオンならびに陽イオンＫ＾＋、Ｎａ
   ＾＋、Ｃａ＾＋＾＋、Ｍｇ＾＋＾＋、Ｌｉ＾＋およびＨ
   ＾＋を供給する無機塩 からなる放射感受性フィルム用現像液。
8. （８）（ａ）が水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム
   よりなる群から選ばれ、（ｃ）が約０．００５〜約０．
   ５％の量存在し、そして（ｄ）が約０．１０〜１５重量
   ％の量存在する（現像液の重量に対し）、特許請求の範
   囲第７項に記載の現像液。
9. （９）露光されたフィルムを （ａ）現像液の重量に対し少なくとも０．０００１％の
   次式 Ｒ−Ｏ−（ＣＨ＿２Ｈ＿４Ｏ）＿ｎ−ＣＨ＿２−ＣＯＯ
   Ｘ（式中Ｒは６〜１８個の炭素原子を有する直鎖または
   分枝炭化水素残基であり、ｎは１〜２４の整数であり、
   ＸはＨ＾＋、Ｎａ＾＋、Ｋ＾＋よりなる群から選ばれる
   ）のものから選ばれるカルボキシル化界面活性剤；およ
   び （ｂ）現像液の重量に対し約０．０１〜約２０％のイオ
   ン供給性無機化合物 を含有する水性アルカリ系現像液を接触させることより
   なる、基板上に塗布され、放射線に露光された、表面レ
   リーフパターンを形成するためのキノンジアジドスルホ
   ン酸誘導体およびアルカリ可溶性樹脂からなるポジの放
   射感受性レジストフィルムの現像法。
10. （１０）露光されたフィルムを （ａ）現像液の重量に対し少なくとも０．０００１％の
    次式 Ｒ−Ｏ−（ＣＨ＿２Ｈ＿４Ｏ）＿ｎ−ＣＨ＿２−ＣＯＯ
    Ｘ（式中Ｒは６〜１８個の炭素原子を有する直鎖または
    分枝炭化水素残基であり、ｎは１〜２４の整数であり、
    ＸはＨ＾＋、Ｎａ＾＋、Ｋ＾＋よりなる群から選ばれる
    ）のものから選ばれるカルボキシル化界面活性剤；なら
    びに （ｂ）現像液の重量に対し約０．０１〜約２０％の、Ｓ
    Ｏ＿４＾２＾−、ＣＯ＿３＾２＾−、Ｃｌ＾−、ＰＯ＿
    ４＾３＾−、Ｂｒ＾−、ＮＯ＿３＾−、ボレートおよび
    シリケートよりなる群から選ばれる陰イオンと陽イオン
    Ｋ＾＋、Ｎａ＾＋、Ｃａ＾＋＾＋、Ｍｇ＾＋＾＋、Ｌｉ
    ＾＋、およびＨ＾＋の無機塩 を含有する水性アルカリ系現像液と、フィルムの露光部
    分が少なくとも一部は溶解するまで接触させる ことよりなる、基板上に塗布され、放射線に露光された
    、表面レリーフパターンを形成するための、キノンジア
    ジドスルホン酸誘導体およびアルカリ可溶性樹脂からな
    るポジの放射感受性レジストフィルムの現像法。
11. （１１）カルボキル化界面活性剤が現像液の総重量に対
    し０．００１〜０．５％の範囲で存在し、無機塩が現像
    液の約０．１〜１５重量％の量存在する、特許請求の範
    囲第１項に記載の方法。
12. （１２）無機塩が炭酸カリウムである、特許請求の範囲
    第９項に記載の方法。