JPS6271314A - バタ−ニング方法 - Google Patents
バタ−ニング方法Info
- Publication number
- JPS6271314A JPS6271314A JP21062585A JP21062585A JPS6271314A JP S6271314 A JPS6271314 A JP S6271314A JP 21062585 A JP21062585 A JP 21062585A JP 21062585 A JP21062585 A JP 21062585A JP S6271314 A JPS6271314 A JP S6271314A
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- JP
- Japan
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- photoresist
- pattern
- substrate
- crystal
- patterning
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- Pending
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- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は基板のパターニング方法に関する。
本発明は基板のパターニング方法において、基板の表裏
に同一パターン全形成する際、フォトレジストを塗布し
た基板の表裏いずれか片側から表裏面のフォトレジスト
を同時に露光することに工り１表と裏のパターンの位置
関係を棺度工〈均一に形成するものである。
に同一パターン全形成する際、フォトレジストを塗布し
た基板の表裏いずれか片側から表裏面のフォトレジスト
を同時に露光することに工り１表と裏のパターンの位置
関係を棺度工〈均一に形成するものである。
従来の基板のパターニング方法の１例として。
ひとつの基板にｍ列ｎ行の音叉型水晶振動片形状を形成
する際のパターニング５法について、第４図に工り説明
する。ａ図の如く水晶基板４１の表裏面に蒸着あるいは
スパッタ等にエリＯｒ、、Ａｕ等の薄膜４２を付着し、
ｂ図の如くフォトレジスト４３を塗布し０図の如く邊動
片形状のマスク４４ｒ用いて表裏別々νこ露光し、ｄ図
の如く現像の後、ｎ記Ｏｒ Ｔ Ａ ｕ等の薄膜４２を
エツチングし、振動片パターン４５全形ｂｙしていた。
する際のパターニング５法について、第４図に工り説明
する。ａ図の如く水晶基板４１の表裏面に蒸着あるいは
スパッタ等にエリＯｒ、、Ａｕ等の薄膜４２を付着し、
ｂ図の如くフォトレジスト４３を塗布し０図の如く邊動
片形状のマスク４４ｒ用いて表裏別々νこ露光し、ｄ図
の如く現像の後、ｎ記Ｏｒ Ｔ Ａ ｕ等の薄膜４２を
エツチングし、振動片パターン４５全形ｂｙしていた。
さらに振動片形状４６の形成には一θ図の如く、水晶全
エツチングしてＭＴｘｔ、ていた。この時エツチングさ
れる形状は、表と裏の振動片パターンの位置関係に工っ
て決まる。またマスク４４．４４’を２枚用いて表裏同
時に露光する場合もあった。
エツチングしてＭＴｘｔ、ていた。この時エツチングさ
れる形状は、表と裏の振動片パターンの位置関係に工っ
て決まる。またマスク４４．４４’を２枚用いて表裏同
時に露光する場合もあった。
〔本発明が解決し、工うとする問題点及び目的〕しかし
２前述の従来技術、では露光の際表と裏のパターンの位
置合せの方法として１表裏別々に露光する場合には、基
板のある目印に対してマスクの位置合わせを表裏別々に
行なつ九り１表のマスク形状を露光し、現像の後基板の
エツジに表われ文ある目印をもとにＡ面のマスクの位置
合わせ合していｆｃ。これらの方法では表と裏でパター
ンの位置合わせの精度が出なかつ友す、露光が表裏別別
の為時間がかかってい次。１を表層同時に露光する場合
は表裏のマスクの位置合わせを行なつ友後露光してい比
。この方法では表と裏のパターンの位置精度かでなかつ
之り１表裏２枚のマスク精度関係にばらつきがあつ几り
、ｖＬ′ｙｔ機の表裏相方の光学系のバラツキ（ピント
・倍率等）等に工り表と矢でパターンがずれてしまう場
合がめった。
２前述の従来技術、では露光の際表と裏のパターンの位
置合せの方法として１表裏別々に露光する場合には、基
板のある目印に対してマスクの位置合わせを表裏別々に
行なつ九り１表のマスク形状を露光し、現像の後基板の
エツジに表われ文ある目印をもとにＡ面のマスクの位置
合わせ合していｆｃ。これらの方法では表と裏でパター
ンの位置合わせの精度が出なかつ友す、露光が表裏別別
の為時間がかかってい次。１を表層同時に露光する場合
は表裏のマスクの位置合わせを行なつ友後露光してい比
。この方法では表と裏のパターンの位置精度かでなかつ
之り１表裏２枚のマスク精度関係にばらつきがあつ几り
、ｖＬ′ｙｔ機の表裏相方の光学系のバラツキ（ピント
・倍率等）等に工り表と矢でパターンがずれてしまう場
合がめった。
そのずれ力はいずれの場合にも表長どちらかを基準Ｖこ
して第５図に示す様に、Ｘ、１５同、Ｙ方向、そして回
転（θ）方向のすね、があるが、たとえば音叉型水晶振
動片の場合では、ひとつの基板内にｍ列ｎ行の感動片パ
ターンが含ｔｈ、る時１％にθ方向にずれた場合には振
動数のバラツキが大きくなる。ここで第６因に示す音叉
型水晶振動片６１の撮動数ｆは、真中ｗ６２と腕長さ２
６３とすると（１）式で表わされる。
して第５図に示す様に、Ｘ、１５同、Ｙ方向、そして回
転（θ）方向のすね、があるが、たとえば音叉型水晶振
動片の場合では、ひとつの基板内にｍ列ｎ行の感動片パ
ターンが含ｔｈ、る時１％にθ方向にずれた場合には振
動数のバラツキが大きくなる。ここで第６因に示す音叉
型水晶振動片６１の撮動数ｆは、真中ｗ６２と腕長さ２
６３とすると（１）式で表わされる。
ｆ＝ｋＷ！ｆｉ！ （１）弐 ｋ：定数そこで
Ｘ方向のみ、あるいはＹ方向のみのずれでは−ｗ６２．
β６５がそれぞれｗ／−Ｒ／となり−ｆ’＝ｋ” ／
ｚ ｆ’＝ｋ” ／ ｌｔｚ ＶＣＬ ｌ）
ｆ）ｆ’−ｆ）ｆ”であるが、ひとつの基板内のｍ列ｎ
行の振動片間の撮動数のバラツキはない。・ところがθ
方向のずれについては−ｗ６２．ｎ６３が個々の振動片
でＷｌ ｊ！１− Ｗｌ ｕ、、 、・・・・・・とな
り、撮動数もそれぞれ１ｔ、 ＝ ｋＷｌ １，２
。
Ｘ方向のみ、あるいはＹ方向のみのずれでは−ｗ６２．
β６５がそれぞれｗ／−Ｒ／となり−ｆ’＝ｋ” ／
ｚ ｆ’＝ｋ” ／ ｌｔｚ ＶＣＬ ｌ）
ｆ）ｆ’−ｆ）ｆ”であるが、ひとつの基板内のｍ列ｎ
行の振動片間の撮動数のバラツキはない。・ところがθ
方向のずれについては−ｗ６２．ｎ６３が個々の振動片
でＷｌ ｊ！１− Ｗｌ ｕ、、 、・・・・・・とな
り、撮動数もそれぞれ１ｔ、 ＝ ｋＷｌ １，２
。
ｆ！＝ ｋ”！７ｘ：・・・・・・となり振動数のバラ
ツキが生じてぐる。、また１コの振動片内においても左
右の振動部のｗ、Ｑが異な９１両腕で撮動数が異なり振
動モレが発生する。
ツキが生じてぐる。、また１コの振動片内においても左
右の振動部のｗ、Ｑが異な９１両腕で撮動数が異なり振
動モレが発生する。
そこで本発明はこの工うな問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは１表と裏のパターンの位置関係を
精度工〈均一に形成することに工り１位置関係のバラツ
キに工って生ずる不具合点をなくすことを提供すること
にある。
の目的とするところは１表と裏のパターンの位置関係を
精度工〈均一に形成することに工り１位置関係のバラツ
キに工って生ずる不具合点をなくすことを提供すること
にある。
本発明の基板のパターニング方法は、基板の表＆面にフ
ォトレジストヲ塗布し、＠記フォトレジストをｊｌｌ尤
・現像することに工り表裏同一形状のパターンを作るパ
ターニング方法において、フォトレジスト１に塗布した
基板の表裏いずれか片側から前記表裏面のフォトレジス
ト”ｋ同時に露光スることを特徴とする。
ォトレジストヲ塗布し、＠記フォトレジストをｊｌｌ尤
・現像することに工り表裏同一形状のパターンを作るパ
ターニング方法において、フォトレジスト１に塗布した
基板の表裏いずれか片側から前記表裏面のフォトレジス
ト”ｋ同時に露光スることを特徴とする。
本発明の作用を述べれば、基板の表裏面に金属膜等を設
けずにフォトレジストｒ塗布し１表裏いずれか片側工り
表１！に面のフォトレジストを同時に露光することにＬ
す１表裏の形状の位置関係は常に均一に形成される。
けずにフォトレジストｒ塗布し１表裏いずれか片側工り
表１！に面のフォトレジストを同時に露光することにＬ
す１表裏の形状の位置関係は常に均一に形成される。
以下本発明のパターニング方法について、２つの実施例
を第１図−（１）、第１図−（２）で詳細に説明する。
を第１図−（１）、第１図−（２）で詳細に説明する。
まず第１図−（１）にひとつの基板にｍ列ｎ行有する音
叉型水晶振動片のパターニング方法について示し魁 ａ図の如く水晶基板１１の両面にフォトレジスト１２を
塗布し几後、ｂ図の如く振動片パターンのマスク１５を
用いて表裏いずれか片側工り平行光１４にて表裏面のフ
ォトレジストを同時に露光し、０図の如く現像する。さ
らにｄ図の如く、蒸着あるいはヌバツタ等に工１） −
Ｏｒ ＋ Ａ ｕ 等の薄膜１５ｆ？ｃ付着し、８図の
如くレジストを剥蝿すると振動片パターン１６が形成さ
れる。ま几さらに水晶をエツチングするとｆ図の如く振
動片形状１７が形成される。ここでｂ図のｗＬ元の際ウ
ェハチャック１８の表面が荒れてい九り、場所にぶつて
尤の反射率が異なると、特にウェハチャックと接する面
の振動片形状が均一でなくなる為、平面度１反射率等の
バラツキを極ぐ小さくする必要がある。
叉型水晶振動片のパターニング方法について示し魁 ａ図の如く水晶基板１１の両面にフォトレジスト１２を
塗布し几後、ｂ図の如く振動片パターンのマスク１５を
用いて表裏いずれか片側工り平行光１４にて表裏面のフ
ォトレジストを同時に露光し、０図の如く現像する。さ
らにｄ図の如く、蒸着あるいはヌバツタ等に工１） −
Ｏｒ ＋ Ａ ｕ 等の薄膜１５ｆ？ｃ付着し、８図の
如くレジストを剥蝿すると振動片パターン１６が形成さ
れる。ま几さらに水晶をエツチングするとｆ図の如く振
動片形状１７が形成される。ここでｂ図のｗＬ元の際ウ
ェハチャック１８の表面が荒れてい九り、場所にぶつて
尤の反射率が異なると、特にウェハチャックと接する面
の振動片形状が均一でなくなる為、平面度１反射率等の
バラツキを極ぐ小さくする必要がある。
本５ｊ！施例でパターニングし几水晶基板をエツチング
して製造し之水晶振動片の振動数のバラツキを第２図に
、また従来方法でパターニングしｔ後エツチングして製
造した水晶扱動片の振動数のバラツキを第５図に示し几
。この様に、振動数のバラツキは約半分になった。
して製造し之水晶振動片の振動数のバラツキを第２図に
、また従来方法でパターニングしｔ後エツチングして製
造した水晶扱動片の振動数のバラツキを第５図に示し几
。この様に、振動数のバラツキは約半分になった。
次に第１図−（２）に、インクジェットプリンターヘッ
ドのパターニング方法について示し几。ａ図の如くガラ
ス基板１９の両面にフォトレジスト２０を塗布し友後、
ｂ図の如くヘッドパターンのマスク２１′ｔ−用いて表
裏いずれか片側ニジ平行光２２にて表裏面のフォトレジ
ストを同時に露光し。
ドのパターニング方法について示し几。ａ図の如くガラ
ス基板１９の両面にフォトレジスト２０を塗布し友後、
ｂ図の如くヘッドパターンのマスク２１′ｔ−用いて表
裏いずれか片側ニジ平行光２２にて表裏面のフォトレジ
ストを同時に露光し。
０図の如く現像する。さらにｄ図の如く、蒸着あるいは
スパッタ等に工り、Ｏｒ、Ａｕ等の薄膜２５を付着し、
８図の如くレジストを剥離するとヘッドのパターンが形
成され、ノズルパターン２４が形成できる６ま比さらに
ガラス基板をハーフエツチングすることに１９１図の如
くノズル形状２５が形成される。
スパッタ等に工り、Ｏｒ、Ａｕ等の薄膜２５を付着し、
８図の如くレジストを剥離するとヘッドのパターンが形
成され、ノズルパターン２４が形成できる６ま比さらに
ガラス基板をハーフエツチングすることに１９１図の如
くノズル形状２５が形成される。
！！た本実残飼では、音叉型水晶振動子及び、インクジ
ェットプリンタヘッドの例で示し友が、それのみに限ら
ず、プリンター用ワイヤ拳ガイドのパターニング、乾式
メッキ用マスキング材のパターニング、圧電基板を用い
几真空センサー、圧力セ７”ｊ−等のパターニング、液
晶、エレクトロルミネツセンヌ等の表示素子の！他のパ
ターニング。
ェットプリンタヘッドの例で示し友が、それのみに限ら
ず、プリンター用ワイヤ拳ガイドのパターニング、乾式
メッキ用マスキング材のパターニング、圧電基板を用い
几真空センサー、圧力セ７”ｊ−等のパターニング、液
晶、エレクトロルミネツセンヌ等の表示素子の！他のパ
ターニング。
ガラス基板、プラスチック基板のパターニング等にも適
用できる。
用できる。
以上述べｔ工うに１本発明のパターニング方法に工れば
、基板の表裏面にフオトレジスｌｔ−塗布し、前記基板
の表裏いずれか片側工り表裏面のフォトレジストを同時
に４元することに工す、７ｔとえば音叉型水晶撮動片の
パターニングの場合には。
、基板の表裏面にフオトレジスｌｔ−塗布し、前記基板
の表裏いずれか片側工り表裏面のフォトレジストを同時
に４元することに工す、７ｔとえば音叉型水晶撮動片の
パターニングの場合には。
表と裏の振動片パターンの位置関係が均一になシ。
ひとつの基板にあるｍ列ｎ行の撮動片の振動数のバラツ
キが少なくなり、まｔ個々に振動片においても左右の振
動部の対称性が向上する為、振動モレが少なくなる。ま
之、インクジェットプリンターヘッドのパターニングの
場合には１表裏でノズルの位置関係が一定になり、イン
クの飛行が安定し、印字品質が向上する。まｔ他のパタ
ーニングの場合においても１表パターンと裏パターンの
位置関係が均一になり６位置関係のバラツキに工って生
ずるあらゆる不具合点を解決でき、ま７’Ｃ表パターン
と裏パターンの位置合わせ作業が不要になシ、大幅な歩
留向上、コストダウンが実施できる。
キが少なくなり、まｔ個々に振動片においても左右の振
動部の対称性が向上する為、振動モレが少なくなる。ま
之、インクジェットプリンターヘッドのパターニングの
場合には１表裏でノズルの位置関係が一定になり、イン
クの飛行が安定し、印字品質が向上する。まｔ他のパタ
ーニングの場合においても１表パターンと裏パターンの
位置関係が均一になり６位置関係のバラツキに工って生
ずるあらゆる不具合点を解決でき、ま７’Ｃ表パターン
と裏パターンの位置合わせ作業が不要になシ、大幅な歩
留向上、コストダウンが実施できる。
第１図−（１）（ａ） 〜（ｆ）及び第１図−（２）
（ａ） 〜（ｆ）は本発明のパターニング方法の２つの
実施例を示す工程図である。 第２図は本発明のパターニング方法の１実施例で製造し
之音叉製水晶振動片の振動数バラツキを示すグラフ。 第３図は従来のパターニング方法で製造した音叉型水晶
幾動片の撮動数バラツキを示すグラフ。 篇４図（ａ）へ・（ｅ）は従来のパターニング方法を示
す工程図である。 第５図（ａ）〜（Ｃ）は、音叉型水晶振動片の表裏パタ
ーンのずれ方を示す平面図である。 第６図は音叉型水晶撮動片の形状を示す平面図である。 １１・・・水晶基板 １２・・・フォトレジスト １５・・・マスク １４・・・平行光 １５・・・Ｏｒ、Ａｕ等の薄膜 １６・・・撮動片パターン １７・・・振動片形状 １８・・・チャック １９・・・ガラス基板 ２０・・・フォトレジスト ２１・・・マスク ２２・・・平行元 ２３・・・Ｏｒ、Ａｕ等の薄膜 ２４・・・ノズルパターン ２５・・・ノズル形状 ４１・・・水晶基板 ４２・・・Ｏｒ、Ａｕ等の薄膜 ４５・・・フォトレジスト ４４．４４’・・・マスク ４５・・・振動片パターン ４６・・・振動片形状 ６１・・・音叉型水晶Ｓ動片 ６２・・・腕偏：Ｗ ６３・・・腕長さ：２ 以上
（ａ） 〜（ｆ）は本発明のパターニング方法の２つの
実施例を示す工程図である。 第２図は本発明のパターニング方法の１実施例で製造し
之音叉製水晶振動片の振動数バラツキを示すグラフ。 第３図は従来のパターニング方法で製造した音叉型水晶
幾動片の撮動数バラツキを示すグラフ。 篇４図（ａ）へ・（ｅ）は従来のパターニング方法を示
す工程図である。 第５図（ａ）〜（Ｃ）は、音叉型水晶振動片の表裏パタ
ーンのずれ方を示す平面図である。 第６図は音叉型水晶撮動片の形状を示す平面図である。 １１・・・水晶基板 １２・・・フォトレジスト １５・・・マスク １４・・・平行光 １５・・・Ｏｒ、Ａｕ等の薄膜 １６・・・撮動片パターン １７・・・振動片形状 １８・・・チャック １９・・・ガラス基板 ２０・・・フォトレジスト ２１・・・マスク ２２・・・平行元 ２３・・・Ｏｒ、Ａｕ等の薄膜 ２４・・・ノズルパターン ２５・・・ノズル形状 ４１・・・水晶基板 ４２・・・Ｏｒ、Ａｕ等の薄膜 ４５・・・フォトレジスト ４４．４４’・・・マスク ４５・・・振動片パターン ４６・・・振動片形状 ６１・・・音叉型水晶Ｓ動片 ６２・・・腕偏：Ｗ ６３・・・腕長さ：２ 以上
Claims (1)
- 基板の表裏面にフォトレジストを塗布し、前記フォト
レジストを露光・現像することにより表裏同一形状のパ
ターンを作るパターニング方法において、フォトレジス
トを塗布した基板の表裏いずれか片側から前記表裏面の
フォトレジストを同時に露光することを特徴とする、パ
ターニング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21062585A JPS6271314A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | バタ−ニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21062585A JPS6271314A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | バタ−ニング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6271314A true JPS6271314A (ja) | 1987-04-02 |
Family
ID=16592423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21062585A Pending JPS6271314A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | バタ−ニング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6271314A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0288912U (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-13 |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP21062585A patent/JPS6271314A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0288912U (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-13 |
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