JPS6261124B2 - - Google Patents

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JPS6261124B2
JPS6261124B2 JP54023904A JP2390479A JPS6261124B2 JP S6261124 B2 JPS6261124 B2 JP S6261124B2 JP 54023904 A JP54023904 A JP 54023904A JP 2390479 A JP2390479 A JP 2390479A JP S6261124 B2 JPS6261124 B2 JP S6261124B2
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JP
Japan
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film
liquid crystal
polymer film
oxide
polymer
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JP54023904A
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English (en)
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JPS55114563A (en
Inventor
Tetsuo Nakagawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は高分子フイルムにおいて、該高分子フ
イルムの少なくとも片面にアンカー剤被膜を介し
て、酸化物被膜を形成せしめた高分子フイルムに
関する。 近年、薄型光学的表示装置の開発が望まれ、薄
型化を可能にするために、該表示装置のパネル材
として高分子フイルムを採用することが試みられ
ている、特にFE型液晶表示装置においてはパネ
ル材として偏光板を採用することが試みられてい
る。しかし偏光板をはじめとする各種高分子フイ
ルムに透明導電膜を直接に形成せしめた場合、
In2O3系、SnO2系、AuやCr等の透明導電膜と高
分子フイルム間の密着性が充分に確保できず、透
明導電膜形成後の工程(エツチング工程、ラビン
グ工程等)において、透明導電膜のハクリ切れ等
の問題が多発した。更にパネル間に挿入される液
晶や各種溶剤、電解質が高分子フイルムを溶解し
たり、変質させたりすることが多く、パネル材と
して採用出来る高分子フイルムの材質を極めて制
限していた。更に液晶や各種溶剤、電解質と相互
作用しない高分子フイルムを用いてパネルを制造
した後においても、前記高分子フイルムを透過す
る水分や各種ガスが原因し、パネルとしての長期
使用寿命を保証することが出来なかつた。 一方、FE型液晶表示装置の品質をみた場合、
最も偏光板の品質が劣り、前記液晶表示装置とし
ての使用寿命が偏光板の使用寿命で決まるといつ
ても過言ではなかつた。従がい現在の前記液晶表
示装置の品質安定化、長寿命化をはかるためには
偏光板の品質向上が必要であつた。 本発明は上記の事情に鑑みなされたものであ
り、その目的とするところは、アンカー剤被膜を
介して酸化物被膜を形成せしめた偏光子、偏光板
の偏光能を有する高分子フイルム及び各種透明高
分子フイルムを提供することにより、前記偏光
子、偏光板が組み込まれたFE型液晶表示装置の
総合的品質を安定化、長寿命化をはかることにあ
る。更に偏光子及び偏光板をはじめ各種透明高分
子フイルムをパネル材料として用いれば、パネル
に挿入される液晶や各種溶剤、電解質と前記高分
子フイルム間の相互作用が極めて低くおさえられ
ることから、用いられる高分子フイルムの材質上
の制限を大巾に緩めることにある。更に高分子フ
イルムの水分や各種ガスの透過性が改善されるこ
とから、前記高分子フイルムを用いた光学的表示
装置の使用寿命を大巾に延長することにある。上
記の目的が達成できたのは、下記の如く酸化物の
優れた特性によるものである。すなわち、酸化物
は化学的にも物理的にも極めて安定な化合物であ
ることから、用いられる各種有機物や無機物と接
触しても、何ら相互作用が認められず、更にその
緻密性により、水分や各種ガスの透過を極めて少
なくおさえられる。 ここでアンカー剤被膜を形成する目的は、高分
子フイルムと酸化物被膜間の密着性を強固なもの
とするためであり、用いられるアンカー剤の種類
は高分子フイルムの材質により使い分けられ、代
表的な例として、酢酸セルロースに適するアンカ
ー剤は、アミノシラン、エポキシシランやテトラ
アルキルチタン系化合物である。 ここで、アミノ基、エポキシ基、テトラアルキ
ル基は有機基であり、シラン、チタン系化合物は
加水分解基である。有機基は化学的結合によつて
高分子フイルムとの密着性をよくし、加水分解基
は同じく化学反応によつて酸化物との結合を強く
し、結果として、酸化物と高分子フイルムとの密
着性が高まるので、酸化物がクラツキングを生ず
ることもない。 製造方法は、各種アンカー剤を必要量溶解し、
且つ素材となる高分子フイルムとのぬれ性が良好
な溶媒に溶解した溶液を調整し、高分子フイルム
を前記溶液に浸漬し、ひき上げ、乾燥の工程を過
らせ、アンカー剤を加水分解させることにより、
密着性良くアンカー剤被膜を形成した。 次に酸化物被膜について述べると、その材質に
特に制限はないが、所薄の特性を得るには酸化物
被膜厚は少なくとも500Å以上必要になることか
ら、前記厚みでの酸化物被膜の透明性や製造しや
すさを考慮し、材質の選定が必要である。実験結
果から、SiO2,TiO2,ZrO2,等が特に良好な結
果を示した。製造方法は真空蒸着法、スパツタリ
ング法やイオンプレーテイング法の乾式メツキ法
や金属アルコラートを用いた加水分解法が適当で
ある。以下実施例を述べる。 実施例 1 ・高分子フイルム;ヨー素で染色したPVA偏光
子を有する偏光板(上下保護基板は三酢
酸セルロース、厚みは180μm ・アンカー剤被膜形成処理 1 処理液 ・アンカー剤:NH2 CH2 CH2 NHCH2 CH2
CH2 St(OCH33 ……A ・溶 媒:イソプロパノール ……B ・混合比:1:99=A:B(体積比) 2 塗布法 浸漬(約5秒間)引き上げ法 3 乾燥法 80℃.15分間(大気中) 4 被膜形成面 フイルム両面 ・酸化物被膜形成処理 ・RF低温スパツタリング法 1 形成酸化物(ターゲツト) SiO2 2 雰囲気 O2ガス導入し、5×10-3torr 3 印加電力 RF使用、2KW 4 被膜形成速度 100Å/min 5 処理温度 70℃ 6 被膜形成面 フイルム片面 上記の条件で偏光板の両面にアンカー剤被膜形
成し、その後片面だけに10分間スパツタ処理し、
SiO2を1000Å形成した。更にSiO2膜形成面に透
明導電膜(In2O3+SnO2=95:5重量比)を500
Å厚形成し、エツチングによりセグメントを形成
し、配向処理剤塗布後ラビングにより配向処理を
行なつた。これまでの工程において形成した
SiO2膜、透明導電膜にはハクリや切れ等の問題
は発生せず、極めて偏光板との密着性が良好であ
ることが証明された。 次にスペーサーとしてグラフフアイバー(直径
8μm、長さ約20〜30μm)を用い、第1図の構
造を有する液晶表示装置を製造した。 品質確認実験の結果、液晶と偏光板材料間の相
互作用は認められず、又耐湿性に関しては60℃90
%湿度雰囲気化で従来の約96時間寿命が約3倍の
290時間以上の寿命を示した。明らかにSiO2膜の
形成により、水分や各種ガスの浸透防止効果が表
われたことを示した。これによりパネル総厚(上
下パネル間厚)約370μmの薄型液晶表示装置の
製造が可能になつた。 実施例 2 ・ 高分子フイルム:ヨー素で染色したPVA偏
光子 ・アンカー剤被膜形成処理 1 処理液 ・アンカー剤 ・溶 媒 H2O ……B ・混合比 2:98=A:B(体積比) 2 塗布法 浸漬(約5秒)引き上げ法 3 乾燥法 80℃、15分間(大気中) 4 被膜形成面 フイルム両面 ・酸化物被膜形成処理 A 低温高速スパツタリング法 1 形成酸化物(ターゲツト)SiO2 2 雰囲気 O2ガス導入し、5×10-3torr 3 印加電力 RF使用.2KW 4 被膜形成速度 350Å/min 5 処理温度 75℃ 6 被膜形成面 フイルム両面 B 金属アルコラートの加水分解法 1 処理液 金属アルコラート:Ti〔OCH2CH(C2H5
C4H94……A 溶 媒 :Cl2FC―CClF2 ……B 混合比 :1:99=A:B(体積比) 2 形成法 浸漬(約5秒)引き上げ法 3 乾 燥 80℃、30分間(大気中) 4 被膜形成面 フイルム両面 上記の様にアンカー剤被膜形成後、A法により
片面10分間づつスパツタ処理し、3500ÅのSiO2
膜を形成した。又他偏光子には、上記のアンカー
剤被膜形成後、B法で浸漬引き上げ及び乾燥を4
回繰り返し、TiO2膜を2000Å形成した。それぞ
れの偏光子を偏光子に三酢酸セルロースを両面に
ラミネートした偏光板との間で第1表の品質比較
をした。
【表】 尚、第1表の数値は、可視波光線透過率の減衰
率が5%に達した時間を示す。 第2表から明らかな如く、酸化物被膜の形成に
より、特に耐湿性が著るしく向上したことが判か
り、これにより厚み21μm以下の最も薄いパネル
用材料の提供が可能になつた。 上述の如く本発明は、一対の高分子フイルム基
板間に液晶が封入されてなる液晶表示装置におい
て、該高分子フイルム基板の一方の基板上に少な
くとも分子内に有機基と加水分解性基を有するカ
ツプリング剤膜が被覆され、該カツプリング剤膜
上に500Å以上の膜厚を有する絶縁性酸化物被膜
が形成されてたから、前記有機基は高分子フイル
ムとの密着性を強くし、前記加水分解基は絶縁性
酸化物との結合を強くするので、絶縁性酸化物と
高分子フイルムとの密着性が向上し、絶縁性酸化
物の劣化が生じないので、絶縁性酸化物の透水防
止機能を大幅に向上することができる。この作用
は絶縁性酸化物の厚さが500Å以上なので効果が
現出し、従来の様に液晶や各種溶剤、電解質等に
よる高分子フイルムの溶解や変質及び高分子フイ
ルムを透過して液晶中に浸水する水分やイオン性
物質あるいは各種ガスが原因して発生する液晶表
示装置として重大な欠点である前記絶縁性酸化物
上に配設された透明導電膜の抵抗値の上昇や表示
装置の電流値上昇及び液晶内に気泡が発生するこ
とによる表示ムラ、劣化等の問題点がなく、真に
実用的な液晶表示装置をもたらすことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1に述べる薄型表示装置のパネ
ル部の構造図である。 1……偏光板、2……アンカー剤被膜、3……
酸化物被膜、4……透明導電膜、5……接着剤、
6……液晶(スペーサーとしてグラスフアイバー
を含む)。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 一対の高分子フイルム基板間に液晶が封入さ
    れ、前記高分子フイルム基板の内面に透明導電膜
    を有する液晶表示装置において、少なくとも前記
    一対の高分子フイルム基板の対向する表面上に、
    有機基と加水分解基を有するカツプリング剤被膜
    と、該カツプリング剤被膜上に形成された500Å
    以上の膜厚を有する絶縁性酸化物被膜とを有し、
    該絶縁性酸化物被膜上に前記透明導電膜が形成さ
    れたことを特徴とする液晶表示装置。
JP2390479A 1979-02-28 1979-02-28 High molecular film Granted JPS55114563A (en)

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