JPS61243426A - 液晶表示素子 - Google Patents

液晶表示素子

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Publication number
JPS61243426A
JPS61243426A JP8394985A JP8394985A JPS61243426A JP S61243426 A JPS61243426 A JP S61243426A JP 8394985 A JP8394985 A JP 8394985A JP 8394985 A JP8394985 A JP 8394985A JP S61243426 A JPS61243426 A JP S61243426A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
electrode
liquid crystal
insulating film
glass substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP8394985A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshizo Tashiro
田代 美三
Fumiaki Yamanashi
山梨 文明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to JP8394985A priority Critical patent/JPS61243426A/ja
Publication of JPS61243426A publication Critical patent/JPS61243426A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶表示素子に関し、特に、電極基板のガラ
ス基板と電極膜との間に形成される絶縁被膜に関する。
〔従来の技術〕
一般に、液晶表示素子(L 1quid Crysta
lD 1splay  :以下、LCDと略記する)の
電極基板は、第1図に示すように、ガラス基板1と、こ
のガラス基板1の上面に一様に被着された絶縁波n焚2
と、この絶縁被膜2の上面に表示パターンに応じた形状
に形成された電極膜3と、上面が平坦面となるように電
極膜3と絶縁被膜2とを被覆する配向膜4とで構成され
ている。
従来のLCDにおける絶縁被膜2は、真空蒸着法または
化学スプレー法を用いて、主として二酸化シリコン(S
inりもしくは二酸化チタン(T iOz )で形成さ
れていた。
〔従来の問題点〕
しかし、従来用いられていた真空蒸着法は、優れた特性
の絶縁被膜を形成することはできるが、量産性の点で問
題があった。
またぐ化学スプレー法は、形成される絶縁被膜の特性が
劣るとともに、材料の無駄が生じやすいという問題点が
あった。
一方、印刷法を使用することも考えられるが、量産性の
点で問題がある。
上記の各種方法に比べて、浸漬法は、数多くの電極基板
を同時に処理できるとともに材料の無駄が生ぜず、量産
に適しているという特徴がある。
しかし、従来の浸漬法では、S i Otのみで絶縁被
膜を作った場合に、その屈折率がインジウム−スズ(I
n−3n)酸化物からなる電極膜の屈折率より小さくな
るために、LCDとしてみたときに非駆動時に電極パタ
ーンが目立つという問題点があった。
また、電極膜の屈折率を上げるために、T i Ozを
2層に重ねることも行われているが、工程が増えてコス
ト高になるという問題点があった。
さらに、Ti0gを単層だけ設けると、ガラス基板から
液晶へのナトリウムイオン(Na”″)等のアルカリイ
オンの溶出が生じ、信頼性テストにおいて表示パターン
のにじみが生じるという問題点があった。
本発明は、上記従来の問題点を解消するために、アルカ
リイオンの液晶への溶出を防止するとともに、絶縁被膜
の屈折率を電極膜のそれに近づけることにより電極パタ
ーンを見えに<<シ、よって信頼性および表示品位を向
上させるようにしたしCDを提供することを目的とする
〔問題点を解決するための手段〕
本発明に係るLCDは、少なくともP b Oz −T
iO,を含む膜でなる絶縁被膜をガラス基板と電極膜と
の間に有する電極基板を備える。
〔作用〕
本発明によるLCDにおいては、絶縁被膜に含まれる酸
化鉛および酸化チタンが、ガラス基板から液晶へのNa
”等のアルカリイオンの溶出を有効に防止する。
また、酸化鉛および酸化チタンはその含有量に応じて絶
縁被膜の屈折率を変化させるので、絶縁被膜の屈折率を
電極膜のそれに近づけることにより非駆動時に電極パタ
ーンを見えにくくする。
〔実施例〕
本発明のLCDの一実施例においては、S i Oz−
PbOt  Ti1tの膜でなる絶縁被膜を浸漬法によ
り形成する。詳しくは、有機溶剤に可溶なケイ素(Si
 )の有機金属化合物、鉛(Pb )の有機金属化合物
およびチタン(Ti)の有機金属化合物を有機溶剤に溶
解させて相互に反応させるとともに、望ましくは溶液の
安定化のためにキレート化剤を添加して、生成された反
応生成物を均一に含有する溶液とし、この溶液にガラス
基板を浸漬後、焼成して有機溶剤を除去し、Sing 
 Pb0本−T i O□の膜でなる絶縁被膜をガラス
基板上に形成する。
上記溶液におけるpb%TiおよびSLの各有機金属化
合物の成分の割合は、酸化物の重量比で下記の範囲とな
るようにすることが好ましい。
pbo宜 = 25〜40(重量%)、Ti0i  =
  30〜40  (重量%)、、Sing  −残り
の割合。
なお、上記範囲よりP b Otが多くなると液晶表示
素子の信頼性が悪くなる一方、少なくなると非駆動時に
電極パターンが目立つようになる。また、上記範囲より
T i Otが多くなる孝非駆動時に電極パターンが目
立つようになる一方、少なくなると液晶表示素子の信頼
性が悪くなる。
ただし、本発明の目的を達成するならば、上記範囲に限
られるものではない。
上記Siの有機金属化合物としては、テトラメトキシシ
ラン(Si(OCHs)a ) 、テトラエトキシシラ
ン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン等の
有機シラン化合物がよい。
また、上記pbの有機金属化合物としては、テトラエト
キシ鉛、テトライソプロキシ鉛、テトラブトキシ鉛<P
b<0CaH9)a )等がよい。
さらに、上記Tiの有機金属化合物としては、テトラエ
トキシチタン、テトライソプロキシチタン、テトラ−□
n−ブトキシチタン(T i (OCa Hq)9)、
テトラアセチルアセトナートチタン等がよい。
これら有機金属化合物を溶解させる有機溶剤としては、
メチルエチルケトン(MEK) 、酢酸エチル、エタノ
ール、メタノ−′ル等がよい。
また、溶液の安定化のために添加するキレート化剤とし
ては、アセチルアセトン、トリエタノールアミン等がよ
い。
これらを混合して作成された溶液を浸漬液として使用し
、これにガラス基板を浸漬した後に、400℃以上特に
500℃程度の温度で焼成すると、310 z −P 
b Oz −T 1o z ノ膜でなる絶縁被膜が形成
される。浸漬液中に含有されるSi SPbおよびTi
の量、浸漬液の粘度、ガラス基板の浸漬液中からの引き
上げ速度等を制御することにより、膜厚が5000Å以
下の絶縁被膜を自由に形成することができる。
7  このようにして形成された絶縁被膜は、透明であ
ることはもちろん、膜強度が大きいとともに高い絶縁性
を有する。よって、ガラス基板からのNa”等のアルカ
リイオンの溶出を完全に防ぎ、信頼性の高いLCDを大
量に製造することを可能とする。
臭体斑 攪拌器および還流冷却器を備えた3首フラスコを攪拌さ
せながら、窒素ガス(N2)の導入下で、まず、 (1)エタノール+アセチルアセトン、(21T i(
OC4H9) a を順次フラスコに加える。次に、これらを還流させなか
ら無溝してから、 (315i(OCHs)a を加える。続いて、 (41Pb(OC,Hq)n を反応溶液中にさらに添加する。
このようにして作成された溶液の濃度は、酸化物濃度と
して、 Stow  =33.3 (重量%)、Pb0z  ”
33.3 (重量%)、TiO□ −33,3(重量%
) を有する。
この溶液を浸漬液として用い、固液にガラス基板を浸漬
してから、ガラス基板を毎分60C1lの引き上げ速度
で引き上げ、400〜500℃の温度範囲で30〜60
分間焼成した。この結果、ガラス基板上に膜厚が約10
00人の絶縁被膜が形成された。
絶縁被膜2が形成されたガラス基板l上に、さらにスパ
ッタリングにより電極膜3を形成し、パターニング後、
ポリイミド膜をコートしラビングによって配向膜4を形
成すれば、第1図に示したLCD用の電極基板が得られ
る。
この後、第2図に示すように、配向膜4側を互いに対向
させた2枚の電極基板をスペーサ5を介してギャップが
10μmとなるようにシール剤で貼り合わせ、このギャ
ップに例えばネマティック液晶6を封入し、各電極基板
に偏光板7を貼り付ければ、ツイストネマティック形の
LCDが完成する。
このようにして製作されたLCDは、少なくともPb0
z  TiO□を含む膜で絶縁被膜を形成したので、p
bおよびTiの含有量に応じて絶縁被膜の屈折率を1.
6〜2.1の範囲で調整可能であり、このため、5iO
z単層の場合の屈折率1.52に比べて非駆動時に電極
パターンが見えにくく、LCDとしての視認性がよい。
また、アルカリイオンが溶出してきたがどうかの判定の
基準となる駆動時の表示パターンのくずれ、いわゆるに
じみ現象が起こりにくい。例えば、80℃、90%の耐
湿加速試験下において、にじみ現象の発生時間は、5i
O1単層の場合に比べて、約30%長くなる。したがっ
て、常温常圧下においては、さらに長寿命のLCDとな
る。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、少なくともPb
Ox  Ti0iを含む膜でなる絶縁被膜が、ガラス基
板から液晶へのNa”等のアルカリイオンの溶出を防止
するとともに、絶縁被膜の屈折率を電極膜のそれに近づ
け電極パターンを見えにくくしてLCDの視認性を高め
るという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、液晶表示素子における電極基板の構成を示す
断面図、 第2図は、第1図に示した電極基板を用いて構成された
液晶表示素子の断面図である。 図において、                   
       、8゜ 1・・・・・ガラス基板、 2・・・・・絶縁被膜、 3・・・・・電極膜、 4・・・・・配向膜、 5・・・・・スペーサ、 6・・・・・液晶、 7・・・・・偏光板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ガラス基板と電極膜との間に介在する絶縁被膜を少なく
    ともPbO_2−TiO_2を含む膜で形成した電極基
    板を備えたことを特徴とする液晶表示素子。
JP8394985A 1985-04-19 1985-04-19 液晶表示素子 Pending JPS61243426A (ja)

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JP8394985A JPS61243426A (ja) 1985-04-19 1985-04-19 液晶表示素子

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JP8394985A JPS61243426A (ja) 1985-04-19 1985-04-19 液晶表示素子

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JPS61243426A true JPS61243426A (ja) 1986-10-29

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JP8394985A Pending JPS61243426A (ja) 1985-04-19 1985-04-19 液晶表示素子

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