JPS6260888A - 電鋳母型及びその製造方法 - Google Patents
電鋳母型及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS6260888A JPS6260888A JP19768585A JP19768585A JPS6260888A JP S6260888 A JPS6260888 A JP S6260888A JP 19768585 A JP19768585 A JP 19768585A JP 19768585 A JP19768585 A JP 19768585A JP S6260888 A JPS6260888 A JP S6260888A
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- Japan
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- ceramic
- mother die
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、被めっき体の表面に部分的に所望の絶縁部を
形成じしめた電鋳母型、ならびにその製造方法に関する
ものである。
形成じしめた電鋳母型、ならびにその製造方法に関する
ものである。
(従来技術とその問題点)
電錆母をは、例えば電気カミソリ用の網目)否孔を有す
る薄肉切刃状の金属網部材の製;聞によ3いて用いられ
る。即ち、金属基体の表面に前記透孔に対応する部分を
電気的に絶縁して金属の電気めっきを施し、形成しため
つき層を剥離して前記薄肉の金属網部材を製造している
が、そのための被めっき母型として用いられている。
る薄肉切刃状の金属網部材の製;聞によ3いて用いられ
る。即ち、金属基体の表面に前記透孔に対応する部分を
電気的に絶縁して金属の電気めっきを施し、形成しため
つき層を剥離して前記薄肉の金属網部材を製造している
が、そのための被めっき母型として用いられている。
従来、この種の電鋳母型は、金属基体の表面に合成ゴム
の薄膜を被着した後、所望の絶縁部を除く表面の合成ゴ
ムを溶剤により溶解して、絶縁部のみを合成ゴムでマス
キングして形成していた。
の薄膜を被着した後、所望の絶縁部を除く表面の合成ゴ
ムを溶剤により溶解して、絶縁部のみを合成ゴムでマス
キングして形成していた。
上記した従来の電鋳母型においては絶縁部のマスキング
材が合成ゴムであるのでめっき処理及び剥離工程におい
てキズか発生し易く、又マスギング祠か金属基体の表面
に凸状に形成されているので、めっき層の剥離性か悪く
、hつマスギング材か部分的に脱落を生じてその安定性
と耐久性に問題かあった。
材が合成ゴムであるのでめっき処理及び剥離工程におい
てキズか発生し易く、又マスギング祠か金属基体の表面
に凸状に形成されているので、めっき層の剥離性か悪く
、hつマスギング材か部分的に脱落を生じてその安定性
と耐久性に問題かあった。
(発明か解決しようとする問題点)
本発明は、上記した問題を解決するためになされたもの
であり、金属基体の表面に予め形成した凹部に△I20
s 、5io)及びCr’203からなる組成をイjし
、加熱焼成により安定な焼結体とされたセラミックを埋
設するようにしてマスキング刊を構成ブると、該セラミ
ックが金属基体に強固に結合されるとともに、電気めっ
き及びその後の剥離工程において、ギズ、脱落を生ずる
ことなく、安定かつ耐久性で市ることを見い出し、本発
明に至った。
であり、金属基体の表面に予め形成した凹部に△I20
s 、5io)及びCr’203からなる組成をイjし
、加熱焼成により安定な焼結体とされたセラミックを埋
設するようにしてマスキング刊を構成ブると、該セラミ
ックが金属基体に強固に結合されるとともに、電気めっ
き及びその後の剥離工程において、ギズ、脱落を生ずる
ことなく、安定かつ耐久性で市ることを見い出し、本発
明に至った。
(発明の構成)
本発明は、金属基体の表面に形成された細かい網目状の
凹部にAll 03 、S:o2及びCr r○、から
なる組成を有し、加熱焼成により安定な焼結体とされた
セラミックか埋設され、かつ金属基体の表面と前記レラ
ミツクの表面とか同一面に形成されてなる電鋳母型、及
びその製造方法に関するものである。
凹部にAll 03 、S:o2及びCr r○、から
なる組成を有し、加熱焼成により安定な焼結体とされた
セラミックか埋設され、かつ金属基体の表面と前記レラ
ミツクの表面とか同一面に形成されてなる電鋳母型、及
びその製造方法に関するものである。
本発明になる電鋳母型は、金属基体の表面に、予め細か
い網[1状の凹部を形成し、この裏面にA’ r Os
+ S j ())粉末に水溶性クロム酸化物の溶液
を加えて調整したスラリーを塗イli シ、乾燥後加熱
処理により焼成し、更に水溶性クロム酸化物の溶液を含
浸して加熱する処理を少なくとも1回繰返してセラミッ
ク層を形成し、その後面記ゼラミック層の凹部を除く金
属基体の表面か露出するまで研磨処理することにより製
造される。
い網[1状の凹部を形成し、この裏面にA’ r Os
+ S j ())粉末に水溶性クロム酸化物の溶液
を加えて調整したスラリーを塗イli シ、乾燥後加熱
処理により焼成し、更に水溶性クロム酸化物の溶液を含
浸して加熱する処理を少なくとも1回繰返してセラミッ
ク層を形成し、その後面記ゼラミック層の凹部を除く金
属基体の表面か露出するまで研磨処理することにより製
造される。
以下、本発明について、実施例ならびに図面にもとづい
て更に詳しく説明する。
て更に詳しく説明する。
(実施例)
第1図は、本発明の実施の一例に係る電気カミソリ用金
屈部材を電鋳により製造する際の母型を示す平面図であ
り、第2図は、その要部の拡大断面図である。第1図、
第2図において、(1)は薄肉円板状の真鍮材からなる
金属基体でおり、この金属基体の表面(2)に形成され
た細かい網目状の凹部(3) ニA I r Os 、
S ! Ch及びCr2O、からなる組成を有し、加熱
焼成により安定な焼結体とされたセラミック(4)が埋
設されており、かつ金属基体の表面(2〉とセラミック
の表面(4Nとか同一面に形成されたものである。
屈部材を電鋳により製造する際の母型を示す平面図であ
り、第2図は、その要部の拡大断面図である。第1図、
第2図において、(1)は薄肉円板状の真鍮材からなる
金属基体でおり、この金属基体の表面(2)に形成され
た細かい網目状の凹部(3) ニA I r Os 、
S ! Ch及びCr2O、からなる組成を有し、加熱
焼成により安定な焼結体とされたセラミック(4)が埋
設されており、かつ金属基体の表面(2〉とセラミック
の表面(4Nとか同一面に形成されたものである。
(なお、第1図において、白い部分はセラミック表面を
、また黒い部分は金属表面を表わしている。
、また黒い部分は金属表面を表わしている。
第3図(イ〉〜(ハ)は上記した電鋳母型の製造工程を
示す要部の拡大断面図であり、真鍮側からなる金属基体
(1)の表面(2)に予めフォトエツチングにより深さ
0.05〜0.2mmの網目状の凹部(3)を形成しく
第3図−(イ))、この凹部を含む金属基体の表面(2
)にクロム酸()17 Cr’O,)の濃水溶液(比重
4.7)にTr1石(Sio+)及び溶融アルミナ(α
−AI、05)からなる微粉末を加えて充分に撹拌混成
して調整したスラリーを刷毛又はスプレー等により塗荀
し、乾燥した後450’Cで30分間加熱処理して網[
1状の凹部(3)を含む金属基体の表面(2)にAll
(h + 3io、及びCrl OSからなる組成を
有したセラミック層(4)を形成するく第3図−(ロ)
)。史に比重1.65〜1.75のクロム酸の濃水溶)
1女を前記のようにして形成したセラミック層に含浸さ
せて乾燥後、450°C130分間の加熱処理する操作
を繰返して行い、セラミック層の金属単体との結合強化
及び組織の緻密化を図る。このようにして形成したセラ
ミック層(4)をダイヤモンド砥石により、前記ヒラミ
ック層の凹部を除く金属基体表面か露出覆るまで(第3
図−(ロ)の一点鎖線部分まで)研磨加工して、即ち、
金属基体の表面(2)とセラミック層の表面(4−)と
が同一面になるにうにωI磨加工して所望の電鋳母型を
製造する。
示す要部の拡大断面図であり、真鍮側からなる金属基体
(1)の表面(2)に予めフォトエツチングにより深さ
0.05〜0.2mmの網目状の凹部(3)を形成しく
第3図−(イ))、この凹部を含む金属基体の表面(2
)にクロム酸()17 Cr’O,)の濃水溶液(比重
4.7)にTr1石(Sio+)及び溶融アルミナ(α
−AI、05)からなる微粉末を加えて充分に撹拌混成
して調整したスラリーを刷毛又はスプレー等により塗荀
し、乾燥した後450’Cで30分間加熱処理して網[
1状の凹部(3)を含む金属基体の表面(2)にAll
(h + 3io、及びCrl OSからなる組成を
有したセラミック層(4)を形成するく第3図−(ロ)
)。史に比重1.65〜1.75のクロム酸の濃水溶)
1女を前記のようにして形成したセラミック層に含浸さ
せて乾燥後、450°C130分間の加熱処理する操作
を繰返して行い、セラミック層の金属単体との結合強化
及び組織の緻密化を図る。このようにして形成したセラ
ミック層(4)をダイヤモンド砥石により、前記ヒラミ
ック層の凹部を除く金属基体表面か露出覆るまで(第3
図−(ロ)の一点鎖線部分まで)研磨加工して、即ち、
金属基体の表面(2)とセラミック層の表面(4−)と
が同一面になるにうにωI磨加工して所望の電鋳母型を
製造する。
なお、第4図は、従来の電鋳母をを示す要部の拡大断面
図である。これは、金属基体(11)の表面(12)に
、合成ゴム製薄肉をマスキングしたのら、所望の絶縁部
(13)を除く表面(15)の合成ゴムを溶剤により溶
解して、絶縁部のみを合成ゴム(14)で被着して製j
貨したものである。
図である。これは、金属基体(11)の表面(12)に
、合成ゴム製薄肉をマスキングしたのら、所望の絶縁部
(13)を除く表面(15)の合成ゴムを溶剤により溶
解して、絶縁部のみを合成ゴム(14)で被着して製j
貨したものである。
(発明の効果)
本発明の電鋳母型は、マスキング材がAI、Os *
S j 02及びCr2O3からなるセラミックからな
り、組織か緻密で、かつ金属基体と強固に結合している
ので、例えば、電気カミソリ用金属網部材等の電鋳母を
として使用するに際し、めっき液に腐蝕されることなく
、キズ、脱落が防止されて安定性があり、従来の合成ゴ
ムによりマスキングしたものと比較して使用回数を10
倍以上に長持らさせることができる。必要に応じ再研磨
加工して再刊用も可能でおる。又、セラミックの表面か
金属基体の表面と同−而に形成されているので、めっき
された製品の剥離性が良い。更に、セラミック層が比較
的低い熱処理温度で形成できるので、容易、かつ安価に
マスキングを成型し1qるなと優れた効果がある。
S j 02及びCr2O3からなるセラミックからな
り、組織か緻密で、かつ金属基体と強固に結合している
ので、例えば、電気カミソリ用金属網部材等の電鋳母を
として使用するに際し、めっき液に腐蝕されることなく
、キズ、脱落が防止されて安定性があり、従来の合成ゴ
ムによりマスキングしたものと比較して使用回数を10
倍以上に長持らさせることができる。必要に応じ再研磨
加工して再刊用も可能でおる。又、セラミックの表面か
金属基体の表面と同−而に形成されているので、めっき
された製品の剥離性が良い。更に、セラミック層が比較
的低い熱処理温度で形成できるので、容易、かつ安価に
マスキングを成型し1qるなと優れた効果がある。
第1図は、本発明の一実施例に係る電気カミソリ用金属
網部材をつくるための電鋳母型を示す平面図、第2図は
、第1図の要部の拡大断面図、第3図(イ)〜(ハ)は
、その製造工程を示す要部の拡大断面図である。 なお、第4図は、従来の電鋳母型を示す要部の拡大断面
図でおる。 (1)は金属基体、(2〉は金属基体の表面、(3)は
凹部、(4)はセラミック、(4−)はセラミックの表
面でおる。 特4′[出願人 臼柱国際産業株式会社代理人 弁理上
水 野 喜 大 筒1図 金属基体
網部材をつくるための電鋳母型を示す平面図、第2図は
、第1図の要部の拡大断面図、第3図(イ)〜(ハ)は
、その製造工程を示す要部の拡大断面図である。 なお、第4図は、従来の電鋳母型を示す要部の拡大断面
図でおる。 (1)は金属基体、(2〉は金属基体の表面、(3)は
凹部、(4)はセラミック、(4−)はセラミックの表
面でおる。 特4′[出願人 臼柱国際産業株式会社代理人 弁理上
水 野 喜 大 筒1図 金属基体
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)金属基体の表面に形成された細かい網目状の凹部に
Al_2o_3、Sio_2及びCr_2o_3からな
る組成を有し、加熱焼成により焼結化されたセラミック
が埋設され、かつ前記金属基体の表面と前記セラミック
の表面とか同一面に形成されていることを特徴とする電
鋳母型。 2)予め細かい網目状の凹部を形成した金属基体の表面
にAl_2o_3、Sio_2粉末に水溶性クロム酸化
物の溶液を加えて調整したスラリーを塗布し、乾燥後加
熱処理により焼成し、更に水溶性クロム酸化物の溶液を
含浸して加熱処理を少なくとも1回繰返して、セラミッ
ク層を形成し、その後前記金属基体の表面と前記凹部に
形成されたセラミックの表面とが同一面となるまで研磨
処理することを特徴とする電鋳母型の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19768585A JPS6260888A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | 電鋳母型及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19768585A JPS6260888A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | 電鋳母型及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6260888A true JPS6260888A (ja) | 1987-03-17 |
Family
ID=16378642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19768585A Pending JPS6260888A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | 電鋳母型及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6260888A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0385961A1 (fr) * | 1989-01-31 | 1990-09-05 | CENTRE DE RECHERCHES METALLURGIQUES CENTRUM VOOR RESEARCH IN DE METALLURGIE Association sans but lucratif | Dispositif de fabrication, par électrodéposition, d'une feuille métallique perforée de faible épaisseur, aiasi que procédés de réalisation et d'utilisation d'un tel dispositif |
US5360634A (en) * | 1988-12-05 | 1994-11-01 | Adiabatics, Inc. | Composition and methods for densifying refractory oxide coatings |
KR100686942B1 (ko) * | 2006-02-10 | 2007-02-26 | 주식회사 아이엠글로벌 | 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법 |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP19768585A patent/JPS6260888A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5360634A (en) * | 1988-12-05 | 1994-11-01 | Adiabatics, Inc. | Composition and methods for densifying refractory oxide coatings |
EP0385961A1 (fr) * | 1989-01-31 | 1990-09-05 | CENTRE DE RECHERCHES METALLURGIQUES CENTRUM VOOR RESEARCH IN DE METALLURGIE Association sans but lucratif | Dispositif de fabrication, par électrodéposition, d'une feuille métallique perforée de faible épaisseur, aiasi que procédés de réalisation et d'utilisation d'un tel dispositif |
KR100686942B1 (ko) * | 2006-02-10 | 2007-02-26 | 주식회사 아이엠글로벌 | 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법 |
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