JPS6259499A - 音響用振動板 - Google Patents
音響用振動板Info
- Publication number
- JPS6259499A JPS6259499A JP19776085A JP19776085A JPS6259499A JP S6259499 A JPS6259499 A JP S6259499A JP 19776085 A JP19776085 A JP 19776085A JP 19776085 A JP19776085 A JP 19776085A JP S6259499 A JPS6259499 A JP S6259499A
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- Japan
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- thin film
- titanium
- film layer
- diaphragm
- ion plating
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04R—LOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
- H04R31/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of transducers or diaphragms therefor
- H04R31/003—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of transducers or diaphragms therefor for diaphragms or their outer suspension
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
１発明の目的」
〔産業上の利用分野〕
本発明は、振動板の表面硬度、ヤング下、剛性を高めて
高域特性の改善を図るようにした音響用振動板に関する
ものである。
高域特性の改善を図るようにした音響用振動板に関する
ものである。
（従来の技術）
従来より、Ｂ用振動板の高域特性の２ｉｌ！善や音質の
向上を図るために振動板を高剛性化する方法として神々
の方法が短られており、例えば、■３図に示すドーム型
振動板１１は、金属振動板基材１２の表面に酸化アルミ
、炭化ポロン等の硬真＆？１３を形成することが行なわ
れている。
向上を図るために振動板を高剛性化する方法として神々
の方法が短られており、例えば、■３図に示すドーム型
振動板１１は、金属振動板基材１２の表面に酸化アルミ
、炭化ポロン等の硬真＆？１３を形成することが行なわ
れている。
（発明が解決しようとする問題点）
丘記した従来のものにおいては剛性に限界があり、また
、！１１体の焦機箕材ｉ強であるため内部損失も少なく
、高域用の振動板としては公金振動や高域共振のピーク
等を完全に抑えることができなかった。このため史に剛
性の高い振動板が安望されていた。
、！１１体の焦機箕材ｉ強であるため内部損失も少なく
、高域用の振動板としては公金振動や高域共振のピーク
等を完全に抑えることができなかった。このため史に剛
性の高い振動板が安望されていた。
本発明の目的は上記した従来の欠点を解消し、伝播速（
を高めると共に剛性を大幅に向トさせ、複合化による内
部損失を高めた音響振動板を提供することにある。
を高めると共に剛性を大幅に向トさせ、複合化による内
部損失を高めた音響振動板を提供することにある。
Ｉ発明の４Ｗ或」
（問題点を解決するための手段）
本発明に係る音響用振動板は、チタン振動板基材の少な
くとも一面側に、イオンプレーティング法により、炭化
チタン、窒化チタン等のチタン化合物の車体蒼しくはこ
れらの混合体又は炭化＆１：素模しくは窒化珪素からな
る中間薄Ｓ層を形成し、史にその上にイオンプレーティ
ング法により硬質ｌｊ２素薄ＩＩｇ層を形成したもので
ある。
くとも一面側に、イオンプレーティング法により、炭化
チタン、窒化チタン等のチタン化合物の車体蒼しくはこ
れらの混合体又は炭化＆１：素模しくは窒化珪素からな
る中間薄Ｓ層を形成し、史にその上にイオンプレーティ
ング法により硬質ｌｊ２素薄ＩＩｇ層を形成したもので
ある。
そして上記硬質′ｒＲ素Ｗｌ膜層としては混成軌道ＳＰ
／Ｍ合を下体とした炭素膜中に混成軌道５ＰｊＶｉ台を
もったダイヤモンド粒子が分散しているものが含まれ、
上記中間薄膜層としては炭化チタンと窒化チタンの混合
材で形成されているものや窒化硼素又は立方晶窒化硼素
で形成されているものが含まれる。
／Ｍ合を下体とした炭素膜中に混成軌道５ＰｊＶｉ台を
もったダイヤモンド粒子が分散しているものが含まれ、
上記中間薄膜層としては炭化チタンと窒化チタンの混合
材で形成されているものや窒化硼素又は立方晶窒化硼素
で形成されているものが含まれる。
（作用）
チタン振動＆基材の少なくとも一面側に、チタン化合物
又は炭化硅素等からなる中間薄膜を形成すると共にその
Ｆに硬質炭製薄膜を形成してＮ層膜を設けると１表面硬
度、ヤング率、剛性に優れていて、多層Ｍｉ造による複
合効果として適度な内部損失が得られ、高域特性を改善
することがでさる。
又は炭化硅素等からなる中間薄膜を形成すると共にその
Ｆに硬質炭製薄膜を形成してＮ層膜を設けると１表面硬
度、ヤング率、剛性に優れていて、多層Ｍｉ造による複
合効果として適度な内部損失が得られ、高域特性を改善
することがでさる。
（実施例）
本発明に係る音響用ｗｔｖＪ坂の実施例を図面に基づい
て説明するが、第１図は実施例１によって得られたドー
ム梨振９２１＆の断面図、第２図は実施例２によって得
られたドーム型振動板の断面図である。
て説明するが、第１図は実施例１によって得られたドー
ム梨振９２１＆の断面図、第２図は実施例２によって得
られたドーム型振動板の断面図である。
図において、ｌは振動板全体を示し、２はその基体とし
てのチタン振動板基材、３は該チタン娠効＆基材２の表
面にイオンプレーティング法により形成された中間ｆｉ
Ｅｌ１５！層、４は該中間′ｆｉｉ膜層３の上に同じく
イオンプレーティング法で形成された硬頁贋業薄１Ｉ５
ｉ暦である。
てのチタン振動板基材、３は該チタン娠効＆基材２の表
面にイオンプレーティング法により形成された中間ｆｉ
Ｅｌ１５！層、４は該中間′ｆｉｉ膜層３の上に同じく
イオンプレーティング法で形成された硬頁贋業薄１Ｉ５
ｉ暦である。
なお、上記中間薄膜Ｉｌ＃３、硬質炭素薄膜層４は必ず
しも両面に形成する必要はなく、表裏いずれか一面だけ
に形成してもよい。
しも両面に形成する必要はなく、表裏いずれか一面だけ
に形成してもよい。
次に振動板の具体的なＮＩ造過程を説明する。
実施例１
イオンプレーティング加工によりチタン振動板基材２の
表面に炭化チタンによる中間薄膜層３を形成するに際し
ては、厚さ２０ｇのチタン振動板基材２を洗浄し、真空
チャンバ内を１０−ｂ Ｔｏｒｒに減圧した後、アル
ゴンガス雰囲気（１０−２Ｔｏｒｒ）中、直ｇｔ数百Ｖ
〜ＩＫＶでアルゴンのイオン照射を行なう、この場合、
Ｘ ？ 度ｔｏ−’ Ｔａｒｔにおいて、ＣＨ４ガス
を注入し、固体源Ｔｉを電子ビームにてイオン化し、プ
ラズマ中Ｔｉ とＣが反応してＴｉ Ｃとなり、チタン
振動板基材２の上に堆積して中間薄膜層３となる。
表面に炭化チタンによる中間薄膜層３を形成するに際し
ては、厚さ２０ｇのチタン振動板基材２を洗浄し、真空
チャンバ内を１０−ｂ Ｔｏｒｒに減圧した後、アル
ゴンガス雰囲気（１０−２Ｔｏｒｒ）中、直ｇｔ数百Ｖ
〜ＩＫＶでアルゴンのイオン照射を行なう、この場合、
Ｘ ？ 度ｔｏ−’ Ｔａｒｔにおいて、ＣＨ４ガス
を注入し、固体源Ｔｉを電子ビームにてイオン化し、プ
ラズマ中Ｔｉ とＣが反応してＴｉ Ｃとなり、チタン
振動板基材２の上に堆積して中間薄膜層３となる。
この中間薄膜層３の上にイオンプレーティング加工によ
り硬質炭素薄膜層４を形成するに際しては、上記工程後
Ｔｉの入っているるつぼを閉じ、別のるつぼの炭素＃Ｑ
（グラファイト〕を開いてＣＨａガスの注入を１ヒめ、
アルゴンガス雰囲気で’ｒＸＮを電子ビームでイオン化
して上記中間薄膜層３のヒに堆積させる。これによって
硬質炭素ｔｉｒＡ膜層４が得られる。
り硬質炭素薄膜層４を形成するに際しては、上記工程後
Ｔｉの入っているるつぼを閉じ、別のるつぼの炭素＃Ｑ
（グラファイト〕を開いてＣＨａガスの注入を１ヒめ、
アルゴンガス雰囲気で’ｒＸＮを電子ビームでイオン化
して上記中間薄膜層３のヒに堆積させる。これによって
硬質炭素ｔｉｒＡ膜層４が得られる。
上記チタン振動板基材２の表面に炭化チタン（Ｔｉ Ｃ
）による中間薄膜層３だけが形成されたものにおいては
その伝播＃！度は１００００■／ｓｅｃ、位であるが、
その表面に上記硬質炭（１囚層４が形成されたものは１
１５００＋ｗ／ｓｅｅ、と向上し、剛性も上がると共に
その複合化効果によりｔａｎδ＝ ０．０１以上になっ
た。また、この振動板を組み込んだスピーカユニットは
高域の膚波数ｉ域が伸び、フラットな特性パターンを示
して良好なｆ箕が得られた。
）による中間薄膜層３だけが形成されたものにおいては
その伝播＃！度は１００００■／ｓｅｃ、位であるが、
その表面に上記硬質炭（１囚層４が形成されたものは１
１５００＋ｗ／ｓｅｅ、と向上し、剛性も上がると共に
その複合化効果によりｔａｎδ＝ ０．０１以上になっ
た。また、この振動板を組み込んだスピーカユニットは
高域の膚波数ｉ域が伸び、フラットな特性パターンを示
して良好なｆ箕が得られた。
（実施例２〕
チタン振動板基材２の表面に中間薄膜層３を形成する方
法は上記実施例１と同様とし、その上に硬質炭素薄膜層
４を形成する方法として以下の方法を用いた。
法は上記実施例１と同様とし、その上に硬質炭素薄膜層
４を形成する方法として以下の方法を用いた。
電子ビームを用いてるつぼ内の炭素源（グラファイト）
を蒸発させる。
を蒸発させる。
るつぼの上部に熱電子放出フィラメントを配置し、その
上部にイオン化電極を配置する。イオン化電極に直１ｉ
ｔ５０Ｖの電圧を印加すると共に熱電子放出フィラメト
にも所ｉの電圧を投入し、５発炭濃をイオン化する。
上部にイオン化電極を配置する。イオン化電極に直１ｉ
ｔ５０Ｖの電圧を印加すると共に熱電子放出フィラメト
にも所ｉの電圧を投入し、５発炭濃をイオン化する。
その後真空チャンバ内にＮ２ガスとＡｒガスの混合ガス
を導入し、上記チタン振動板基材２と中間薄膜層３のη
合化したもののｔに炭素の成膜を打なって硬箕炭素薄膜
暦４を得る。
を導入し、上記チタン振動板基材２と中間薄膜層３のη
合化したもののｔに炭素の成膜を打なって硬箕炭素薄膜
暦４を得る。
このようにして得られた仲買炭素薄膜層４の評価を行な
ったところ、 ＨＶ ３０００〜４０００の硬度を示し
、電子線回折及びＥＳＧＡスペクトルによりこの膜は混
成軌道ＳＰ／結合を生体とした炭素膜中に混成軌道ＳＰ
ｊをもったダイヤモンド粒子が分散していることを確認
した。男２図においてはこの１漠層は４ａとして示され
ている。
ったところ、 ＨＶ ３０００〜４０００の硬度を示し
、電子線回折及びＥＳＧＡスペクトルによりこの膜は混
成軌道ＳＰ／結合を生体とした炭素膜中に混成軌道ＳＰ
ｊをもったダイヤモンド粒子が分散していることを確認
した。男２図においてはこの１漠層は４ａとして示され
ている。
このようにして得られた振動板ｌの伝播速度は１２００
０ｍ／ｓｅｅ、 〜１３０００ｍ／ｓｅｃ、であり、実
施例１の振動板より更に高域が伸びると共に表面硬度に
優れた特性が得られ、また、内部損失はｔａｎδ＝０゜
０１以七であ−ノた。
０ｍ／ｓｅｅ、 〜１３０００ｍ／ｓｅｃ、であり、実
施例１の振動板より更に高域が伸びると共に表面硬度に
優れた特性が得られ、また、内部損失はｔａｎδ＝０゜
０１以七であ−ノた。
丘記したように、チタン振動板基材の表面には中間薄膜
層が形成され、その表面に、混成軌道５ＰＩＮ合を下体
とした炭素膜中に１Ｍ成軌迫ＳＰ５結合をもったダイヤ
モンド粒子が分散してなる＆ｊ！頁炭素薄膜層が形成さ
れると、我々が元に提案した音響用振動板（特許間６０
−８４５２９号）に比して内部損失を上げることができ
、用途によってこれらの振動板を選択便用することかで
５る。
層が形成され、その表面に、混成軌道５ＰＩＮ合を下体
とした炭素膜中に１Ｍ成軌迫ＳＰ５結合をもったダイヤ
モンド粒子が分散してなる＆ｊ！頁炭素薄膜層が形成さ
れると、我々が元に提案した音響用振動板（特許間６０
−８４５２９号）に比して内部損失を上げることができ
、用途によってこれらの振動板を選択便用することかで
５る。
上記した実施例１及び２において、中間膜層３としては
、炭化チタン（Ｔｉ Ｃ）の他に窒化チタン（Ｔｉ Ｎ
） 等のチタン化合物が考えられ、また、注入カスとし
てＣＨｓ ガスとＮ２ガスとの混合ガスにすれば１に化
チタンと窒化チタンの混合材による中間薄膜層３を同時
に形成でき、この混合材の物性も良好である。
、炭化チタン（Ｔｉ Ｃ）の他に窒化チタン（Ｔｉ Ｎ
） 等のチタン化合物が考えられ、また、注入カスとし
てＣＨｓ ガスとＮ２ガスとの混合ガスにすれば１に化
チタンと窒化チタンの混合材による中間薄膜層３を同時
に形成でき、この混合材の物性も良好である。
史に炭化硅素（Ｓｉ Ｃ）はダイヤモンド型共有結合ａ
ａを有していることから硬度も高く、上記した中間薄ｌ
Ｉｇ層３としては好適である。
ａを有していることから硬度も高く、上記した中間薄ｌ
Ｉｇ層３としては好適である。
窒化硼素（Ｂ Ｎ）及び立方晶窒化硼素（ＣＢＮ）も物
性が艮〈、特に會万品窒化硼素はヌープ硬度４７００ｋ
ｇ／ ｍ ｒｒｆであり、硬度に慢れた票材で好適であ
る。
性が艮〈、特に會万品窒化硼素はヌープ硬度４７００ｋ
ｇ／ ｍ ｒｒｆであり、硬度に慢れた票材で好適であ
る。
１発明の効果」
本発明の音響用振動板によれば、チタン振動板基材の少
なくとも一面側に、チタン化合物又は炭化硅素等からな
る中間ｇ膜を形成すると共にその上に硬′ｅＩ炭素Ｉ］
膜を形成してη層膜を設けると、表向硬度、ヤング率、
剛性に看れ、多層ｇｉ造による複合効果として過度な内
部損失が得られ、高域特性を改ですることかでさる。
なくとも一面側に、チタン化合物又は炭化硅素等からな
る中間ｇ膜を形成すると共にその上に硬′ｅＩ炭素Ｉ］
膜を形成してη層膜を設けると、表向硬度、ヤング率、
剛性に看れ、多層ｇｉ造による複合効果として過度な内
部損失が得られ、高域特性を改ですることかでさる。
また、イオンプレーテインク加工による複層の硬化薄膜
、即ち、中間Ｆｉｌｌ呪とその表面への炭素硬化ＲＩＦ
Ｊの形成過程において、るつぼ及び注入ガスを適宜選択
することにより、ｌ／＜ツチ内で所望の振動板を得るこ
とかでさるから、Ｌ″産性冨ましめることができる。し
かもこのイオンプレーティング法の特長として、イオン
化効率が高く、付着レートも速いので経済性に慢れ、し
かも密着性の良好な硬化Ｐ！Ｊ膜が得られることから信
頼性も高い等の効果がある。
、即ち、中間Ｆｉｌｌ呪とその表面への炭素硬化ＲＩＦ
Ｊの形成過程において、るつぼ及び注入ガスを適宜選択
することにより、ｌ／＜ツチ内で所望の振動板を得るこ
とかでさるから、Ｌ″産性冨ましめることができる。し
かもこのイオンプレーティング法の特長として、イオン
化効率が高く、付着レートも速いので経済性に慢れ、し
かも密着性の良好な硬化Ｐ！Ｊ膜が得られることから信
頼性も高い等の効果がある。
図面は本発明に係る音響用振動板の実施例を示し、■１
図は実施例１によって得られたドーム型振動板の断面図
、第２図は実施例２によって得られたドーム型振動板の
断面図である。 ７ＪＳ３図は従宋のドーム型撮動板の一例を示す断面図
である。
図は実施例１によって得られたドーム型振動板の断面図
、第２図は実施例２によって得られたドーム型振動板の
断面図である。 ７ＪＳ３図は従宋のドーム型撮動板の一例を示す断面図
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、チタン振動板基材の少なくとも一面側に、イオンプ
レーティング法により、炭化チタン、窒化チタン等のチ
タン化合物の単体若しくはこれらの混合体又は炭化硅素
若しくは窒化硼素からなる中間薄膜層を形成し、更にそ
の上にイオンプレーティング法により硬質炭素薄膜層が
形成されていることを特徴とする音響振動板。 ２、硬質炭素薄膜層が混成軌道ＳＰ＾２結合を主体とし
た炭素膜中に混成軌道ＳＰ＾３結合をもったダイヤモン
ド粒子が分散していることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の音響振動板。 ３、中間薄膜層が炭化チタンと窒化チタンの混合材で形
成されていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の音響振動板。 ４、中間薄膜層が窒化硼素又は立方晶窒化硼素で形成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
音響振動板。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19776085A JPS6259499A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | 音響用振動板 |
| US06/853,182 US4725345A (en) | 1985-04-22 | 1986-04-17 | Method for forming a hard carbon thin film on article and applications thereof |
| US07/116,539 US4772513A (en) | 1985-04-22 | 1987-11-04 | Method for forming a hard carbon thin film on article and applications thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19776085A JPS6259499A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | 音響用振動板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259499A true JPS6259499A (ja) | 1987-03-16 |
Family
ID=16379891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19776085A Pending JPS6259499A (ja) | 1985-04-22 | 1985-09-09 | 音響用振動板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6259499A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62245900A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Onkyo Corp | 電気音響変換器用振動板 |
| EP0398257A2 (en) * | 1989-05-18 | 1990-11-22 | Yamaha Corporation | A speaker diaphragm |
| JPH03187647A (ja) * | 1989-12-18 | 1991-08-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 平衡伝送用受信装置 |
| US20170153200A1 (en) * | 2014-07-22 | 2017-06-01 | Toyobo Co., Ltd. | Thin film-laminated film |
Citations (7)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5265419A (en) * | 1975-11-26 | 1977-05-30 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Method of producing speaker vibrator plate |
| JPS59161200A (ja) * | 1983-03-04 | 1984-09-11 | Nippon Gakki Seizo Kk | 音響振動板 |
| JPS6084531A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-13 | Hitachi Maxell Ltd | エレクトロクロミツク表示素子 |
| JPS6084530A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-13 | Hitachi Ltd | 液晶表示素子 |
| JPS6084529A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-13 | Nippon Denso Co Ltd | 液晶素子 |
| JPS6088664A (ja) * | 1983-10-20 | 1985-05-18 | M K Seikou Kk | 洗車機 |
| JPS60125099A (ja) * | 1983-12-09 | 1985-07-04 | Sansui Electric Co | スピ−カ用振動板とその製造方法 |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP19776085A patent/JPS6259499A/ja active Pending
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| US10605760B2 (en) * | 2014-07-22 | 2020-03-31 | Toyobo Co., Ltd. | Thin film-laminated film |
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