JPS61244195A - 音響用振動板 - Google Patents

音響用振動板

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Publication number
JPS61244195A
JPS61244195A JP8453085A JP8453085A JPS61244195A JP S61244195 A JPS61244195 A JP S61244195A JP 8453085 A JP8453085 A JP 8453085A JP 8453085 A JP8453085 A JP 8453085A JP S61244195 A JPS61244195 A JP S61244195A
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JP
Japan
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bonds
diaphragm
film layer
coupling
hybrid orbital
Prior art date
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Pending
Application number
JP8453085A
Other languages
English (en)
Inventor
Masakatsu Sakamoto
坂本 政勝
Shuhei Oota
太田 秀平
Shiro Iwakura
岩倉 志郎
Yoichi Yaguchi
洋一 矢口
Hiroaki Toshima
戸嶋 博昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Namiki Precision Jewel Co Ltd
Kenwood KK
Original Assignee
Namiki Precision Jewel Co Ltd
Kenwood KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Namiki Precision Jewel Co Ltd, Kenwood KK filed Critical Namiki Precision Jewel Co Ltd
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Priority to US06/853,182 priority patent/US4725345A/en
Publication of JPS61244195A publication Critical patent/JPS61244195A/ja
Priority to US07/116,539 priority patent/US4772513A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605Carbon
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R31/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of transducers or diaphragms therefor
    • H04R31/003Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of transducers or diaphragms therefor for diaphragms or their outer suspension

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  • Acoustics & Sound (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「発明の目的」 (産業上の利用分野) 本発明は、音響用振動板、特にツイータやスコーカ用に
最適な振動板に関するものである。
(従来の技術) 従来より、音響用振動板の高域特性の改善や音質の向上
を図るために振動板を高剛性化することが行なわれてい
るが、その高剛性化の方法とじて種々の方法が知られて
おり、例えば、金属製振動板基材の表面にイオンブレー
ティング法により無機質材による表面硬化層を形成する
ことが知られている。
(発明が解決しようとする問題点) 上記のような表面硬化層を形成する場合においてもその
表面硬化層材料として何を用いるかは特性的に優れた振
動板を得ようとする場合にきわめて重要となる0例えば
、厚さ201Lのチタン製振動板基材の表面に窒化チタ
ンによるlttの硬化層を設けた場合でもその伝播速度
は7 、000m/sec 、程度であり、不充分なも
のであった。
本発明の目的は、金属母材と炭素硬化膜の複合材により
、伝播速度が速く、高域特性が良好であって、特にツイ
ータやスコーカ用として最適な音響用振動板を提供する
ことにある。
「発明の構成」 (問題点を解決するための子役) 本発明に係る音響用振動板は、セラミックス振動板母材
の表面の少なくとも一面側に、イオンプレーティング法
により、混成軌道SPI結合と混成軌道SP3結合の混
在した非晶質と混成軌道SP3結合の結晶粒からなる炭
素硬化膜層、又は上記SP2結合とSP3結合の混在し
た非晶質の炭素硬化膜層を形成したものである。
(作用) セラミックス振動板母材の表面の少なくとも一面側に、
イオンブレーティング法により、混成軌道SP2結合と
混成軌道SP3結合の混在した非晶質と混成軌道SP3
結合の結晶粒からなる炭素硬化膜層、又は上記SPI結
合とSP3結合の混在した非晶質の炭素硬化膜層が形成
されると、振動板全体としての特性は、伝播速度、ヤン
グ率が向上し、高域の再生周波数が伸び、共振を防止す
ることができるため高調波歪を低減することができる。
(実施例) 本発明に係る音響用振動板は、図面に示すように、セラ
ミックス振動板母材lの表面の少なくとも一面側に、イ
オンブレーティング法により、混・成軌道SPi結合と
混成軌道SP3結合の混在した非晶質と混成軌道SP3
結合の結晶粒からなる炭素硬化膜層、又は上記SP2結
合とSP3結合の混在した非晶質の炭素硬化膜層2を形
成したものであり、第1図は振動板母材lの一面側に炭
素硬化膜層2を形成したもの、第2図は両面に形成した
もの、第3図はボイスコイルボビン部とドーム部とを一
体に成型した振動板母材lの両面に炭素硬化膜M2を形
成したものをそれぞれ示しているが、その具体的実施例
は次の通りである。
実施例l CVD法で得られたドーム形状のβ型SiC振動板母材
lの上にイオンブレーティング法により炭素硬化膜層2
を形成した。この加工は、β型SiC振動板母材lを真
空チャンバ内に入れ、10”Torrに減圧後、Ar+
 H2:混合ガス雰囲気(10”Torr)中において
直流数百Vでイオン照射を行なう。
このイオンブレーティング加工の場合、真空度1G−4
τorr (Ar+ H2:混合ガス)において、グラ
ファイト蒸発速度0.253/win、で炭素硬化膜の
蒸着速度は0.02Bm/s+in、となる。
このイオンブレーティング法で得られた炭素硬化膜を電
子線回折やESCA法で分析した結果、混成軌道SP2
結合と混成軌道SPs結合の混在した非晶質膜の中に、
微小なSP3結合の結晶粒(ダイヤモンド構造の結晶粒
)が含まれていることが判明した。この膜は極めて硬く
、振動板の表面層として利用し得るものである。
また、このイオンブレーティング法によれば、イオン付
着レートが20OA/重in、であって極めて速く、篭
産性に富むものである。なお、振動板母材としては、T
iC、he等が有効である。
実施例2 実施例1において、振動板母材lの両面に炭素硬化膜層
2を設けた(第2図)ところ、ヤング率や音速が更に向
上した。
実施例1及び実施例2によって得られた振動板をツイー
タユニットに組み入れて周波数特性を測定したところ、
高域特性がのびると共に平坦になり、高調波歪が少なく
なった。
実施例3 第3図に示すように、ボイスコイルボビン部とドーム部
が一体に形成されたβ型SiC振動板母材lの両面に炭
素硬化膜層2を設けた。この一体型振動板の1記コイル
ボビン部にボイスコイルを巻いて組み込んだツイータユ
ニットについて測定したとことろ、更に高域再生限界周
波数が上がり、超高域まで歪の少ない再生音が得られた
「発明の効果」 本発明の音響用振動板によれば、セラミックス振動板母
材の表面の少なくとも一面側に、イオンブレーティング
法により、混成軌道SP2結合と混成軌道SP!結合の
混在した非晶質と混成軌道spi結合の結晶粒からなる
炭素硬化膜層、又は上記SP2結合とSP3結合の混在
した非晶質の炭素硬化膜層が形成されているから、振動
板全体としての音響特性、特に伝播速度、ヤング率、剛
性等がが向上し、高域の再生周波数が伸びると共に平坦
化され、高調波歪を低減することができる。
また、l&J硬化sRの形成に際してはイオンブレーテ
ィング法によるものであるため、イオン付着レートが高
く、他に比して経済性を有し、工業的価値も極めて高い
【図面の簡単な説明】
図面は本発明に係る音響用振動板の実施例を示し、第1
図はセラミックス振動板母材の片面に炭素硬化層を形成
したドーム振動板の断面図、第2図は上記振動板母材の
両面に炭素硬化膜層を形成したドーム振動板の断面図、
第3図はボイスコイルボビン部とドーム部とが一体に形
成されたセラミックス振動板母材の両面に炭素硬化層を
形成した振動板の断面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. セラミックス振動板母材の表面の少なくとも一面側に、
    イオンブレーティング法により、混成軌道SP^2結合
    と混成軌道SP^3結合の混在した非晶質と混成軌道S
    P^3結合の結晶粒からなる炭素硬化膜層、又は上記S
    P^2結合とSP^3結合の混在した非晶質の炭素硬化
    膜層が形成されていることを特徴とする音響用振動板。
JP8453085A 1985-04-22 1985-04-22 音響用振動板 Pending JPS61244195A (ja)

Priority Applications (3)

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JP8453085A JPS61244195A (ja) 1985-04-22 1985-04-22 音響用振動板
US06/853,182 US4725345A (en) 1985-04-22 1986-04-17 Method for forming a hard carbon thin film on article and applications thereof
US07/116,539 US4772513A (en) 1985-04-22 1987-11-04 Method for forming a hard carbon thin film on article and applications thereof

Applications Claiming Priority (1)

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