JPS6259098A - 軟質筆記板の製法 - Google Patents

軟質筆記板の製法

Info

Publication number
JPS6259098A
JPS6259098A JP20025485A JP20025485A JPS6259098A JP S6259098 A JPS6259098 A JP S6259098A JP 20025485 A JP20025485 A JP 20025485A JP 20025485 A JP20025485 A JP 20025485A JP S6259098 A JPS6259098 A JP S6259098A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
writing board
electron beam
writing
composition
beam irradiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP20025485A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0554440B2 (ja
Inventor
健 中村
上南 武司
信之 本山
藤井 貞雄
坂本 良憲
康二 中井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dynic Corp
Original Assignee
Dynic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dynic Corp filed Critical Dynic Corp
Priority to JP20025485A priority Critical patent/JPS6259098A/ja
Publication of JPS6259098A publication Critical patent/JPS6259098A/ja
Publication of JPH0554440B2 publication Critical patent/JPH0554440B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Drawing Aids And Blackboards (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は軟質筆記板の製法、さらに詳しくは、いわゆる
マーキングペン等により鮮明に筆記でき、かつ、布、フ
ェルト等の乾式の消去材で容易にふき取り消去ができる
、可撓性を有する筆記板の新規製法に関する。
近年、いわゆる白板あるいはホワイトボードと称される
、マーキングペン等で書き、ふき取りにより消去できる
筆記板が開発されており、電子複写装置と組合わせて、
記載した文字、図形等を直ちに複写できるような製品に
も用いられている。
一般に、これらの筆記板には、(1)種々のマーキング
ペンで、はじくことなく、鮮明に筆記できる良好な筆記
性、(2)フェルト、布、紙等の乾式の消去材でのふき
取りにより、簡単に消去でき、筆記後長時間経過しても
容易に消去できる良好な消去性、(3)折り曲げてもわ
れない、良好な耐クラツキング性および(4)表面が硬
質で傷がつきにくいことの諸性能を満たすことが要求さ
れている。
しかしながら、これらの性能を全て充分に満たす筆記板
はこれまで見当らない。例えば、基材表面をセラミック
加工した、いわゆるホーロー材の筆記板が知られている
が、これは、筆記性、消去性にはすぐれるものの、可撓
性がなく、割れやすく、重く、また、罫線等の印刷がで
きず、製造に手間どり、高価である等の欠点を有してい
る。また、ポリ塩化ビニノペポリエチレン、ポリプロピ
レン等の熱可塑性樹脂シート、メラミン系樹脂や不飽和
ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂シートのような各種
の合成樹脂シートの筆記板が知られているが、これらは
、筆記後、特に時間が経過した場合に消えにくく、消去
性が悪い欠点がある。
さらに、可撓性基材、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ートのシート基材にテトラフルオロエチレン−エチレン
共重合体のようなフッ素樹脂系フィルムを貼合せたシー
トの筆記板も知られており、これはすぐれた消去性を有
するものの、マーキングペンの種類によっては、はじい
たり、鮮明な筆跡が得られない欠点や、フィルムの表面
が軟うかく、傷つきやすいという欠点がある。最近、こ
れらの消去性の悪さや、傷つきやすさ等を改良するため
、基材上に、電子線照射により硬化する組成物の塗膜を
設けた筆記板が提案されている(特公昭58−1947
8号)。この塗膜は架橋密度が高く、硬質で、それ故、
すぐれた消去性を発揮し、傷つきにくいという利点を有
している。しかし、可撓性の製品にする場合には、塗膜
を軟質にする必要があり、消去性の改善が望めない。
このような事情にかんがみ、本発明者らは、前記の諸性
能を全て満足する可撓性の軟質筆記板を得るべく、種々
、検討を重ねた。その結果、特定の組成を有する、電子
線照射により硬化する組成物を用い、特定の工程条件下
で可撓性基材を処理することにより、その目的が達成で
きることを知り、本発明を完成するにいたった。
問題点を解決するための手段 本発明は、 組成物全量に基いて、(a)20〜50重量%の、分子
中に二重結合を3個以上有するモノマー、オリゴマーの
1種または2種以上と、(b)50〜8゜重量%の、分
子中に二重結合を1個または2個有するモノマー、オリ
ゴマーの1種または2種以上とからなる表面張力(20
℃)が28〜50ダイン/〔の、電子線照射により硬化
する組成物を、可撓性基材に0.001〜0.05mの
厚さになるように塗布し、ついで、 酸素濃度s o o ppm以下の不活性ガス雰囲気中
で1回、その後、さらに1回以上、電子線を分割照射す
ることを特徴とする軟質筆記板の製法を提供するもので
ある。得られる筆記板は、良好な筆記性、消去性、耐ク
ラツキング性を有し、かつ、表面が傷つきにくい、きわ
めてすぐれた性能を発揮する。
用いるモノマー、オリゴマーは、分子中の二重結合の数
が前記のとおりであれば、アクリレート系、エステル系
、エポキシ系、ウレタンアクリレート系等、電子線照射
により硬化するものいずれでもよい。
分子中1こ二重結合を3個以上有するモノマー、オリゴ
マーの例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレートおよび式: (式中、Aはアクリル酸残基、Xは多価アルコール残基
、Yは多塩基酸残基、nは整数を意味する)で示される
オリゴエステルアクリレート(例えば、(株)東亜合成
化学工業層アロニックスM−8060)などが挙げられ
、これらは単独でも、2種以上併用してもよい。分子中
に二重結合を3個以上有するモノマー、オリゴマーは硬
度が高く、消去性の良好な塗膜を与えるが、多すぎると
割れやすくなるので、組成物全量に用いて20〜50重
黴%の範囲で用いる。20重量%より少ないと、所望の
消去性を得るのが困難となる。
分子中に二重結合を1個または2個有するモノマー、オ
リゴマーの例としては、エチレングリコールジアクリレ
ート、エチレングリコールメタクリレート、ジエチレン
グリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、式: %式%) で示されるモノマー、オリゴマーなどが挙げられ、これ
らも、単独でも、2種以上併用してもよい。
分子中シこ二重結合を1個または2個有するモノマー、
オリゴマーは柔軟で耐クラツキング性の良好な塗膜を与
えるが、多すぎると、柔軟になりすぎ、傷がつきやすく
、消去性も悪くなるので50〜80重量%の範囲で用い
る。少なすぎると可撓性、耐クラツキング性が悪くなる
本発明で用いる組成物は、20℃におけるその表面張力
が28〜50ダイン/1となるようにこれらの七ツマ−
、オリゴマー成分を選択し、常法1こ従って混合するこ
とにより調製でき、所望により、顔料、充填剤、活性剤
などを添加してもよい。
ただし、これらの添加剤も、組成物の表面張力が28〜
50ダイン/1となるように選択すべきである。表面張
力は筆記性に影響を及ぼし、この範囲をはずれると、マ
ーキングペン筆記の際に、いわゆる、はじき等を生じ、
鮮明な筆記が困難となる。好ましくは、組成物の硬化表
面が水に対する接触角55〜75°となるようにする。
得られた組成物は常法により、0.001〜0.05w
nの厚さで可撓性基材に塗布する。塗布厚さは、薄すぎ
ると均一な塗膜が得られず、皮膜強度が不充分となり、
また、厚すぎると、折り曲げ時に割れやす(なる。
用いる可撓性基材は紙、布、合成樹脂シート(例えば、
ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリエ
ステル等のフィルムやシート)等の柔軟なものでよく、
紙、布は組成物の浸透を防ぐために、別途、常法により
下処理を行なってもよい。また、所望により、基材に、
予め、常法に従って罫線、文字、符号、図形等のパター
ンを印刷しておいてもよい。
塗布後、電子線照射して塗布した組成物を硬化させる。
電子線照射は公知の照射装置を用いて行なうことができ
、加速電圧100〜100QKV。
吸収線量0.1〜20メガラド程度の照射が採用される
。本発明の製法は、この電子線照射を複数回、通常、2
回に分割して行なう点に1つの特徴を有する。このうち
、第1回の照射は酸素濃度800ppm以下の不活性ガ
ス、通常、窒素ガス中で行なう。2回目以降の照射は不
活性雰囲気中でも、空気中でもよいが、いずれの場合も
、第1回照射後、空気と接触させると分割照射の効果が
向上する。この分割照射により、その理由は明らかでな
いが、得られる筆記板の消去性、耐クラツキング性が著
しく向上する。
かくして、本発明の製法により得られる筆記板は、きわ
めてすぐれた筆記性、消去性、耐クラツキング性を有し
、傷つきにくく、従来のこの種筆記板より、すぐれた性
能を有する軟質筆記板である。
つぎに実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳し
く説明する。
実施例 厚さ0.1 +aの白色のポリエチレンテレフタレート
シート((株)東し製ルミラー)につぎの組成の電子線
硬化型組成物(20℃の表面張力36.6ダイン/Cr
n)を18μmの厚さで塗布する。
成分       重量% オリゴエステルアクリレート((株) 東亜合成化学工業製アロニツクス M−8060、式(I))        25式(I
V)のオリゴエステルアクリレ ート((株)東亜合成化学工業製ア ロニツクスM−5700)          50式
(V)のオリゴマー((株)日本化 薬袋カヤラッドMANDA)          25
ついで、電子線照射装置(エリアビーム型、最大加速電
圧200 KV )にて、まず、500 ppmの酸素
を含む窒素ガス雰囲気中で、加速電圧175KVにて3
メガラド照射し、一旦空気と接触させた後、同様な雰囲
気中、175 KVにて4メガラド照射し、20℃にお
ける水に対する接触角65゜の軟質筆記板を得た。
比較例 実施例と同様にして、ただし、電子線照射を同様な窒素
ガス雰囲気中、加速電圧175 KVにて7メガラド1
回だけにして筆記板を得た。
発明の効果 実施例および比較例で得られた筆記板の筆記性、消去性
、耐タラツキング性、傷つきやすさをつぎのとおり評価
した。なお、ポリエチレンフタレート・シートにテトラ
フルオロエチレン−エチレン共重合体フィルムを貼合せ
た市販の軟質筆記板についても同様な評価を行なった。
筆記性 3種のマーキングペン(A、BSC)で筆記板表面に文
字等を筆記し、その鮮明さ、色むら、はじき等を肉眼で
判定した。
消去性 筆記して3日後、フェルトで軽く10回こすり、筆跡の
残存状態を肉眼で判定した。
耐タラツキング性 塗膜面外側にして1回折りまげ、割れの有無を肉眼で判
定した。
傷つきやすさ 種々の硬度の鉛筆で表面に筆記し、傷のつく鉛筆の硬度
で傷つきやすさを判定した。
結果を第1表に示す。
第1表 第1表に示すごとく、本発明の製法で得られる筆記板は
全ての性能を充分に満たすものである。。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)組成物全量に基いて、(a)20〜50重量%の
    、分子中に二重結合を3個以上有するモノマー、オリゴ
    マーの1種または2種以上と、(b)50〜80重量%
    の、分子中に二重結合を1個または2個有するモノマー
    、オリゴマーの1種または2種以上とからなる表面張力
    (20℃)が28〜50ダイン/cmの、電子線照射に
    より硬化する組成物を、可撓性基材に0.001〜0.
    05mmの厚さになるように塗布し、ついで、 酸素濃度800ppm以下の不活性ガス雰囲気中で1回
    、その後さらに1回以上、電子線を分割照射することを
    特徴とする軟質筆記板の製法。
  2. (2)第1回目の電子線照射後、空気と接触させる前記
    第(1)項の製法。
JP20025485A 1985-09-09 1985-09-09 軟質筆記板の製法 Granted JPS6259098A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20025485A JPS6259098A (ja) 1985-09-09 1985-09-09 軟質筆記板の製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20025485A JPS6259098A (ja) 1985-09-09 1985-09-09 軟質筆記板の製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6259098A true JPS6259098A (ja) 1987-03-14
JPH0554440B2 JPH0554440B2 (ja) 1993-08-12

Family

ID=16421317

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20025485A Granted JPS6259098A (ja) 1985-09-09 1985-09-09 軟質筆記板の製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6259098A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0887388A1 (de) * 1997-05-30 1998-12-30 Beiersdorf Aktiengesellschaft Beschriftbare Lackbeschichtung für Klebebänder
EP0877389A4 (en) * 1996-09-04 2001-06-13 Toyo Ink Mfg Co METHOD OF EXPOSURE TO RADIATION OF ELECTRON BEAMS AND OBJECT TO BE SO EXPOSED
JP2013517972A (ja) * 2010-01-26 2013-05-20 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 低ゴースト発生の乾式消去物品及びその使用

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0728130U (ja) * 1993-10-26 1995-05-23 メイサン商事株式会社 ワインダにおける巻取り用コアの取出し装置
KR101634596B1 (ko) * 2015-08-25 2016-06-29 두산중공업 주식회사 순환수 라인이 간소화된 석탄가스화기 슬래그의 배출 장치 및 배출 방법
KR101634594B1 (ko) * 2015-08-25 2016-06-29 두산중공업 주식회사 보일러 급수를 순환시켜 석탄가스화 복합 발전 설비를 냉각하는 순환수 시스템을 이용한 석탄가스화 버너의 냉각 장치

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0877389A4 (en) * 1996-09-04 2001-06-13 Toyo Ink Mfg Co METHOD OF EXPOSURE TO RADIATION OF ELECTRON BEAMS AND OBJECT TO BE SO EXPOSED
US6504163B2 (en) 1996-09-04 2003-01-07 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Electron beam irradiation process and an object irradiated with an electron beam
EP0887388A1 (de) * 1997-05-30 1998-12-30 Beiersdorf Aktiengesellschaft Beschriftbare Lackbeschichtung für Klebebänder
JP2013517972A (ja) * 2010-01-26 2013-05-20 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 低ゴースト発生の乾式消去物品及びその使用

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0554440B2 (ja) 1993-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69406599T2 (de) Giessbeschichtetes Papier für Tintenstrahlaufzeichnung, dessen Verfahren zur Herstellung und Tintenstrahldruckverfahren damit
JPS6259098A (ja) 軟質筆記板の製法
US3227576A (en) Drafting film
JPH08164700A (ja) 消去性筆記シート
JPS5819478B2 (ja) シヨシヤバンノ セイゾウホウホウ
JPS62116196A (ja) 軟質筆記板
JPH06344655A (ja) マーキングシート
KR0157228B1 (ko) 칼라보드용 자외선경화형 코팅조성물
JP4398019B2 (ja) 黒板
JPS6250199A (ja) 筆記用シ−ト状物
JPH08230390A (ja) シート状ホワイトボード及びその製造方法
KR200209446Y1 (ko) 열융착형 비결정성 폴리에스테르 필름이 적층된 마커펜용 칠판
JP2546571Y2 (ja) 筆記板
JP4481467B2 (ja) 黒板
JPS61211097A (ja) 軟質ホワイトボ−ド
CN114364545B (zh) 可书写屏幕
JP4582940B2 (ja) チョーク用黒板フィルム
JP4676588B2 (ja) 筆記記録用基材
JP2005002277A (ja) 紫外線硬化型塗料およびそれを用いたシート
KR970010598B1 (ko) 매트층 형성 코팅 조성물 및 이를 사용한 제도용 매트 필름
JPH03153347A (ja) マット化フィルム
JP3078234B2 (ja) オレフィン系樹脂製シート
JP2020116839A (ja) 筆記性スクリーン用樹脂組成物およびそれを用いた筆記性スクリーンおよびその製造方法
JPH06255041A (ja) 化粧紙の製造方法
KR100393527B1 (ko) 열융착형 비결정성 폴리에스테르 필름이 적층된 마커펜용칠판의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees