JPS5819478B2 - シヨシヤバンノ セイゾウホウホウ - Google Patents
シヨシヤバンノ セイゾウホウホウInfo
- Publication number
- JPS5819478B2 JPS5819478B2 JP48033335A JP3333573A JPS5819478B2 JP S5819478 B2 JPS5819478 B2 JP S5819478B2 JP 48033335 A JP48033335 A JP 48033335A JP 3333573 A JP3333573 A JP 3333573A JP S5819478 B2 JPS5819478 B2 JP S5819478B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- writing
- compound
- weight
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Drawing Aids And Blackboards (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属素材上に被覆組成物を塗布し、活性エネ
ルギー線特に電子線、紫外線を照射することにより、筆
記用インキで筆記可能にしてかつ乾燥後の筆跡は乾式消
去具で擦過することにより極めて容易に消去することが
可能な書写板の製造方法に関するものである。
ルギー線特に電子線、紫外線を照射することにより、筆
記用インキで筆記可能にしてかつ乾燥後の筆跡は乾式消
去具で擦過することにより極めて容易に消去することが
可能な書写板の製造方法に関するものである。
従来より、学校用教材ならびに一般家庭または事務用等
の書写板として、プラスチックス製のものが広く使用さ
れている。
の書写板として、プラスチックス製のものが広く使用さ
れている。
これら既販のプラスチックス製書写板はポリ塩化ビニル
、ポリビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の
合成樹脂を材料としたもので、通常この材料に適当な白
色顔料または黄色顔料を混合し、不透明な板状またはシ
ート状となしたもので一般にホワイトボードとよばれて
いる。
、ポリビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の
合成樹脂を材料としたもので、通常この材料に適当な白
色顔料または黄色顔料を混合し、不透明な板状またはシ
ート状となしたもので一般にホワイトボードとよばれて
いる。
これらのホワイトボードはインキで筆記した場合、イン
キ色素と書写面は互いに吸着して容易に払拭されず筆跡
や筆痕が残るので、水を含んだ布またはスポンジ用の物
質で拭き取らなければならず甚だ不便である。
キ色素と書写面は互いに吸着して容易に払拭されず筆跡
や筆痕が残るので、水を含んだ布またはスポンジ用の物
質で拭き取らなければならず甚だ不便である。
また、金属板上に上記の如き合成樹脂を塗着した書写板
も知られているが、この場合も書写面については上述の
如き欠点があり好ましいものとはいえない。
も知られているが、この場合も書写面については上述の
如き欠点があり好ましいものとはいえない。
そこで、本発明者らは上記欠点を無くして筆記を頻繁に
行ってもインキの筆痕を容易に払拭できる書写板を得る
べく鋭意検討を行った結果本発明を完成するに至ったも
ので、その要旨とするところは次の通りである。
行ってもインキの筆痕を容易に払拭できる書写板を得る
べく鋭意検討を行った結果本発明を完成するに至ったも
ので、その要旨とするところは次の通りである。
すなわち、多価アルコールと、（メタ）アクリル酸、（
メタ）アクリル酸無水物または（メタ）アクリル酸ハラ
イドとの反応によって得られる分子中に（メタ）アクリ
ロイル基を３個以上有する平均分子量が１０００を越え
ない化合物（Ａ）３０〜７０重量％と、（３）が得られ
ると同様な反応によって得られる分子中に（メタ）アク
ＩＪ ロイル基を２個有する平均分子量が１０００を越
えない化合物（Ｂ）７０〜３０重量％とからなる樹脂組
成物を主体とする被覆組成物を、金属素材上に塗布し、
酸素濃度が５０００ ｐｐｍ以下の不活性ガス雰囲気中
で活性エネルギー線を照射することによって、筆記用イ
ンキで筆記可能にしてかつ乾燥後の筆跡は、乾式消去具
で擦過することにより極めて容易に消去することが可能
な書写板の製造方法に関するものである。
メタ）アクリル酸無水物または（メタ）アクリル酸ハラ
イドとの反応によって得られる分子中に（メタ）アクリ
ロイル基を３個以上有する平均分子量が１０００を越え
ない化合物（Ａ）３０〜７０重量％と、（３）が得られ
ると同様な反応によって得られる分子中に（メタ）アク
ＩＪ ロイル基を２個有する平均分子量が１０００を越
えない化合物（Ｂ）７０〜３０重量％とからなる樹脂組
成物を主体とする被覆組成物を、金属素材上に塗布し、
酸素濃度が５０００ ｐｐｍ以下の不活性ガス雰囲気中
で活性エネルギー線を照射することによって、筆記用イ
ンキで筆記可能にしてかつ乾燥後の筆跡は、乾式消去具
で擦過することにより極めて容易に消去することが可能
な書写板の製造方法に関するものである。
本発明は上記化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを一定の組
成比で混合した樹脂組成物を主体とする被覆組成物を使
用するものである。
成比で混合した樹脂組成物を主体とする被覆組成物を使
用するものである。
これは化合物（Ａ）単独では書写性能が優れ硬度も高い
ものの硬化塗膜が脆いという難点があるため、これを比
較的低粘度である化合物（Ｂ）を加えることにより改善
し、書写性能と塗膜の物理的性能を併せて具有させよう
とするものである。
ものの硬化塗膜が脆いという難点があるため、これを比
較的低粘度である化合物（Ｂ）を加えることにより改善
し、書写性能と塗膜の物理的性能を併せて具有させよう
とするものである。
化合物（５）の具体例としては、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、
トリメチロールエタントリメタクリレート、ペンクエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リメタクリレートペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート等が
あげられ実際の使用にあたっては３０〜７０重量係と重
量ように用いる必要がある。
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、
トリメチロールエタントリメタクリレート、ペンクエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リメタクリレートペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート等が
あげられ実際の使用にあたっては３０〜７０重量係と重
量ように用いる必要がある。
該化合物（３）の使用量が３０重重量部満では得られる
書写板のインキ消去性が不良となり好ましくなく、また
７０重重量部越えると得られる書写板のインキ消去性は
良好であるが、書写板を形成している硬化塗膜の物理的
性能、例えば耐衝撃性、基材に対する密着性等が不良と
なり好ましくない。
書写板のインキ消去性が不良となり好ましくなく、また
７０重重量部越えると得られる書写板のインキ消去性は
良好であるが、書写板を形成している硬化塗膜の物理的
性能、例えば耐衝撃性、基材に対する密着性等が不良と
なり好ましくない。
化合物（Ｂ）の具体例としてはエチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチ
レングリコールジメタクリレート等があげられ、実際の
使用にあたっては該化合物（Ｂ）は７０〜３０重量係と
重量ように用いる。
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチ
レングリコールジメタクリレート等があげられ、実際の
使用にあたっては該化合物（Ｂ）は７０〜３０重量係と
重量ように用いる。
また、上記化合物（Ａ）ならびに化合物（Ｂ）の平均分
子量としては１，０００以下である必要があるが、平均
分子量が１，０００を越えると活性エネルギー線に対す
る活性度が低下するばかりでなく、得られる書写板のイ
ンキ消去性が不良となるので好ましくない。
子量としては１，０００以下である必要があるが、平均
分子量が１，０００を越えると活性エネルギー線に対す
る活性度が低下するばかりでなく、得られる書写板のイ
ンキ消去性が不良となるので好ましくない。
本発明を実施する際には化合物（Ａ）３０〜７０重量係
、重量物（Ｂ）７０〜３０重量係か重量る樹脂組成物を
単独で使用してもよいが、必要に応じて（メタ）アクリ
ル系ビニルモノマー例えば（メタ）アクリル酸メチル、
（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル
、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）ア
クリル酸シクロヘキシル等を併用してもよく、そのほか
顔料、染料その他適宜の添加物を添加して用いることも
出来る。
、重量物（Ｂ）７０〜３０重量係か重量る樹脂組成物を
単独で使用してもよいが、必要に応じて（メタ）アクリ
ル系ビニルモノマー例えば（メタ）アクリル酸メチル、
（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル
、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）ア
クリル酸シクロヘキシル等を併用してもよく、そのほか
顔料、染料その他適宜の添加物を添加して用いることも
出来る。
上記組成物に電子線を照射して硬化せしめる際には加速
電圧０．１〜２０ＭｅＶの電子線加速器から、線量率０
．１〜６０ Ｍｒａｄ ７秒なる電子線をとり出し、５
，０００ｐｐｍ以下の酸素濃度雰囲気下で吸収線量０．
１〜２０Ｍｒａｄになるように照射せしめればよく、ま
た紫外線を用いる場合は樹脂組成物中に増感剤としてベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ブチロイン
、ベンゾフェノン、クロロンスラキノン等を０．１〜５
重量重量節囲で添加し、酸素濃度が５０００ｐｐｍ以下
の不活性ガス中で波長２０００〜８０００人、好ましく
は３０００〜４０００人の近紫外線を照射せしめればよ
い。
電圧０．１〜２０ＭｅＶの電子線加速器から、線量率０
．１〜６０ Ｍｒａｄ ７秒なる電子線をとり出し、５
，０００ｐｐｍ以下の酸素濃度雰囲気下で吸収線量０．
１〜２０Ｍｒａｄになるように照射せしめればよく、ま
た紫外線を用いる場合は樹脂組成物中に増感剤としてベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ブチロイン
、ベンゾフェノン、クロロンスラキノン等を０．１〜５
重量重量節囲で添加し、酸素濃度が５０００ｐｐｍ以下
の不活性ガス中で波長２０００〜８０００人、好ましく
は３０００〜４０００人の近紫外線を照射せしめればよ
い。
上記活性エネルギー線を照射せしめる際に雰囲気中の酸
素濃度を５０００ ｐｐｍ以下となるように不活性ガス
で雰囲気を制御するが、５０００ｐｐｍ以上の雰囲気下
で活性エネルギー線を照射した場合には、上記被覆組成
物硬化塗膜のインキ色素に対する親和性が生じ、得られ
る書写板のインキ消去性が不良となって好ましくない。
素濃度を５０００ ｐｐｍ以下となるように不活性ガス
で雰囲気を制御するが、５０００ｐｐｍ以上の雰囲気下
で活性エネルギー線を照射した場合には、上記被覆組成
物硬化塗膜のインキ色素に対する親和性が生じ、得られ
る書写板のインキ消去性が不良となって好ましくない。
なお、本発明において使用する金属素材としては特に規
制されるものではないが通常鉄やアルミニウムの板状晶
が用いられる。
制されるものではないが通常鉄やアルミニウムの板状晶
が用いられる。
以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。
なおここで部とあるのは重量部の意である。
実施例 １
トリメチロールプロパントリアクリレート１００部、テ
トラエチレングリコールジアクリレート１００部からな
る樹脂組成物１００部に酸化チタン８０部を混練して得
られる被覆組成物をボンデライト＋３７化成処理板（日
本パーカー社製）上厚さ５０μとなるように塗布し、加
速電圧３００ ＫＶ、線量率２０Ｍｒａｄ／秒、酸素濃
度１１０００ｐｐなる条件で電子線を５Ｍｒａｄ照射し
て書写板を得た。
トラエチレングリコールジアクリレート１００部からな
る樹脂組成物１００部に酸化チタン８０部を混練して得
られる被覆組成物をボンデライト＋３７化成処理板（日
本パーカー社製）上厚さ５０μとなるように塗布し、加
速電圧３００ ＫＶ、線量率２０Ｍｒａｄ／秒、酸素濃
度１１０００ｐｐなる条件で電子線を５Ｍｒａｄ照射し
て書写板を得た。
該書写板上にホワイトボード用青インキ（内国洋行製）
を用いて筆記すると、書写板上には鮮明で色コントラス
トの高い筆跡が得られ、この筆跡を乾いた布で軽く擦過
するだけで極めて容易にしかも完全に筆跡を消去するこ
とができた。
を用いて筆記すると、書写板上には鮮明で色コントラス
トの高い筆跡が得られ、この筆跡を乾いた布で軽く擦過
するだけで極めて容易にしかも完全に筆跡を消去するこ
とができた。
実施例 ２
ペンクエリスリトールテトラアクリレート５０部、テト
ラエチレングリコールジアクリレート１００部にベンゾ
インメチルエーテル２部およびトリスアクリロキシエチ
ルフォスフェート５部を溶解せしめて得られる被覆組成
物をアルマイト加工したアルミ板上厚さ２０μとなるよ
うに塗布し、８００Ｗの高圧水銀灯を用いて１０Ｃｒｒ
Ｌの距離から酸素濃度８００ ｐｐｍの雰囲気下で紫外
線を１分間照射した。
ラエチレングリコールジアクリレート１００部にベンゾ
インメチルエーテル２部およびトリスアクリロキシエチ
ルフォスフェート５部を溶解せしめて得られる被覆組成
物をアルマイト加工したアルミ板上厚さ２０μとなるよ
うに塗布し、８００Ｗの高圧水銀灯を用いて１０Ｃｒｒ
Ｌの距離から酸素濃度８００ ｐｐｍの雰囲気下で紫外
線を１分間照射した。
この方法によって得られた書写板上°にホワイトボード
用赤インキ（前方製）で筆記した筆跡は、乾いた布で軽
く擦過するたけで完全に消去された。
用赤インキ（前方製）で筆記した筆跡は、乾いた布で軽
く擦過するたけで完全に消去された。
また、紫外線硬化塗膜のアルミに対する密着性並びに耐
衝撃性等の物理的性能も良好であった。
衝撃性等の物理的性能も良好であった。
本発明は叙述の如き構成からなるものであるから互いに
性質の異なる２つの化合物が相剰的に作用し、かつこの
被覆組成物が特定の条件下で硬化せられるため、得られ
た書写板は書写性能に優れしかも硬度や耐衝撃性、密着
性などの物理的性能も同時的に発揮しうる良好な書写板
を製造できる利点がある。
性質の異なる２つの化合物が相剰的に作用し、かつこの
被覆組成物が特定の条件下で硬化せられるため、得られ
た書写板は書写性能に優れしかも硬度や耐衝撃性、密着
性などの物理的性能も同時的に発揮しうる良好な書写板
を製造できる利点がある。
Claims (1)
- １ 多価アルコールと、（メタ）アクリル酸、（メタ）
アクリル酸無水物または（メタ）アクリル酸ハライドと
の反応によって得られる分子中に（メタ）アクリロイル
基を３個以上有する平均分子量が１０００を越えない化
合物（Ａ）３０〜７０重量％と、（Ａ）が得られると同
様な反応によって得られる分子中に（メタ）アクリロイ
ル基を２個有する平均分子量が１０００を越えない化合
ＶＢ） ７０〜３０重量係重量らなる樹脂組成物を主体
とする被覆組成物を、金属素材上に塗布し、酸素濃度が
５０００ ｐｐｍ以下の不活性ガス雰囲気中で活性エネ
ルギー線を照射することを特徴とする書写板の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48033335A JPS5819478B2 (ja) | 1973-03-23 | 1973-03-23 | シヨシヤバンノ セイゾウホウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48033335A JPS5819478B2 (ja) | 1973-03-23 | 1973-03-23 | シヨシヤバンノ セイゾウホウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS49120721A JPS49120721A (ja) | 1974-11-19 |
| JPS5819478B2 true JPS5819478B2 (ja) | 1983-04-18 |
Family
ID=12383674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP48033335A Expired JPS5819478B2 (ja) | 1973-03-23 | 1973-03-23 | シヨシヤバンノ セイゾウホウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5819478B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52103032U (ja) * | 1976-02-02 | 1977-08-05 | ||
| JPS6118585U (ja) * | 1984-07-06 | 1986-02-03 | 直道 勝 | Ｄｃ中継ジヤツク |
| JPH0212702Y2 (ja) * | 1984-07-31 | 1990-04-10 | ||
| JPH0329138B2 (ja) * | 1984-06-23 | 1991-04-23 | Anritsu Corp |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5182122A (ja) * | 1975-01-13 | 1976-07-19 | Mitsubishi Rayon Co | Shoshabannoseisakuhoho |
| JPS5819703B2 (ja) * | 1975-12-22 | 1983-04-19 | 三菱レイヨン株式会社 | タイマモウセイヒマクオユウスルブツピンノセイゾウホウ |
| JPS5351026A (en) * | 1976-10-20 | 1978-05-10 | Nakanihon Shiyashin Kougiyou K | Method of display manufacture |
| JPS54182025U (ja) * | 1978-06-10 | 1979-12-24 | ||
| JPS5747697A (en) * | 1980-09-04 | 1982-03-18 | Pilot Ink Co Ltd | Note |
-
1973
- 1973-03-23 JP JP48033335A patent/JPS5819478B2/ja not_active Expired
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52103032U (ja) * | 1976-02-02 | 1977-08-05 | ||
| JPH0329138B2 (ja) * | 1984-06-23 | 1991-04-23 | Anritsu Corp | |
| JPS6118585U (ja) * | 1984-07-06 | 1986-02-03 | 直道 勝 | Ｄｃ中継ジヤツク |
| JPH0212702Y2 (ja) * | 1984-07-31 | 1990-04-10 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS49120721A (ja) | 1974-11-19 |
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