JPS62581B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS62581B2
JPS62581B2 JP53054499A JP5449978A JPS62581B2 JP S62581 B2 JPS62581 B2 JP S62581B2 JP 53054499 A JP53054499 A JP 53054499A JP 5449978 A JP5449978 A JP 5449978A JP S62581 B2 JPS62581 B2 JP S62581B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frame
integrated circuit
base assembly
assembly
base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP53054499A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS54146986A (en
Inventor
Susumu Okikawa
Wahei Kitamura
Eiji Yamamoto
Hiroshi Tsuneno
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP5449978A priority Critical patent/JPS54146986A/ja
Publication of JPS54146986A publication Critical patent/JPS54146986A/ja
Publication of JPS62581B2 publication Critical patent/JPS62581B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、集積回路装置に関する。ここでは、
特にCCD(電荷結合デバイス)等の固体撮像デ
バイスに用いるに好適な光透過窓付セラミツクパ
ツケージの改良について説明する。
従来提案されている光透過窓付セラミツクパツ
ケージとしては、適当なベースアセンブリ上に光
透過窓兼キヤツプ用のサフアイア板を低融点ガラ
スで封着したものがあり、電気的にプログラム可
能なリード・オンリイ・メモリ(EP−ROM)な
どの半導体デバイスに用いられている。ところ
が、この種のパツケージは、ガラス封着処理時に
約450℃程度の熱処理が必要なため、パツケージ
内に収容される半導体素子チツプ又はその付層物
の耐熱性が低い場合(一例として、本発明の対象
である固体撮像デバイスの場合、許容温度は120
℃以下である。)には使用できない欠点がある。
このような欠点は、上記低融点ガラスに代えて
Au−Snろう材等の金属ろう材を使用したセラミ
ツクパツケージにも同様に存在するので、この場
合にも約340℃程度の熱処理を要する。
一方、上記欠点を免れるものとして、光透過窓
用の小孔内にガラスを充填し溶融固化したコパー
ル製のキヤツプ部材をシームウエルドによりベー
スアセンブリ上面に封着させるようにしたEP−
ROM用のセラミツクパツケージが提案されてい
る。この種のパツケージは、シームウエルドで封
着処理を行なうので、半導体チツプが高温にさら
されず、耐熱性の低い半導体デバイスにも応用で
きる。しかしながら、本発明の対象である固体撮
像デバイスに応用するには、次の点で問題があ
る。第1に、光透過窓部を構成するガラスがそつ
たりゆがんだりして光学的均一性に欠け、被写体
からの反射光が忠実に半導体チツプ面に伝達され
ないこと、第2に光透過窓部ではキヤツプ部材の
厚さ相当分の比較的うすいガラス−コバール接合
部により封止が保たれているだけであるため、気
密性が十分でないことなどである。
従つて、本発明の目的は、低温封着が可能で、
光透過部の光伝達特性が良好で、しかも気密性が
十分な改良された光透過窓付セラミツクパツケー
ジを提供することなどにある。
本発明によるセラミツクパツケージの特徴とす
るところは、光透過用サフアイア板を窓部の上面
側又は下面側に固着した枠状キヤツプ部材を溶接
によりベースアセンブリに封着させるようにした
点などにある。このような特徴によれば、封着処
理にシームウエルドなどの溶接法を採用できるの
で半導体チツプすなわち集積回路ペレツトが100
℃以下の低温に維持されるようにして封着を完了
することができ、またサフアイア板としては光学
的に均質で且つ平坦性のよいものを使用できるの
で、光透過部の光伝達特性が大幅に改善され、さ
らにサフアイア板とキヤツプ部材とはいわば面接
触的に固着されるので、十分な封止面積を確保し
気密性を向上させることなどができる。
以下、添付図面に示す実施例について本発明を
詳述する。
第1図は、本発明の一実施例による固体撮像デ
バイスを示すもので、10は、セラミツクシート
11,12,13,18を積層焼結して成る積層
セラミツクベースをそなえたベースアセンブリで
ある。ベースアセンブリ10において、積層セラ
ミツクベースの中央部には、シート13の孔に対
応する第1の凹部と、シート18の孔に対応する
第2の凹部とが互いに垂直方向に連続して配置さ
れており、第1の凹部の底面上には、タングステ
ンメタライズ層14と、ニツケル(下層)及び金
(上層)の2重めつき層15とが積層形成されて
いる。同様に、第2の凹部の底面上にもタングス
テンメタライズ層16と、ニツケル(下層)及び
金(上層)の2重めつき層17とが積層形成され
ており、タングステンメタライズ層16はシート
13とシート18との間を延長してベースアセン
ブリ10のリード配置面に引出されている。トツ
プシート18の上面には、ニツケルめつき又は金
めつきされたタングステンメタライズ層19が配
置され、コバール、42アロイ、45アロイ等の溶接
可能な金属材料からなる枠状部材20がAg−Cu
ろう材層21によりメタライズ層19に固着され
ている。積層セラミツクベースにおけるメタライ
ズ層16が引出された端面には各メタライズ層1
6に対応するリード23がAg−Cuろう材層22
により固着されている。
CCD等の撮像素子を内蔵した半導体(シリコ
ン)チツプ24は積層セラミツクベースの中央凹
部内に配置され、Au−Si共晶によりメタライズ
層14に固着されている。チツプ24上の各電極
はボンデイングワイヤ25を介して対応するめつ
き層17に接続されている。チツプ24の上面に
は、適当な有機接着剤層26を介してフイルタ2
7が接着されている。このフイルタ27は耐熱性
が良好でなく、約120℃程度が高温限界であるの
で、この実施例ではそれ以下の温度で封着処理を
行なう必要がある。
ところで、キヤツプアセンブリ30は、両主面
にニツケルめつき層32,33が形成されたコバ
ール、42アロイ、45アロイ等の溶接可能な金層材
料からなる枠状部材31をそなえている。この枠
状部材31の中央部には光透過用窓部が設けられ
ており、この窓部の下面側には、サフアイア板3
4が固着されている。サフアイア板34の固着予
定部には前もつてタングステンメタライズ層35
が形成されると共に、このメタライズ層35の表
面にはニツケルめつき層36が形成され、サフア
イア板34はAg−Cuろう材層37によつて枠状
部材31の窓部下面側に強固に接合される。
以上の構成になるベースアセンブリ10及びキ
ヤツプアセンブリ30は互いに重ね合わされ、一
例としてシームウエルダにより枠状部材20,3
1の重ね合せ部が溶接封止される。図中38はシ
ームウエルダの可動溶接電極を示している。この
場合、枠状部材20,31の重ね合せ部が抵抗加
熱される結果として溶接が行なわれるが、このと
き生ずる熱は極くわずかしか半導体チツプ24な
いしフイルタ27に到達せず、これらの構成要素
24,27が100℃以上に加熱されることはな
い。
上記した固体撮像デバイスは、封着処理が低温
でなされるために、半導体チツプ24ないしフイ
ルタ27が熱的に損傷を受けることがなく、高歩
留で製作できる。また、サフアイア板34として
は平担度のよいものを使用できるので、良好な画
像伝達特性が得られる。さらに、サフアイア板3
4が枠状部材31に対して平面的にろう付けされ
るので、光透過窓部において高度の気密性が確保
され、このことは溶接封止部での十分な気密性確
保と相俟つてデバイスの高信頼化を可能にするも
のである。
本発明は、上記した実施例に限定されることな
く種々の改変形態で実施できるものである。例え
ば、枠状部材31を枠状部材20に溶接するにあ
たつては、上記したのと反対にサフアイア板34
が外側になるようにして溶接してもよい。
また、サフアイア板34とフイルタ27との間
に適正な離間距離を保つためには、第2図に示す
ように枠状部材31に屈曲部31A,31Bを設
け、いわゆるしぼり加工をほどこすようにしても
よい。別の方法としては、枠状部材20の厚さを
増大させるか又はこの種の部材20を複数枚積層
する方法、あるいはトツプシート18の厚さを増
す方法なども適宜採用できる。
さらに、セラミツクベースアセンブリ10とし
ては、リード23を設けずに、その代りにメタラ
イズ層16などからなる印刷導体をシート11の
下面にまで延長して設けたものを用いることがで
きる。また、第3図に示すような、いわゆるサー
デイブ形のベースアセンブリ40を用いることも
できる。第3図において、41はセラミツクベー
ス、42はリード、43は封止用ガラス層、44
はセラミツク枠、45はタングステンメタライズ
層、46はコバール等の枠状部材、47はAg−
Cuろう材層である。第3図のアセンブリにおい
ても、リード42に代えてベース41の裏面に達
する印刷導体を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例によるセラミツク
パツケージをそなえた固体撮像デバイスを示す断
面図、第2図は、キヤツプアセンブリの変形例を
示す断面図、第3図は、ベースアセンブリの変形
例を示す断面図である。 10,40……ベースアセンブリ、20,31
……溶接可能な枠状部材、30……キヤツプアセ
ンブリ、34……光透過用サフアイア板、37…
…ろう材層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ベースアセンブリと、このベースアセンブリ
    とともに集積回路ペレツトを収納する気密空間を
    形成するキヤツプアセンブリと、前記気密空間内
    にある前記集積回路ペレツトと外方との電気的な
    導通を図るための導電手段とを備えた集積回路装
    置において、 (a) 前記ベースアセンブリは、前記キヤツプアセ
    ンブリとの対向面側に前記集積回路ペレツトを
    配置すべき前記集積回路ペレツト配置部と、前
    記セラミツクベース上に前記集積回路ペレツト
    配置部を取囲むように固着された金属からなる
    第1の枠状部材とを持つセラミツクベースであ
    り (b) 前記キヤツプアセンブリは、前記第1の枠状
    部材に重ね合わされる金属からなる第2の枠状
    部材と、前記第2の枠状部材の窓部を密閉する
    べくその上面側又は下面側に固着された光透過
    用サフアイア板を持つ枠状キヤツプ部材であ
    る。 ことを特徴とする集積回路装置。 2 前記第1及び第2の枠状部材は、互いに重ね
    合わせて溶接封止されてなることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の集積回路装置。
JP5449978A 1978-05-10 1978-05-10 Package for semiconductor device Granted JPS54146986A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5449978A JPS54146986A (en) 1978-05-10 1978-05-10 Package for semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5449978A JPS54146986A (en) 1978-05-10 1978-05-10 Package for semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54146986A JPS54146986A (en) 1979-11-16
JPS62581B2 true JPS62581B2 (ja) 1987-01-08

Family

ID=12972317

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5449978A Granted JPS54146986A (en) 1978-05-10 1978-05-10 Package for semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS54146986A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100414185B1 (ko) * 2000-10-09 2004-01-07 대한민국 리그난 분말의 제조방법, 이 방법에 의해 제조된 리그난분말 및 그 리그난 분말을 식육 및 육가공 제품에첨가하여 산화를 방지하는 방법

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61220460A (ja) * 1985-03-27 1986-09-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
US4635093A (en) * 1985-06-03 1987-01-06 General Electric Company Electrical connection
US6420205B1 (en) 1999-03-24 2002-07-16 Kyocera Corporation Method for producing package for housing photosemiconductor element
JP2007094049A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Shinko Electric Ind Co Ltd 光学部品用キャップ及びその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100414185B1 (ko) * 2000-10-09 2004-01-07 대한민국 리그난 분말의 제조방법, 이 방법에 의해 제조된 리그난분말 및 그 리그난 분말을 식육 및 육가공 제품에첨가하여 산화를 방지하는 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPS54146986A (en) 1979-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0089044B1 (en) A semiconductor device having a container sealed with a solder of low melting point
US5248901A (en) Semiconductor devices and methods of assembly thereof
JPS62580B2 (ja)
JPH05226487A (ja) 半導体装置
JPS62581B2 (ja)
EP0098176A2 (en) The packaging of semiconductor chips
JPS63211778A (ja) 光素子用パツケ−ジ
JP3222815B2 (ja) 光通信用パッケージ
JPH05144956A (ja) 半導体素子収納用パツケージ
JPS5812478A (ja) 固体撮像装置の製造方法
JP2000307016A (ja) 半導体装置、半導体モジュール及びその製造方法
JP3374395B2 (ja) 電子部品用パッケージ
JPS59172266A (ja) 混成集積回路およびその製造方法
JP2001339116A (ja) 半導体レーザモジュールおよびその製造方法
JPH06241889A (ja) 半導体装置
JPH03108361A (ja) 半導体集積回路装置
JP2870501B2 (ja) 半導体装置
JP2540461B2 (ja) 電子部品用パッケ−ジのリ−ド取り付け構造
JPH0230181A (ja) 半導体装置
JPS5994854A (ja) 半導体装置の蓋
JPS634350B2 (ja)
JPH05175251A (ja) 半導体装置
JPH0349398Y2 (ja)
JPS6155778B2 (ja)
JPH09148878A (ja) 弾性表面波デバイス