JPS6257652B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6257652B2 JPS6257652B2 JP57221020A JP22102082A JPS6257652B2 JP S6257652 B2 JPS6257652 B2 JP S6257652B2 JP 57221020 A JP57221020 A JP 57221020A JP 22102082 A JP22102082 A JP 22102082A JP S6257652 B2 JPS6257652 B2 JP S6257652B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- condensate
- anhydride
- epoxy resin
- decarboxylated
- curing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 21
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- -1 Glycidyl ester Chemical class 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 6
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 5
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 4
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002897 diene group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 4
- 238000005698 Diels-Alder reaction Methods 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric Acid Chemical compound [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVEUFHOBGCSKSH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound CC1=CC=CC=C1N(CC1OC1)CC1OC1 OVEUFHOBGCSKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 3-[(e)-dodec-1-enyl]oxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCC\C=C\C1CC(=O)OC1=O WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- LWMIDUUVMLBKQF-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound CC1CC=CC2C(=O)OC(=O)C12 LWMIDUUVMLBKQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDBDDNFATWXGQZ-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C)CC2C(=O)OC(=O)C12 JDBDDNFATWXGQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEMSKMUAMXLNKL-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C)=CCC2C(=O)OC(=O)C12 OEMSKMUAMXLNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)acetate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CC1CC2OC2CC1 NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 826-62-0 Chemical compound C1C2C3C(=O)OC(=O)C3C1C=C2 KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000219495 Betulaceae Species 0.000 description 1
- JKMRLXDPVUAOCY-UHFFFAOYSA-N C(CCCCC)(O)(O)O.[Na] Chemical compound C(CCCCC)(O)(O)O.[Na] JKMRLXDPVUAOCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000220450 Cajanus cajan Species 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019440 Mg(OH) Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound C1OC1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1CO1 JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZPXKEPZZOEPGX-UHFFFAOYSA-N n,n-dibutylaniline Chemical compound CCCCN(CCCC)C1=CC=CC=C1 FZPXKEPZZOEPGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQJDKPPZEMPWFK-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.CCCCCN(CCCCC)CCCCC ZQJDKPPZEMPWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 239000012260 resinous material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
本発明はエポキシ樹脂および不飽和脂環式−
1,2−ジカルボン酸無水物の脱炭酸縮合物を含
有してなり、積層用樹脂、塗料、接着剤、注型用
樹脂等として有用なエポキシ樹脂組成物に関す
る。 近年、工業材料としてエポキシ樹脂は重要な役
割を果すようになつてきたが、実用上大きな問題
となるものに硬化収縮より生ずるクラツク発生、
埋込み物への応力集中がある。 これらを防ぐ方法として、一般的には無機質充
てん剤および熱可塑性樹脂などを加える方法ある
いは、硬化条件の緩和などの方法がとられてきた
が、エポキシ樹脂と硬化剤の硬化反応時の硬化収
縮を小さくするという本質的な改良はほとんどさ
れていなかつた。 本発明は、このような問題点を解決するもので
あり、新規なエポキシ樹脂硬化剤を使用して、硬
化収縮の小さい硬化物が得られるエポキシ樹脂を
提供するものである。 すなわち、本発明は、 (a) エポキシ樹脂 および (b) 一般式(A) (ただし、式中、RおよびR′は、それぞれ
独立に水素又はメチル基を示す)で表わされる
化合物および/またはこれの多量体を、エポキ
シ樹脂のエポキシ基1当量に対して一般式(A)で
表わされる化合物および/またはこれの多量体
0.01〜1モルの割合で含有してなるエポキシ樹
脂組成物(ただし、一般式(A)で表わされる化合
物の多量体のモル数は一般式(A)で表わされる化
合物に換算する)に関する。 本発明に用いられるエポキシ樹脂としては、一
分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物が
使用され、ビスフエノールAのジグリシジルエー
テルに代表されるエピビス型エポキシ樹脂、フエ
ノールノボラツク、クレゾールノボラツクなどの
グリシジルエーテル化合物であるノボラツク型エ
ポキシ樹脂、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、
ダイマー酸などのグリシジルエステルであるグリ
シジルエステル型エポキシ樹脂、3,4−エポキ
シシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレートに代表される脂環式
エポキシ樹脂、ポリプロピレンジグリシジルエー
テルなどの多価アルコールのグリシジルエーテ
ル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイ
ジンなどの芳香族アミンのN−グリシジル化合物
などがある。 (b)成分である前記した一般式(A)で表わされる化
合物は、不飽和脂環式−1,2−ジカルボン酸無
水物の脱炭酸縮合物である。 上記の不飽和脂環式−1,2−ジカルボン酸無
水物としては、テトラヒドロフタル酸無水物、3
−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、4−メチ
ルテトラヒドロフタル酸無水物等がある。 不飽和脂環式−1,2−ジカルボン酸無水物の
脱炭酸縮合物とは、不飽和脂環式−1,2−ジカ
ルボン酸無水物の2分子が脱炭酸縮合して得られ
る化合物を主成分とする。 脱炭酸縮合は、例えば、上記不飽和脂環式−
1,2−ジカルボン酸無水物を塩基性触媒の存在
下に加熱することにより行なわれる。ここで、塩
基性触媒としては、1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7(以下「DBU」と
略す。)、2−エチル−4−メチルイミダゾール、
ジブチルアニリン、ベンジルジメチルアミン等の
アミン化合物、トリフエニルフオスフイン、ヘキ
サメチルフオスフアトリアミド等のリン化合物、
KOH、NaOH等のアルカリ金属の水酸化物、
NaOCH3等のアルカリ金属のアルコキサイド、
Mg(OH)2,Ca(OH)2,Ba(OH)2等のアルカ
リ土類金属の酸化物等があり、特に、DBU,2
−エチル−4−メチルイミダゾール、KOH,
NaOH等が好ましい。 触媒の使用量は、不飽和脂環式−1,2−ジカ
ルボン酸無水物に対して0.1重量%以上が好まし
く、反応温度は160℃以上が好ましい。 有機溶媒は、使用してもよく、使用しなくても
よい。 このようにして製造される脱炭酸縮合物は、不
飽和脂環式−1,2−ジカルボン酸無水物の2分
子縮合物を主成分として含む。なお、該2分子縮
合物は、2個の炭素環を有し、1個のラクトン
環、1個のカルボキシル基および炭素環中に新た
に導入された二重結合を有する。該ラクトン環は
一方の炭素環に縮合し、他方の炭素環に上記カル
ボキシル基および新たに導入された二重結合を有
する。また、ラクトン環の炭素と他方の炭素環の
炭素が結合している。 上記脱炭酸縮合物の製造時、生成する2分子縮
合物は、カルボキシル基が結合した炭素環内で共
役ジエン構造をとることがあり、このとき、他の
2分子縮合物とデイールス・アルダー反応し、2
分子縮合物の2量体が生成し、この2量体もまた
炭素環内に共役ジエン構造をとることがあり、同
様にして3量体、さらに4量体が生成することが
ある。上記の炭素環内で共役ジエン構造をとる2
分子縮合物は原料である酸無水物とデイールス・
アルダー反応し、この生成物が他の酸無水物と脱
炭酸縮合反応し、結果として、上記2分子縮合物
の2量体が生成しているのかもしれない。いずれ
にしても上記2分子縮合物の2量体、3量体等の
多量体が生成することがある。このような場合、
上記脱炭酸縮合物は、上記2分子縮合物の多量体
を含む。 これらは、高速液体クロマトグラフイー(以下
HLCと略称する)、NMRスペクトル、IRスペク
トル、元素分析、使用される原料及び発生する炭
酸ガスの量から確認することができる。 例えば、テトラヒドロ無水フタル酸を使用した
場合、本発明により、主成分の脱炭酸縮合物とし
て次の式()で示される化合物が生成する。 式() さらに、この式()で示される化合物は、カ
ルボキシル基の付いている環の2つの二重結合の
2置換二重結合が、反応時の温度及び触媒によつ
て移動し共役ジエン構造をとり、上記したように
デイールス・アルダー反応を行ない、結果として
2量体、3量体等の多量体を生成する。 このようにして得られる脱炭酸縮合物は、その
使用にあたつてはとくに精製しなくても差し支え
ないが、必要な場合は次のような精製方法があげ
られる。 反応に用いた塩基性触媒を除去するには水洗に
よつて行なうことができる。この方法は、不飽和
脂環式−1,2−ジカルボン酸が混在する場合、
同様にこれを除去することができるので好まし
い。また、未反応の不飽和脂環式1,2−ジカル
ボン酸無水物が残存する場合は、反応終了物をテ
トラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中で水を
加え60〜70℃に加熱し、該酸無水物を開環させ、
ジカルボン酸としたのち溶媒を留去し、ついで水
洗することによつて除去することができる。 本発明に係るエポキシ樹脂組成物には、(c)成分
として無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンド
メチレン−テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘ
キサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無
水フタル酸、メチル3,6−エンドメチレン−テ
トラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク
酸、無水トリメリツト酸、無水ピロメリツト酸な
どのエポキシ樹脂の硬化剤として知られる酸無水
物を含有させることができる。さらに、本発明に
係るエポキシ樹脂組成物には、(d)成分として硬化
促進剤として知られる化合物、例えば第3級アミ
ンおよびその塩、第4級アンモニウム化合物、ア
ルカリ金属アルコラート等を含有させることがで
きる。これらの例としてはベンジルジメチルアミ
ン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチ
ル)フエノール、2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール、トリアミルアンモニウムフエノレート、
ナトリウムヘキサントリオール、1,8−ジアザ
ビシクロ−(5,4,0)−ウンデセン−7などが
ある。 上記(b)成分は、(a)成分のエポキシ基1当量に対
して0.01〜1モル、特に、0.03〜0.5モル使用され
るのが好ましい。(b)成分が少なすぎると本発明の
効果である硬化時に低収縮であるという効果が劣
り、多すぎると(b)成分が硬化剤として過剰になり
硬化物の特性が劣る。また、上記(c)成分は、(a)成
分のエポキシ基1当量に対して0〜1.5モル、好
ましくは0〜1モル使用される。(b)成分と(c)成分
は、(b)成分と(c)成分の合計量が(a)成分のエポキシ
基1当量に対して0.01〜1.51モル、好ましくは
0.03〜1.2モルの範囲で硬化剤として過剰または
過少になつて、硬化特性が著しく低下しないよう
に使用量を適宜選択して使用される。 ここで、(b)成分のモル数について、一般式(A)で
表わされる化合物の多量体のモル数は、一般式(A)
で表わされる化合物に換算したものである。 本発明による硬化性組成物には、さらに希釈
剤、増量剤、無機充てん剤、顔料、染料、有機溶
剤、可塑剤、流動調節剤、チキソトロピー付与
剤、消泡剤、難燃剤などを硬化前のあらゆる段階
で混合することができる。 次に、脱炭酸縮合物の製造例および本発明の実
施例を示す。 製造例 1 テトラヒドロ無水フタル酸152.2g(1.00モ
ル)を撹拌器、温度計、還流冷却器および触媒滴
下ロートをつけた200c.c.4つ口フラスコに仕込
む。さらに、この反応装置の還流冷却器の出口と
湿式ガスメーターをゴム管で結ぶ。加熱撹拌下に
内容物の温度を200℃とする。200℃になつてから
触媒DBU1.5g(原料の1.0重量%)を滴下ロート
より滴下した。触媒の滴下後ただちにガスの発生
が認められた。この発生ガスを活性炭カラムを取
付けたガスクロマトグラフイーで分析したところ
炭酸ガスであることがわかつた。DBU滴下後、
4時間加熱撹拌を続けた。 得られた軟化点97℃の淡黄色樹脂状物は130.5
gであり、結局21.7g(0.493モル)の炭酸ガス
が反応によつて発生した。なお、湿式ガスメータ
ーのガス量は12.03(温度28℃、0.487モル)で
あり、重量から求められた値と一致する。 この反応生成物を100℃で液状としたのち、キ
シレン中に分散させたのち、過して白色粉末を
得た。この白色粉末を水洗し、乾燥させ脱炭酸縮
合物A125.3gを得た。 この脱炭酸縮合物Aには、上記の式()で表
わされる化合物を含有し、その他、そのデイール
ス・アルダー反応による多量体が含まれることが
NMRスペクトル、IRスペクトル、元素分析、高
速液体クロマトグラフイー(HLC)分析等によ
り明らかになつた。 該脱炭酸縮合物の組成は次のとおりである。な
お、組成割合(%)はHLCクロマトグラムの面
積比による。 式()で表わされる2分子縮合物 44.7% 2分子縮合物の2量体 42.6% 〃 の3量体 10.2% 〃 の4量体 2.6% テトラヒドロフタル酸 微 量 製造例 2 実施例1におけるテトラヒドロ無水フタル酸の
代わりに、4−メチル−Δ4−テトラヒドロ無水
フタル酸を166.2g(1.00モル)用いた他は、実
施例1に準じて反応を行なつた。 その結果、軟化点67℃の赤かつ色樹脂状縮合物
を144.7g得た。発生した炭酸ガス量は21.5g
(0.488モル)であつた。 この脱炭酸縮合物はキシレンに溶解するので、
キシレン溶液の状態で分液ロートを用いて水洗を
繰返し、触媒のDBUを除去し、乾燥して脱炭酸
縮合物Bを得た。 実施例 1 GY−250(チバ社商品名、エピビス型エポキシ
樹脂、エポキシ当量185)185重量部、脱炭酸縮合
物A97重量部(エポキシ基1当量に対して0.37モ
ル)、HN−2200(日立化成工業(株)商品名、メチル
テトラヒドロ無水フタル酸)97重量部(エポキシ
基1当量に対して0.58モル)および2−エチル−
4−メチルイミダゾール1.85重量部をよく混合
し、120℃で5時間および150℃で15時間加熱して
硬化させた。硬化物の熱変形温度は121℃であ
り、硬化前後の25℃の真比重の測定より硬化収縮
率は0.8%であつた。 実施例 2 GY−250 185重量部、脱炭酸縮合物B102重量
部(エポキシ基1当量に対して0.35モル)、HN−
5500(日立化成工業(株)商品名、メチルヘキサヒド
ロ無水フタル酸)102重量部(エポキシ基1当量
に対して0.61モル)および2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール1.9重量部をよく混合し、130℃で
50分および125℃で7時間加熱して硬化させた。
硬化物の熱変形温度は126℃であり、硬化後の25
℃の真比重の測定より硬化収縮率は1.1%であつ
た。 比較例1および2 表1に示す配合および硬化条件で硬化物を得
た。硬化物の特性を表1に示す。
1,2−ジカルボン酸無水物の脱炭酸縮合物を含
有してなり、積層用樹脂、塗料、接着剤、注型用
樹脂等として有用なエポキシ樹脂組成物に関す
る。 近年、工業材料としてエポキシ樹脂は重要な役
割を果すようになつてきたが、実用上大きな問題
となるものに硬化収縮より生ずるクラツク発生、
埋込み物への応力集中がある。 これらを防ぐ方法として、一般的には無機質充
てん剤および熱可塑性樹脂などを加える方法ある
いは、硬化条件の緩和などの方法がとられてきた
が、エポキシ樹脂と硬化剤の硬化反応時の硬化収
縮を小さくするという本質的な改良はほとんどさ
れていなかつた。 本発明は、このような問題点を解決するもので
あり、新規なエポキシ樹脂硬化剤を使用して、硬
化収縮の小さい硬化物が得られるエポキシ樹脂を
提供するものである。 すなわち、本発明は、 (a) エポキシ樹脂 および (b) 一般式(A) (ただし、式中、RおよびR′は、それぞれ
独立に水素又はメチル基を示す)で表わされる
化合物および/またはこれの多量体を、エポキ
シ樹脂のエポキシ基1当量に対して一般式(A)で
表わされる化合物および/またはこれの多量体
0.01〜1モルの割合で含有してなるエポキシ樹
脂組成物(ただし、一般式(A)で表わされる化合
物の多量体のモル数は一般式(A)で表わされる化
合物に換算する)に関する。 本発明に用いられるエポキシ樹脂としては、一
分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物が
使用され、ビスフエノールAのジグリシジルエー
テルに代表されるエピビス型エポキシ樹脂、フエ
ノールノボラツク、クレゾールノボラツクなどの
グリシジルエーテル化合物であるノボラツク型エ
ポキシ樹脂、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、
ダイマー酸などのグリシジルエステルであるグリ
シジルエステル型エポキシ樹脂、3,4−エポキ
シシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレートに代表される脂環式
エポキシ樹脂、ポリプロピレンジグリシジルエー
テルなどの多価アルコールのグリシジルエーテ
ル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイ
ジンなどの芳香族アミンのN−グリシジル化合物
などがある。 (b)成分である前記した一般式(A)で表わされる化
合物は、不飽和脂環式−1,2−ジカルボン酸無
水物の脱炭酸縮合物である。 上記の不飽和脂環式−1,2−ジカルボン酸無
水物としては、テトラヒドロフタル酸無水物、3
−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、4−メチ
ルテトラヒドロフタル酸無水物等がある。 不飽和脂環式−1,2−ジカルボン酸無水物の
脱炭酸縮合物とは、不飽和脂環式−1,2−ジカ
ルボン酸無水物の2分子が脱炭酸縮合して得られ
る化合物を主成分とする。 脱炭酸縮合は、例えば、上記不飽和脂環式−
1,2−ジカルボン酸無水物を塩基性触媒の存在
下に加熱することにより行なわれる。ここで、塩
基性触媒としては、1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7(以下「DBU」と
略す。)、2−エチル−4−メチルイミダゾール、
ジブチルアニリン、ベンジルジメチルアミン等の
アミン化合物、トリフエニルフオスフイン、ヘキ
サメチルフオスフアトリアミド等のリン化合物、
KOH、NaOH等のアルカリ金属の水酸化物、
NaOCH3等のアルカリ金属のアルコキサイド、
Mg(OH)2,Ca(OH)2,Ba(OH)2等のアルカ
リ土類金属の酸化物等があり、特に、DBU,2
−エチル−4−メチルイミダゾール、KOH,
NaOH等が好ましい。 触媒の使用量は、不飽和脂環式−1,2−ジカ
ルボン酸無水物に対して0.1重量%以上が好まし
く、反応温度は160℃以上が好ましい。 有機溶媒は、使用してもよく、使用しなくても
よい。 このようにして製造される脱炭酸縮合物は、不
飽和脂環式−1,2−ジカルボン酸無水物の2分
子縮合物を主成分として含む。なお、該2分子縮
合物は、2個の炭素環を有し、1個のラクトン
環、1個のカルボキシル基および炭素環中に新た
に導入された二重結合を有する。該ラクトン環は
一方の炭素環に縮合し、他方の炭素環に上記カル
ボキシル基および新たに導入された二重結合を有
する。また、ラクトン環の炭素と他方の炭素環の
炭素が結合している。 上記脱炭酸縮合物の製造時、生成する2分子縮
合物は、カルボキシル基が結合した炭素環内で共
役ジエン構造をとることがあり、このとき、他の
2分子縮合物とデイールス・アルダー反応し、2
分子縮合物の2量体が生成し、この2量体もまた
炭素環内に共役ジエン構造をとることがあり、同
様にして3量体、さらに4量体が生成することが
ある。上記の炭素環内で共役ジエン構造をとる2
分子縮合物は原料である酸無水物とデイールス・
アルダー反応し、この生成物が他の酸無水物と脱
炭酸縮合反応し、結果として、上記2分子縮合物
の2量体が生成しているのかもしれない。いずれ
にしても上記2分子縮合物の2量体、3量体等の
多量体が生成することがある。このような場合、
上記脱炭酸縮合物は、上記2分子縮合物の多量体
を含む。 これらは、高速液体クロマトグラフイー(以下
HLCと略称する)、NMRスペクトル、IRスペク
トル、元素分析、使用される原料及び発生する炭
酸ガスの量から確認することができる。 例えば、テトラヒドロ無水フタル酸を使用した
場合、本発明により、主成分の脱炭酸縮合物とし
て次の式()で示される化合物が生成する。 式() さらに、この式()で示される化合物は、カ
ルボキシル基の付いている環の2つの二重結合の
2置換二重結合が、反応時の温度及び触媒によつ
て移動し共役ジエン構造をとり、上記したように
デイールス・アルダー反応を行ない、結果として
2量体、3量体等の多量体を生成する。 このようにして得られる脱炭酸縮合物は、その
使用にあたつてはとくに精製しなくても差し支え
ないが、必要な場合は次のような精製方法があげ
られる。 反応に用いた塩基性触媒を除去するには水洗に
よつて行なうことができる。この方法は、不飽和
脂環式−1,2−ジカルボン酸が混在する場合、
同様にこれを除去することができるので好まし
い。また、未反応の不飽和脂環式1,2−ジカル
ボン酸無水物が残存する場合は、反応終了物をテ
トラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中で水を
加え60〜70℃に加熱し、該酸無水物を開環させ、
ジカルボン酸としたのち溶媒を留去し、ついで水
洗することによつて除去することができる。 本発明に係るエポキシ樹脂組成物には、(c)成分
として無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンド
メチレン−テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘ
キサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無
水フタル酸、メチル3,6−エンドメチレン−テ
トラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク
酸、無水トリメリツト酸、無水ピロメリツト酸な
どのエポキシ樹脂の硬化剤として知られる酸無水
物を含有させることができる。さらに、本発明に
係るエポキシ樹脂組成物には、(d)成分として硬化
促進剤として知られる化合物、例えば第3級アミ
ンおよびその塩、第4級アンモニウム化合物、ア
ルカリ金属アルコラート等を含有させることがで
きる。これらの例としてはベンジルジメチルアミ
ン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチ
ル)フエノール、2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール、トリアミルアンモニウムフエノレート、
ナトリウムヘキサントリオール、1,8−ジアザ
ビシクロ−(5,4,0)−ウンデセン−7などが
ある。 上記(b)成分は、(a)成分のエポキシ基1当量に対
して0.01〜1モル、特に、0.03〜0.5モル使用され
るのが好ましい。(b)成分が少なすぎると本発明の
効果である硬化時に低収縮であるという効果が劣
り、多すぎると(b)成分が硬化剤として過剰になり
硬化物の特性が劣る。また、上記(c)成分は、(a)成
分のエポキシ基1当量に対して0〜1.5モル、好
ましくは0〜1モル使用される。(b)成分と(c)成分
は、(b)成分と(c)成分の合計量が(a)成分のエポキシ
基1当量に対して0.01〜1.51モル、好ましくは
0.03〜1.2モルの範囲で硬化剤として過剰または
過少になつて、硬化特性が著しく低下しないよう
に使用量を適宜選択して使用される。 ここで、(b)成分のモル数について、一般式(A)で
表わされる化合物の多量体のモル数は、一般式(A)
で表わされる化合物に換算したものである。 本発明による硬化性組成物には、さらに希釈
剤、増量剤、無機充てん剤、顔料、染料、有機溶
剤、可塑剤、流動調節剤、チキソトロピー付与
剤、消泡剤、難燃剤などを硬化前のあらゆる段階
で混合することができる。 次に、脱炭酸縮合物の製造例および本発明の実
施例を示す。 製造例 1 テトラヒドロ無水フタル酸152.2g(1.00モ
ル)を撹拌器、温度計、還流冷却器および触媒滴
下ロートをつけた200c.c.4つ口フラスコに仕込
む。さらに、この反応装置の還流冷却器の出口と
湿式ガスメーターをゴム管で結ぶ。加熱撹拌下に
内容物の温度を200℃とする。200℃になつてから
触媒DBU1.5g(原料の1.0重量%)を滴下ロート
より滴下した。触媒の滴下後ただちにガスの発生
が認められた。この発生ガスを活性炭カラムを取
付けたガスクロマトグラフイーで分析したところ
炭酸ガスであることがわかつた。DBU滴下後、
4時間加熱撹拌を続けた。 得られた軟化点97℃の淡黄色樹脂状物は130.5
gであり、結局21.7g(0.493モル)の炭酸ガス
が反応によつて発生した。なお、湿式ガスメータ
ーのガス量は12.03(温度28℃、0.487モル)で
あり、重量から求められた値と一致する。 この反応生成物を100℃で液状としたのち、キ
シレン中に分散させたのち、過して白色粉末を
得た。この白色粉末を水洗し、乾燥させ脱炭酸縮
合物A125.3gを得た。 この脱炭酸縮合物Aには、上記の式()で表
わされる化合物を含有し、その他、そのデイール
ス・アルダー反応による多量体が含まれることが
NMRスペクトル、IRスペクトル、元素分析、高
速液体クロマトグラフイー(HLC)分析等によ
り明らかになつた。 該脱炭酸縮合物の組成は次のとおりである。な
お、組成割合(%)はHLCクロマトグラムの面
積比による。 式()で表わされる2分子縮合物 44.7% 2分子縮合物の2量体 42.6% 〃 の3量体 10.2% 〃 の4量体 2.6% テトラヒドロフタル酸 微 量 製造例 2 実施例1におけるテトラヒドロ無水フタル酸の
代わりに、4−メチル−Δ4−テトラヒドロ無水
フタル酸を166.2g(1.00モル)用いた他は、実
施例1に準じて反応を行なつた。 その結果、軟化点67℃の赤かつ色樹脂状縮合物
を144.7g得た。発生した炭酸ガス量は21.5g
(0.488モル)であつた。 この脱炭酸縮合物はキシレンに溶解するので、
キシレン溶液の状態で分液ロートを用いて水洗を
繰返し、触媒のDBUを除去し、乾燥して脱炭酸
縮合物Bを得た。 実施例 1 GY−250(チバ社商品名、エピビス型エポキシ
樹脂、エポキシ当量185)185重量部、脱炭酸縮合
物A97重量部(エポキシ基1当量に対して0.37モ
ル)、HN−2200(日立化成工業(株)商品名、メチル
テトラヒドロ無水フタル酸)97重量部(エポキシ
基1当量に対して0.58モル)および2−エチル−
4−メチルイミダゾール1.85重量部をよく混合
し、120℃で5時間および150℃で15時間加熱して
硬化させた。硬化物の熱変形温度は121℃であ
り、硬化前後の25℃の真比重の測定より硬化収縮
率は0.8%であつた。 実施例 2 GY−250 185重量部、脱炭酸縮合物B102重量
部(エポキシ基1当量に対して0.35モル)、HN−
5500(日立化成工業(株)商品名、メチルヘキサヒド
ロ無水フタル酸)102重量部(エポキシ基1当量
に対して0.61モル)および2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール1.9重量部をよく混合し、130℃で
50分および125℃で7時間加熱して硬化させた。
硬化物の熱変形温度は126℃であり、硬化後の25
℃の真比重の測定より硬化収縮率は1.1%であつ
た。 比較例1および2 表1に示す配合および硬化条件で硬化物を得
た。硬化物の特性を表1に示す。
【表】
本発明に係るエポキシ樹脂組成物は、硬化収縮
の少ない硬化物を与える。 本発明によるエポキシ樹脂組成物は、硬化収縮
が小さく、従つて硬化物にクラツクの発生が低減
でき、寸法安定性が優れている。特に注型用樹脂
として使用する場合に、この効果が最もよく発揮
され、電子部品などを封止した場合、素子、半導
体にかかる応力が低減でき、信頼性が向上でき
る。
の少ない硬化物を与える。 本発明によるエポキシ樹脂組成物は、硬化収縮
が小さく、従つて硬化物にクラツクの発生が低減
でき、寸法安定性が優れている。特に注型用樹脂
として使用する場合に、この効果が最もよく発揮
され、電子部品などを封止した場合、素子、半導
体にかかる応力が低減でき、信頼性が向上でき
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a) エポキシ樹脂 および (b) 一般式(A) (ただし、式中、RおよびR′は、それぞれ
独立に、水素又はメチル基を示す)で表わされ
る化合物および/またはこれの多量体を、エポ
キシ樹脂のエポキシ基1当量に対して一般式(A)
で表わされる化合物および/またはこれの多量
体0.01〜1モルの割合で含有してなるエポキシ
樹脂組成物(ただし、一般式(A)で表わされる化
合物の多量体のモル数は一般式(A)で表わされる
化合物に換算する)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22102082A JPS59109518A (ja) | 1982-12-15 | 1982-12-15 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22102082A JPS59109518A (ja) | 1982-12-15 | 1982-12-15 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59109518A JPS59109518A (ja) | 1984-06-25 |
JPS6257652B2 true JPS6257652B2 (ja) | 1987-12-02 |
Family
ID=16760221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22102082A Granted JPS59109518A (ja) | 1982-12-15 | 1982-12-15 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59109518A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54151941A (en) * | 1978-05-18 | 1979-11-29 | Nippon Zeon Co Ltd | Preparation of liquid dibasic acid anhydride |
JPS55339A (en) * | 1978-06-19 | 1980-01-05 | Nippon Zeon Co Ltd | Isomerization of methyl-delta-4-tetrahydrophthalic anhydride |
JPS5531810A (en) * | 1978-08-24 | 1980-03-06 | Nippon Zeon Co Ltd | Solventless epoxy resin composition |
JPS5590528A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-09 | Nippon Zeon Co Ltd | Epoxy resin composition |
-
1982
- 1982-12-15 JP JP22102082A patent/JPS59109518A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54151941A (en) * | 1978-05-18 | 1979-11-29 | Nippon Zeon Co Ltd | Preparation of liquid dibasic acid anhydride |
JPS55339A (en) * | 1978-06-19 | 1980-01-05 | Nippon Zeon Co Ltd | Isomerization of methyl-delta-4-tetrahydrophthalic anhydride |
JPS5531810A (en) * | 1978-08-24 | 1980-03-06 | Nippon Zeon Co Ltd | Solventless epoxy resin composition |
JPS5590528A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-09 | Nippon Zeon Co Ltd | Epoxy resin composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59109518A (ja) | 1984-06-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6231731B2 (ja) | ||
JP4742625B2 (ja) | 水素化エポキシ樹脂、その製造方法及びエポキシ樹脂組成物 | |
JP2001055425A (ja) | レゾルシンノボラック樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
JPH0832696B2 (ja) | 2,6−ジ置換4−エポキシプロピルフエニルグリシジルエ−テル、およびその製造方法 | |
JPS6136852B2 (ja) | ||
CN105829388A (zh) | 环氧树脂、其制造方法、环氧树脂组合物和其固化物 | |
WO2016006649A1 (ja) | エポキシ樹脂、その製造方法、エポキシ樹脂組成物およびその硬化物 | |
JPH0521925B2 (ja) | ||
KR101128226B1 (ko) | 2-하이드록시아이소부티르산글리시딜의 제조방법 | |
JPS6257652B2 (ja) | ||
JP3480552B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP2533592B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP2003277468A (ja) | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP4671018B2 (ja) | 2−ヒドロキシイソ酪酸グリシジルの製造方法 | |
JPH09132635A (ja) | ハロゲン含量の低いビスフェノールf型エポキシ樹脂、その製造法、エポキシ樹脂組成物及び硬化物 | |
JPS629128B2 (ja) | ||
JP2533593B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
EP0106206B1 (en) | Epoxy resin composition | |
JP3128152B2 (ja) | エポキシ樹脂硬化剤 | |
CN116410445A (zh) | 环氧树脂组合物以及树脂薄膜 | |
JPH04337314A (ja) | 新規エポキシ樹脂、樹脂組成物及びその硬化物 | |
JPH069757A (ja) | エポキシ樹脂硬化剤 | |
JPH0616782A (ja) | エポキシ樹脂硬化剤 | |
JPS61197621A (ja) | 封止剤 | |
JPH033692B2 (ja) |