JPS625377B2 - - Google Patents

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JPS625377B2
JPS625377B2 JP53102388A JP10238878A JPS625377B2 JP S625377 B2 JPS625377 B2 JP S625377B2 JP 53102388 A JP53102388 A JP 53102388A JP 10238878 A JP10238878 A JP 10238878A JP S625377 B2 JPS625377 B2 JP S625377B2
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JP
Japan
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signal
analog
resistor
line
digital
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JP53102388A
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English (en)
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JPS5446461A (en
Inventor
Kei Chen Edomando
Ii Hiru Wairii
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Intel Corp
Original Assignee
Intel Corp
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Publication date
Application filed by Intel Corp filed Critical Intel Corp
Publication of JPS5446461A publication Critical patent/JPS5446461A/ja
Publication of JPS625377B2 publication Critical patent/JPS625377B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03MCODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
    • H03M1/00Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
    • H03M1/12Analogue/digital converters
    • H03M1/34Analogue value compared with reference values
    • H03M1/38Analogue value compared with reference values sequentially only, e.g. successive approximation type
    • H03M1/42Sequential comparisons in series-connected stages with no change in value of analogue signal

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Analogue/Digital Conversion (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はアナログ−デジタル変換器に関するも
のであり、更に詳しくいえばMOS技術により作
られるアナログ−デジタル変換器に関するもので
ある。
マイクロコンピユータとくに1枚の基板すなわ
ちチツプの上に作られるマイクロコンピユータの
出現により、マイクロコンピユータを多くの新し
い用途に使用することが可能になつている。それ
らのコンピユータは比較的安価であるから、家庭
用および自動車用などにそれらのコンピユータを
採用できる。
それらの装置の採用における最も困難な問題の
1つは、それらの装置とセンサ、トランスデユー
サなどとの間のインターフエイスの問題である。
センサおよびトランスデユーサは通常はアナログ
電圧を発生するが、そのアナログ電圧はデジタル
電圧に変換してからマイクロコンピユータへ与え
なければならない。この変換は独立したチツプに
作られているバイポーラ・アナログ−デジタル変
換器(以下、ADCと記す)によつて行われるの
が普通である。理想的には、それらの変換器はマ
イクロコンピユータが作られている基板と同じ基
板に含めた方がよい。本発明のADCはマイクロ
コンピユータを含むシリコン基板上に作るのに適
当である。
家庭用および自動車用のようにあまり高度でな
いコンピユータの用途では、1種類の直流電源の
みを用いることが望ましい。5V電源というよう
なこの直流電源はセンサ、トランスデユーサ、マ
イクロコンピユータおよび周辺回路によつて使用
される。たとえば、つまみ制御などにより手動調
節できるポテンシヨメータを5V電源に組合わせ
て用いることである。したがつて、たとえば5V
の電源で動作する場合には、ADCは5Vのアナロ
グ信号をデジタル信号に変換することを要求され
る。MOS回路の場合には、ADCのアナログ・ス
イツチのゲートを電源電圧以上に駆動することが
必要となるから、複数のブートストラツプ回路を
必要とする。ブートストラツプ回路はかなりの基
板面積を必要とするからADCの価格が高くな
る。本発明のADCはブートストラツプ回路を1
つだけ用いることによりこの問題を解決するもの
である。
MOS、ADCの製作上の大きな問題の1つは実
用的な電圧比較器の設計である。理想的には、比
較器は高い利得を有し、かつ高い共通モード除去
性能を持たなければならない。一般に、それらの
電圧比較器はバイポーラ直結差動増幅器である。
単一の電源電位から動作する実用的なMOS作動
増幅器を実現することは困難である。本発明の
ADCでは独特のチヨツパ増幅器が採用される。
本発明は単一電源で動作する金属−酸化物−半
導体(MOS)アナログ−デジタル変換器
(ADC)を提供するものである。このADCは入力
アナログ信号を受けて、その信号を所定の係数2
で分割するための入力器を含む。電源にはデジタ
ル−アナログ変換器(DAC)が結合され、この
DACはその電源の電位を前記所定係数と同じ係
数2で割るための要素を含む。ADCの比較器は
入力器の出力をDACからの基準電圧と比較す
る。この比較器はDACを多少通常のやり方で制
御する論理器に結合される。本発明のADCによ
り電源電位に等しい大きさを有するアナログ信号
を、ただ1つのブートストラツプ回路で容易に変
換できる。
以下、図面を参照して本発明を詳細に説明す
る。
本発明の集積回路MOSアナログ−デジタル変
換器は単一の電源電位から動作させることがで
き、かつ電源電位に等しいアナログ信号を変換で
きる。このことは実際上ブートストラツプ回路を
用いることなしに本発明のADCにより行われ
る。
以下の説明では、本発明を十分に理解できるよ
うにするために、チヤンネル寸法、スイツチング
時間などについての具体的数値を例示してある。
また、説明を不必要に複雑にすることを避けるた
めに、周知の回路はブロツク図で示してある。
ここで説明している実施例では、本発明の
ADCは公知のMOSシリコン・ゲート技術を用い
てp形シリコン基板上に作られる。この基板はマ
イクロコンピユータを含む。このマイクロコンピ
ユータは本願出願人が1975年12月1日付で出願し
た未決の米国特許出願第636535号に開示されてい
る一般的な種類のものである。ADCとこのマイ
クロコンピユータは+5Vの1台の電源で動作す
る。基板はそれをバイアスするための逆バイアス
発生器を含む。
まず第1図を参照して、ADCのブロツク図は
従来のADCと本発明のADCとの双方に適用でき
る。本発明のADCは線10を介して入力アナロ
グ信号を受けるサンプル・ホールド器12と、線
15に基準電位を発生するために多少通常のやり
方で使用されるデジタル−アナログ変換器
(DAC)とを含む。サンプル・ホールド器12の
出力はDAC14の出力と比較され、比較結果、
通常は2進の1または0は論理器18へ与えられ
る。論理器18はDAC14を線19を介して制
御する。一般に、逐次近似アルゴリズムが論理器
18によつて行われる。たとえば、サンプル・ホ
ールド器12により標本化された入力アナログ信
号は、DAC14からの基準信号と比較される。
この基準信号はフルスケール信号の2分の1に対
応する。この実施例ではVIN/2が採用される。
入力アナログ信号がこの基準信号より大きいこと
をこの比較結果が示した時は、論理器18は線1
5に与えられた次の信号をフルスケール基準信号
の3/4に等しいアナログ信号にする。一方、入力
アナログ信号が第1の基準信号よりも小さいこと
を比較結果が示した時は、論理器18はDAC1
4の出力を1/4スケール信号に変える。それらの
逐次近似動作は、論理器18が入力アナログ信号
に等しいデジタル信号を決定するまで続けられ
る。
この実施例では、サンプル・ホールド器の機能
は第2図に示す回路の一部により実行される。第
2図の回路は比較器の好適な実施例を含む。第2
図の回路中のサンプル・ホールド回路部分は入力
アナログ信号を2分の1に容量分割する。本発明
のADC用に好適なDACの一例を第3図に示す。
(第3図には4ビツトDACを示しているが、実際
には8ビツトDACが用いられる)。このDACは電
源電位または他の入力基準電位を2分の1にする
ための抵抗を含む。
第3図を参照して、DACは複数の抵抗列より
成るはしご形抵抗回路網を含む。並置された各抵
抗列20,21,22,23は、全て同一の抵抗
値Rを有する抵抗25,26のような複数個の抵
抗を含む。各抵抗列の端部には抵抗28,29の
ような抵抗を含む。これらの抵抗28,29の抵
抗値はR/2である。このDACのはしご形抵抗
回路網は折り返えされている。すなわち、抵抗列
20の上端部が抵抗列21の上端部に接続され、
抵抗列21の下端部が抵抗列22の下端部に結合
され、抵抗列22の上端部が抵抗列23の上端部
に結合され、抵抗列23の下端部は接地される。
抵抗列20の下端部32は電位V/2を受ける。
はしご形抵抗回路網の隣り合う抵抗列の抵抗の
間に一対の電界効果トランジスタ(FET)が結
合される。たとえば、FET45,46が抵抗列
20,21の抵抗の間に結合される。同様に、
FET47,48が抵抗列22,23の抵抗の間
に結合される。FET45と46,47と48に
対応するFET対は平行抵抗列20と21,22
と23の各抵抗の間に結合される。各FET対の
間の共通接続点は行線に結合される。たとえば、
FET45と46,47と48の間の共通接続点
は行線50に結合される。同様に、他のFET対
の間の共通接続点は行線51,52,53に結合
される。各FETのゲートは列線に結合される。
たとえば、FET45と、この列線に結合されて
いる他のFETとのゲートは線65に結合され
る。同様に、他のFETは列線66,67,72
に結合される。
各行線は行選択トランジスタを介して出力線1
5に結合される。とくに、行線50,51,5
2,53はFET55,56,57,58とをそ
れぞれ介して出力線15に結合される。
複数の第2の抵抗列34,35,36,37よ
り成る第2のはしご形抵抗回路網すなわちダミー
はしご形抵抗回路網が、複数の第1の抵抗列2
0,21,22,23より成るDACのはしご形
抵抗回路網すなわち第1のはしご形抵抗回路網に
次のように組合わせて配置される。とくに、抵抗
列34,35,36,37が抵抗列20,21,
22,23にそれぞれ組合わせて配置され、第2
の抵抗列35,36は第1の抵抗列21,22の
相互間に形成されている。ダミーはしご形抵抗回
路網を構成する複数の第2の抵抗列は、第1の抵
抗列に全体として並列であり、抵抗値がRの抵抗
39,40のような複数の抵抗を含む。各抵抗列
の端部には抵抗値がR/2の抵抗42,43のよ
うな抵抗を含む。抵抗列34,35,36,37
はDACのはしご形抵抗回路網と同様にして互い
に結合される。抵抗列37の一端(線31)へは
電源電位Vが与えられる。抵抗列34の一端は回
路点32に結合され、DACのはしご形抵抗回路
網V/2の電位を標準電位として与える。従つ
て、FET45,46,47,48などのスイツ
チ手段の適切な制御により、出力線15に標準電
位V/2から基準信号VREF与えることができ
る。標準電位がV/2であるから、FET45,
46,47,48などのスイツチ手段の制御のた
めにブートストラツプ操作は不要となる。
ダミーはしご形抵抗回路網は電位Vを2分の1
にするために用いられる。2つのはしご形抵抗回
路網を組合わせて配置すること、すなわち、抵抗
列を交錯させることにより、抵抗列20〜23の
抵抗値を抵抗列34〜37の抵抗値にほぼ等しく
保持できる。その理由は、プロセスの変化が隣り
合う抵抗列に同様に作用するからである。そのた
めに、電位Vが線31に与えられると、回路点3
2における電位はV/2に等しくなる。
第3図に示す(ダミーはしご形抵抗回路網のな
い)DACのもつと完全な説明については、1976
年8月24日付の未決の米国特許出願第717442号を
参照されたい。この米国特許出願にははしご形抵
抗回路網を製作するやり方と、以上説明した構成
によりマスクの位置合わせ不良に起因する不正確
さが非常に小さくなつたことが記載されている。
ここで説明している実施例では、全ての抵抗列は
シリコン基板中の浅いひ素領域として形成され
る。
第3図に示されている4ビツトDACの場合に
は、信号A0,A1,A2,A3の可能な各組合わせに
対して1本の列線と1本の行線が選択される。そ
れらの信号は線19(第1図参照)によりDAC
へ与えられる。列線65,66,67,72はア
ンドゲート68,69,70,71にそれぞれ結
合される。行線50,51,52,53はアンド
ゲート60,61,62,63によりそれぞれ選
択される。抵抗列は折り曲げられているから、こ
の折り曲げを補償するために修正回路73が用い
られる。この回路73は排他的オアゲート74,
75より成る。排他的オアゲート74は信号A0
とA2を受け、信号A0′を出力として発生する。排
他的オアゲート75は信号A1とA2を受けて修正
された信号A1′を発生する。信号A0′とA1′および
それらの相補信号とはアンドゲート60〜63の
入力端子へ第3図に示すようにして与えられる。
信号A0,A1,A2,A3の可能な各組合わせにつ
いて述べたように、線15に適切なアナログ電位
が与えられる。たとえば、これらの信号が全て
「1」であると仮定する。列線を調べると、信号
A2とA3が「1」の時にはアンドゲート68が開
かれるから列線65が選択される。排他的オアゲ
ート74,75への入力が全て「1」であるか
ら、信号A1′とA0′はともに「0」である。このよ
うな条件の時には、、アンドゲート63の出力は
「1」で、線53は出力線15に結合させられ
る。したがつて、信号A0,A1,A2,A3が全て
「1」の時には、DACにおける最高電位が選択さ
れる。信号A0,A1,A2,A3が全て「0」の時に
は線72が線53とともに選択されて、はしご形
抵抗回路網の最低電位が線15に結合される。同
様に、全ての中間2進数がはしご形抵抗回路網の
適切なタツプを選択する。
次に第2図を参照する。この回路は基準信号を
DACから線15を介して受け、入力アナログ信
号を線10を介して受ける。線15はFET8
6,87をそれぞれ介してコンデンサ89,90
に結合される。FET86,87のゲートにはタ
イミング器80からの制御信号が線83を介して
与えられる。コンデンサ89,90が回路点92
に結合される。回路点93はFET95により選
択的に接地される。回路点91はFET94を介
してVIN(線10)へ選択的に結合される。
FET94,95のゲートはタイミング器80か
ら線84を介して与えられる信号により選択され
る。コンデンサ89,90の容量は等しい。これ
らの等しい容量は、ここで説明している実施例で
は、酸化物により分離されるポリシリコン層とア
ルミニウム層とから形成される。後で詳しく説明
するように、これらのコンデンサとFET86,
87,94,95とは回路点92に信号VREF
IN/2を与えるために用いられる。
第2図に示す比較器の初段は電位Vとアースと
の間に直列に結合される直列FET97,98を
含む。FET97のゲートは電位Vに結合され
る。回路点92はFET98のゲートに結合され
る。FET97と98の共通接続点はFET99を
介して回路点92に結合される。FET99のゲ
ートはランプ信号発生器81に結合される。
FET101と102は線31(電位V)とアー
スとの間に直列に結合される。比較器のこの第2
段はFET102のゲートに入力信号を受ける。
この段の出力はコンデンサ104によりFET1
07のゲートに結合される。FET106,10
7(比較器の第3段)は線31とアースの間に直
列結合される。それらのFETの共通接続点は
FET110のゲートに直結されるとともに、
FET117を介してFET107のゲートに結合
される。トランジスタ117のゲートはランプ信
号発生器81へ結合される。FET109,11
0で構成される第4段も線31とアースとの間に
結合される。これらのFETの共通接続点はプツ
シユプル出力段を駆動するために用いられる。
出力段は線31とアースとの間に直列結合され
る空乏モードFET112とFET113、および
線31とアースとの間に直列に結合されるFET
115,116とで構成される。この終段への入
力端子はFET113,115のゲートに結合さ
れる。FET112のソースとゲートはFET11
6のゲートに結合される。比較器からの出力信号
は「1」または「0」として線17へ与えられ
る。
タイミング信号発生器80は、VIN信号を回路
点91へ与え、次にVREF信号をコンデンサ8
9,90へ与えるために、線83,84へ信号を
与える。ここで説明している実施例では、線84
に与えられた信号はブートストラツプ操作され
て、電源電位Vに等しい線10に与えられた信号
をFET94を介して結合できるようにする。タ
イミング信号発生器80は周知の回路を用いるこ
とができる。
ランプ信号発生器81は2つの独立したランプ
信号123,124を発生できる。ランプ信号1
23,124はFET99と117のゲートにそ
れぞれ与えられる。時間軸121に示されている
ように、それらのランプ信号は後で説明する理由
から、互いに時間的に分離している。
第3図を参照して説明したように、ダミーはし
ご形抵抗回路網すなわち第2のはしご形抵抗回路
網により電源電位Vが1/2にされることにより、
デジタル−アナログ変換器はV/2を標準電位と
して基準信号VREFを出力線15に生じる。従つ
て、この基準信号VREFは、コンデンサ89,9
0により2分の1にされているアナログ入力信号
すなわちVIN/2と比較することができる。動作
時には、タイミング信号発生器80はまずFET
94,95を導通状態にする。そうすると回路点
91はVIN電位まで充電され、回路点93は接地
される。線84における信号がブートストラツプ
操作されるために、VIN電位がVに等しいとして
も回路点91を線31上のVIN電位まで充電させ
ることができることに注意されたい。その後で、
線84の電位は低下してFET94,95をカツ
トオフさせ、電位が線83へ与えられてFET8
6,87を導通させる。そのために線15上の信
号VREFがコンデンサ89,90へ与えられる。
コンデンサ89と90の容量が同じであれば、回
路点92における結果としての電圧変化はVREF
−VIN/2である。
前記したように、コンデンサ89,90は酸化
物層により分離されたポリシリコン層とアルミニ
ウム層により形成される。一様な厚さの酸化物層
を形成することは一般に困難であるから、酸化物
層の厚さの変化があまり大きくならないように、
それらのコンデンサには第4図に示すように共通
中心構造(common centroid geometry)が採用
される。コンデンサ89は金属線127により相
互接続され、対角線上で向い合うポリシリコン部
材89a,89bを含み、コンデンサ90はポリ
シリコン線80で相互に接続されて対角線上で向
い合うポリシリコン部材90a,90bを含む。
コンデンサ89,90の上側電極は板125で、
この板は回路点92に接続される。板125に設
けられている十字形の穴126により、線127
と、部材89a,89bへの線127の接触点と
を板125により妨げられることなしに形成でき
る。十字形の穴126により、部材89a,89
b,90a,90bに対する穴126の位置が多
少狂つても、それらの部材と板125との間の全
面積は変化しないことに注意されたい。また、ダ
ミー接点129,130は回路92,93へ導か
れる接点の補償を行う。
2進重みづけされたコンデンサを用いる容量的
逐次近似ADCについてはIEEEジヤーナル固体回
路(IEEE Journal Solid Satete Circuits)1975
年12月号371〜379ページ所載のマツクリアリー
(Mc Creary)およびグレイ(Gray)の「全MOS
電荷再分布アナログ−デジタル変換技術第部
(All−MOS Charge Redistribution Analog−To
−Digital Conversion Techniques−Part)」を
参照されたい。
第1図の論理器18により逐次近似を完了でき
るようにするために、コンデンサ89,90はそ
れらの電荷を十分に長く保持することに注意すべ
きである。すなわち、VINが標本化されると、線
15上のVREF電圧はVINを再び標本化すること
なしに何回も変えることができる。
電位VINが回路点91に与えられている間は、
FET99,117が導通して比較器の初めの4
つの段のためのバイアス点を定める。このバイア
ス点が定められて、VREF信号がコンデンサ8
9,90へ与えられた後は、比較器はVIN/2と
比較した時のVREF信号の相対的な極性を検出す
る。VREF信号がVIN/2よりも正の時は線17
へ「1」が与えられ、逆の場合には「0」が線1
7へ与えられる。したがつて、この比較器は1ビ
ツトADCと考えることができる。
この比較器の初めの4つの段は同一である。
FET97,101,106,109のような負
荷FETのZ/L比は10/20である。各段の入力
FETとくにFET98,102,107,110
のZ/L比は100/10であり、FET99,117
のZ/L比は10/6である。比較器の2つの段は
直結され、他の2つの段は交流結合されることは
明らかである。
初めのエンハンスメント・モードFETは初め
は自己バイアスされる。その理由は、FET9
9,117はVINが標本化された時に導通するか
らである。これらの段の動作点は直線領域内にあ
る。したがつて、それらの4つの段は交流増幅器
として動作して、回路点92に与えられる差信号
を増幅する。FET112,113,115,1
16で構成されるプツシユプル段は通常どおりに
動作して、線17へ出力信号を与える。
第2図の比較器用増幅器および他のチヨツパ増
幅器に固有の1つの問題は、アナログ・スイツチ
と、入力信号へのスイツチング信号の寄生結合と
によつてひき起される入力電圧オフセツトであ
る。このオフセツトをほぼなくすために、第2図
の比較器では2種類の技術が採用されている。
まず、FET99と117の動作を順次停止さ
せることによりこのオフセツトはほぼなくされ
る。すなわち、初めにFET99の動作を停止さ
せてから、次にFET117の動作を停止させる
(ランプ信号発生器81の中のカーブ123,1
24参照)。第2図のアナログスイツチによりひ
き起される結合オフセツトは引き続くコンデンサ
により吸収されて零にされる。このようにして、
利得が各段から得られるとしても、入力オフセツ
ト誤差は、全ての段の利得だけ増幅されるのでは
なくて1つの段の利得だけ増幅される。この「残
留電圧逐次記憶」についてのより詳細な考察につ
いては、IEEE国際団体回路会議要約技術誌
(IEEE International Solid−State Circuits
Conference Digest Technical Papers)」1973年
2月、152〜153ページを参照されたい。
オフセツト電圧を減少させるために用いられる
第2の技術は、第2図のランプ信号で示されてい
るようにFET99と117とをターンオフさせ
るためにランプ信号を用いることである。それら
のランプ信号の減衰時間は、ここで説明している
実施例では約1マイクロ秒である。それらの
FETスイツチがオフにされると、段の入力端子
と出力端子との間にオフセツト電圧が発生され
る。しかし、それらのスイツチを徐々にオフ状態
にすることにより、スイツチング素子はその両端
子間の電圧を等しくさせるための電流を流すのに
十分な時間を有する。実際にはオフセツト電圧は
2ミリボルト以下である。
第3図のDACと第2図の比較器とは第1図の
ADCにいつしよに用いられる。第3図のDACに
用いられているはしご形抵抗回路網では、この回
路網のアナログ信号は本来単調であることに注意
すべきである。そのためにADCで失われるコー
ドはない。多くの用途において、この性質は絶対
確度より重要である。
以上、MOS集積回路として作ることができ、
マイクロコンピユータを含む他の回路とともに同
じ基板に含ませられるADCについて説明した。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明と従来のアナログ−デジタル変
換器に用いることができるアナログ−デジタル変
換器のブロツク図、第2図は本発明のアナログ−
デジタル変換器に用いられる比較器の一実施例の
回路図、第3図は本発明のアナログ−デジタル変
換器に用いられるデジタル−アナログ変換器の一
実施例の回路図、第4図は比較器に用いられる2
個のコンデンサの平面図である。 12……サンプル・ホールド器、14……デジ
タル−アナログ変換器、16……比較器、18…
…論理器、20〜23,34〜37……抵抗列、
80……タイミング信号発生器。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 単一の電源電位により動作し得るMOSアナ
    ログ−デジタル変換器であつて; アナログ入力信号を受けてそのアナログ入力信
    号を容量の利用により係数2で割る入力器と; 供給される前記電源電位の1/2に実質的に等し
    い標準電位から基準信号を生成するデジタル−ア
    ナログ変換器にして、第1および第2のはしご形
    抵抗回路網を有し、前記第1のはしご形抵抗回路
    網は、タツプで区分されている複数の抵抗をそれ
    ぞれ持つ複数の並置された第1の抵抗列を含むと
    ともに、前記基準信号を与えるために前記タツプ
    の選択をする複数のMOS FETスイツチ手段を含
    み、前記第2のはしご形抵抗回路網は、並置され
    た複数の第2の抵抗列を含み、前記第1および第
    2のはしご形抵抗回路網は前記標準電位を与える
    ように直列に接続され、前記第1および第2のは
    しご形抵抗回路網の相互間でのプロセス変化の影
    響を最小にするように前記第2の抵抗列の少くと
    も幾つかが前記第1の抵抗列相互間に形成されて
    いるデジタル−アナログ変換器と; 前記入力器からの割られた信号および前記基準
    信号を受けて、これらの信号相互を比較するよう
    に結合された比較器と; 前記デジタル−アナログ変換器および前記比較
    器に結合され、前記入力器からの割られた信号に
    最も近い基準信号の選択をするように前記デジタ
    ル−アナログ変換器を制御するとともに変換され
    たデジタル出力信号を生じる論理器とを備え; 前記電源電位に等しい値いのアナログ入力信号
    を前記デジタル出力信号へ変換するのに、ブート
    ストラツプ操作を少くしたことを特徴とする
    MOSアナログ−デジタル変換器。
JP10238878A 1977-08-26 1978-08-24 Mos ad converter Granted JPS5446461A (en)

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