JPS6253726A - ゴミ焼却排ガスの水銀除去方法 - Google Patents
ゴミ焼却排ガスの水銀除去方法Info
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- JPS6253726A JPS6253726A JP60189486A JP18948685A JPS6253726A JP S6253726 A JPS6253726 A JP S6253726A JP 60189486 A JP60189486 A JP 60189486A JP 18948685 A JP18948685 A JP 18948685A JP S6253726 A JPS6253726 A JP S6253726A
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- JP
- Japan
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- liquid
- mercury
- exhaust gas
- flue gases
- cleaning
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「発明の目的」
本発明はゴミ焼却排ガスの水銀除去方法に係り、ゴミ惧
却場などにおける排ガス中の水銀を効率高く除去するこ
とができ、又低コストな水銀除去を得しめようとするも
のでおる。
却場などにおける排ガス中の水銀を効率高く除去するこ
とができ、又低コストな水銀除去を得しめようとするも
のでおる。
産業上の利用分野
ゴミ焼却排ガス中の水銀除去技術。
従来の技術
ゴミ焼却排ガス中に水銀が含まれていることが近時明か
にされたところであって、その処理に関して未だ確定的
な方法が得られていない。
にされたところであって、その処理に関して未だ確定的
な方法が得られていない。
即ちガス中の水銀除去技術としては電解ツーダニ場にお
ける水銀回収に用いられている過マンガン酸カリウム−
硫酸法或いは次亜塩素酸−食塩法などがあるが、これら
の方法に用いられる酸化剤はコスト高であり、又過マン
ガン酸などの２次公害対策などからしてそのままゴミ焼
却排ガスの水銀除去に適用できない。
ける水銀回収に用いられている過マンガン酸カリウム−
硫酸法或いは次亜塩素酸−食塩法などがあるが、これら
の方法に用いられる酸化剤はコスト高であり、又過マン
ガン酸などの２次公害対策などからしてそのままゴミ焼
却排ガスの水銀除去に適用できない。
然してゴミＳ却排ガス対策として現情では脱硫、脱硝、
集塵、脱ＨＣｔなどが行われているが、この中で弱ブル
カＩＪ ｉでガスを洗浄する湿式ＨＣｔプロセスにおい
て水銀がある程度除去される場合のめることが知られて
おり、この点から湿式ＨＣ４洗浄プロセスで弱アルカリ
液に水銀除去用の液体ギレート剤を添加し、或いは液体
キレート剤と水銀の反応を促進させ、るためにある種の
金属塩を添加するような方法が提案されている。
集塵、脱ＨＣｔなどが行われているが、この中で弱ブル
カＩＪ ｉでガスを洗浄する湿式ＨＣｔプロセスにおい
て水銀がある程度除去される場合のめることが知られて
おり、この点から湿式ＨＣ４洗浄プロセスで弱アルカリ
液に水銀除去用の液体ギレート剤を添加し、或いは液体
キレート剤と水銀の反応を促進させ、るためにある種の
金属塩を添加するような方法が提案されている。
発明が解決しようとする問題点
しかしこれらのゴミ焼却排ガス中水銀除去方法について
本発明者等が検討した結果によれば、ゴミ却排ガス中水
銀はすべてが塩化木調などの水銀化合物になっているわ
けでなく、金属水銀の状態のものも存在するため液体キ
レート剤のみではガス中の水銀を十分に除去できない。
本発明者等が検討した結果によれば、ゴミ却排ガス中水
銀はすべてが塩化木調などの水銀化合物になっているわ
けでなく、金属水銀の状態のものも存在するため液体キ
レート剤のみではガス中の水銀を十分に除去できない。
「発明の構成」
問題点を解決するための手段
ゴミ焼却排ガスの塩化水素除去に用いられた苛性ソータ
ー洗浄液にポリ硫化物を添加した処理液に対し前記ゴミ
焼却排ガスを吸収処理させることを特徴とするゴミ焼却
排ガスの水銀除去方法。
ー洗浄液にポリ硫化物を添加した処理液に対し前記ゴミ
焼却排ガスを吸収処理させることを特徴とするゴミ焼却
排ガスの水銀除去方法。
作用
ゴミ≠却排ガスの塩化水素除去に用いられた苛性ソータ
ー洗浄液にポリ硫化ソーダのようなポリ硫化物を添加す
ることによりガス中水錫分を有効に吸収除去する。
ー洗浄液にポリ硫化ソーダのようなポリ硫化物を添加す
ることによりガス中水錫分を有効に吸収除去する。
吸収率は９０％以上に達し、高い吸収効果をもたらすこ
とができる。
とができる。
実施例
上記したような不発明について更に説明すると、ゴミ焼
却排ガス中の水銀は、排ガス中にＩ（Ｃ４ＸＯｔ な
どが多量に含まれていることから電気集塵機以後の２５
０℃以下のような比較的低温条件下ではＨｇＯＳＨｇＣ
Ｚ １などの水銀化合物と金属水銀の混合物になってい
ると考えられる。
却排ガス中の水銀は、排ガス中にＩ（Ｃ４ＸＯｔ な
どが多量に含まれていることから電気集塵機以後の２５
０℃以下のような比較的低温条件下ではＨｇＯＳＨｇＣ
Ｚ １などの水銀化合物と金属水銀の混合物になってい
ると考えられる。
然してチオール系の液体キレート剤、あるいはＮａ２Ｓ
を苛性ソーダ溶液に添加して排ガスを洗浄した場合に
は金属水銀は殆んどが除去されないため金属水銀の比率
が相対的に高い排ガスでは水銀除去率が低下する。この
ような場合に比較的弱い酸化力を有するポリ硫化物を洗
浄液に添加することにより、排ガス中の水銀化合物吸収
と共に金属水銀についてもその殆んどが酸化吸収される
ため排ガス中水錫分の殆んどを除去し、洗浄液に吸収さ
せることができる。
を苛性ソーダ溶液に添加して排ガスを洗浄した場合に
は金属水銀は殆んどが除去されないため金属水銀の比率
が相対的に高い排ガスでは水銀除去率が低下する。この
ような場合に比較的弱い酸化力を有するポリ硫化物を洗
浄液に添加することにより、排ガス中の水銀化合物吸収
と共に金属水銀についてもその殆んどが酸化吸収される
ため排ガス中水錫分の殆んどを除去し、洗浄液に吸収さ
せることができる。
又洗浄液は循環使用するため、液側か還元性となり、洗
浄塔で排ガスと接触させた場合に液中に吸収された水銀
が気中に揮散される場合も排ガスの質によっては考えら
れるが、斯様な場合でもポリ硫化物が添加されているの
で次の反応により安定なＨｇＳが生成するため液中から
揮散する恐れは殆んどない。
浄塔で排ガスと接触させた場合に液中に吸収された水銀
が気中に揮散される場合も排ガスの質によっては考えら
れるが、斯様な場合でもポリ硫化物が添加されているの
で次の反応により安定なＨｇＳが生成するため液中から
揮散する恐れは殆んどない。
Ｈｇ ＋ ５ｘ２−ｍ−→ＨｇＳ ＋ Ｓｘ”４液中に
吸収された水銀については、Ｓ２−が過剰に存在する場
合は水銀が再溶解するが、これには他の金属イオン、例
えばＦｅ’＋を添加して過剰の８２−を下式のように硫
化物となし沈澱させれば上澄液中の水銀は頗る低＃度と
なる。
吸収された水銀については、Ｓ２−が過剰に存在する場
合は水銀が再溶解するが、これには他の金属イオン、例
えばＦｅ’＋を添加して過剰の８２−を下式のように硫
化物となし沈澱させれば上澄液中の水銀は頗る低＃度と
なる。
２Ｆｅ″＋＋３８”Ｚ−一→Ｆｅ１Ｓ１不発明を添附図
面を参照りて具体的に説明すると、ゴミ焼却炉を出た排
ガスはガスクーラー又はボイラーに工って冷却されてか
ら果ｊ場機に入り、該集塵機を出た２５０℃以下の排ガ
ス１は通常ＨＣ６を５００〜１５００ｐｐｍ程度、水銀
を０，２〜２ Ｗｑ／ｆ’！ｙ／程度含有している。そ
してこのような排ガス１は第１図に示すようにＨＣｌの
除去を主目的とした排ガス洗浄塔２に送られ、先ず予冷
部３で洗浄ｌ夜ｌ！！霧により１００℃以下に冷却され
る。該冷却後のガスは主洗浄部４内で洗浄液と接触せし
められ、ＨＣ６を洗浄液側に移行させた後、あるいは減
湿部５で除湿した後洗浄塔２を出る。斯うして得られる
洗浄液はＮ＊ＣＬが一般的に３〜１５％程度のものであ
って、該洗浄液は洗浄塔２下部の洗浄液溜６から洗浄液
ポンプ７によって予冷部３お工び主洗浄部４内を循環さ
せられるが、斯かる循環洗浄液は１日当り一定量を引抜
き、または洗浄液の比重、電導度などを検知し、バルブ
１３より手動または自動的に引抜き、補給はｐＨ指示調
節計１０によって苛性ソーダタンク８よりポンプ９を用
い自動的に行うのが一般的であり、この場合の設定ｐＨ
値は７．５〜８程度が普通であって、そのＮａＣ４は代
表的に１０％として理解することができる。
面を参照りて具体的に説明すると、ゴミ焼却炉を出た排
ガスはガスクーラー又はボイラーに工って冷却されてか
ら果ｊ場機に入り、該集塵機を出た２５０℃以下の排ガ
ス１は通常ＨＣ６を５００〜１５００ｐｐｍ程度、水銀
を０，２〜２ Ｗｑ／ｆ’！ｙ／程度含有している。そ
してこのような排ガス１は第１図に示すようにＨＣｌの
除去を主目的とした排ガス洗浄塔２に送られ、先ず予冷
部３で洗浄ｌ夜ｌ！！霧により１００℃以下に冷却され
る。該冷却後のガスは主洗浄部４内で洗浄液と接触せし
められ、ＨＣ６を洗浄液側に移行させた後、あるいは減
湿部５で除湿した後洗浄塔２を出る。斯うして得られる
洗浄液はＮ＊ＣＬが一般的に３〜１５％程度のものであ
って、該洗浄液は洗浄塔２下部の洗浄液溜６から洗浄液
ポンプ７によって予冷部３お工び主洗浄部４内を循環さ
せられるが、斯かる循環洗浄液は１日当り一定量を引抜
き、または洗浄液の比重、電導度などを検知し、バルブ
１３より手動または自動的に引抜き、補給はｐＨ指示調
節計１０によって苛性ソーダタンク８よりポンプ９を用
い自動的に行うのが一般的であり、この場合の設定ｐＨ
値は７．５〜８程度が普通であって、そのＮａＣ４は代
表的に１０％として理解することができる。
本発明では上記のような洗浄液にポリ硫化ソーダを添加
して排ガスを洗浄し、排ガス中の水銀をＨＣ６と同時に
洗浄除去しようとするもので、この場合においてポリ硫
化ソーダの添加はポリ硫化ソーダタンク１１からポンプ
１２により定量的に添加し、或いは苛性ノーダ液の添加
量に対し一定比率でざ≦加せしめ、若しくは引抜き量に
対し一定比率で添加するなどの方法で行う。
して排ガスを洗浄し、排ガス中の水銀をＨＣ６と同時に
洗浄除去しようとするもので、この場合においてポリ硫
化ソーダの添加はポリ硫化ソーダタンク１１からポンプ
１２により定量的に添加し、或いは苛性ノーダ液の添加
量に対し一定比率でざ≦加せしめ、若しくは引抜き量に
対し一定比率で添加するなどの方法で行う。
なおポリ硫化ソーダを添加するとｐＨが上昇するため、
必要添加量に応じてｐＨ指示調節計２４の設定ｐＨを変
えることが好ましい。
必要添加量に応じてｐＨ指示調節計２４の設定ｐＨを変
えることが好ましい。
ポリ硫化ソーダの添加量はガス中水銀濃度にもよるが、
洗浄液全量に対して５〜３００ ｐｐｒｎ程度を一応の
目安とすれば工く、又ポリ硫化物溶液は沸騰させると加
水分解して硫化ソーダとチオ硫酸ソーダを生成するため
洗浄塔２の予冷部３に洗浄液を循環させる方法は、場合
により水銀除去に不利となるので斯様な場合には第２図
に示すＬうに予冷部３に別の水源からの水１７を供給し
噴霧することが効果的である。
洗浄液全量に対して５〜３００ ｐｐｒｎ程度を一応の
目安とすれば工く、又ポリ硫化物溶液は沸騰させると加
水分解して硫化ソーダとチオ硫酸ソーダを生成するため
洗浄塔２の予冷部３に洗浄液を循環させる方法は、場合
により水銀除去に不利となるので斯様な場合には第２図
に示すＬうに予冷部３に別の水源からの水１７を供給し
噴霧することが効果的である。
前記したポリ硫化ソーダは製品を購入しても工いが、硫
化ソーダと硫黄が容易に作ることができ、具体的には硫
化ソーダ水溶液に硫黄粉末を添加して数時間〜１日程度
撹拌すればよい。
化ソーダと硫黄が容易に作ることができ、具体的には硫
化ソーダ水溶液に硫黄粉末を添加して数時間〜１日程度
撹拌すればよい。
生成するポリ硫化ソーダのＳ／Ｎａ （モル比）は混合
時のＮＩＬ！Ｓ と硫黄の混合比によって決り、Ｓ／Ｎ
＊ ＝ １〜１．６でＮａｚＳｔ ＋ Ｓ／Ｎａ ＝
１．６〜２．６でＮａＪ４ ｊ Ｓ／Ｎａ＝Ｚ６以上
でＮ ａ １ Ｓ １が一応の目安となる。なお硫化ソ
ーダ水溶液に硫黄を添加した場合、チオ硫酸ナトリウム
が少量生成する場合があるが、エタノールの１０〜３０
％水浴液に硫化ソーダと硫黄を添加することにより反応
時間を短縮でき、又チオ硫酸ソーダの生成を抑制するこ
とができる。ポリ硫化物としての濃度は作り易さなどを
考慮すれば２０％以下で適当な濃度を選ぶと工い。
時のＮＩＬ！Ｓ と硫黄の混合比によって決り、Ｓ／Ｎ
＊ ＝ １〜１．６でＮａｚＳｔ ＋ Ｓ／Ｎａ ＝
１．６〜２．６でＮａＪ４ ｊ Ｓ／Ｎａ＝Ｚ６以上
でＮ ａ １ Ｓ １が一応の目安となる。なお硫化ソ
ーダ水溶液に硫黄を添加した場合、チオ硫酸ナトリウム
が少量生成する場合があるが、エタノールの１０〜３０
％水浴液に硫化ソーダと硫黄を添加することにより反応
時間を短縮でき、又チオ硫酸ソーダの生成を抑制するこ
とができる。ポリ硫化物としての濃度は作り易さなどを
考慮すれば２０％以下で適当な濃度を選ぶと工い。
洗゛煙排水の処理に際しては過剰の硫黄が存在すると生
成したＨｇＳが再溶解するため、この過剰の硫黄分を、
例えば第３図に示すように前記した引抜きパルプ１３か
ら貯槽１８に引抜かれた排液をポンプ１９で撹拌反応槽
２５、固液分離槽２６に送るに描り塩化＠２鉄タンク２
０、ポンプ２１に工りＦ’ｅＣｔｓ などの金属塩を
加えて溶液中から除去する。このようにすることに工り
同時に安定なＨｇＳとして水銀を液中から除去すること
ができ、前記撹拌反応槽２５にはタンク２２からポンプ
２３とｐＨ指示調節計２４により苛性ソーダが適宜添加
されるようになっている。ＦｅＣｌ２ については過
剰の硫黄分に見合う量を定量注入することとしＮ ｐ
）（は中性付近にコントロールする。又この場合必要に
応じてポリマーを添加する。
成したＨｇＳが再溶解するため、この過剰の硫黄分を、
例えば第３図に示すように前記した引抜きパルプ１３か
ら貯槽１８に引抜かれた排液をポンプ１９で撹拌反応槽
２５、固液分離槽２６に送るに描り塩化＠２鉄タンク２
０、ポンプ２１に工りＦ’ｅＣｔｓ などの金属塩を
加えて溶液中から除去する。このようにすることに工り
同時に安定なＨｇＳとして水銀を液中から除去すること
ができ、前記撹拌反応槽２５にはタンク２２からポンプ
２３とｐＨ指示調節計２４により苛性ソーダが適宜添加
されるようになっている。ＦｅＣｌ２ については過
剰の硫黄分に見合う量を定量注入することとしＮ ｐ
）（は中性付近にコントロールする。又この場合必要に
応じてポリマーを添加する。
次に本発明による具体例と従来法による比較実験例につ
いて説明すると以下の如くでめる。
いて説明すると以下の如くでめる。
即ち第４図に示すように水銀蒸気発生器３２に空気３１
を送入して得られる水銀蒸気を硫酸−過マンガン酸カリ
ウム（ＫＭｎＯ４＋ ｕ、５ｏ４）吸収液１００−を収
容した２ ５０ ｍｌの洗浄瓶３３゜３４と試験用吸収
液を１００−収容した洗浄瓶３５および同じく硫酸−過
マンガン酸カリウム吸収液１００−を収容した洗浄瓶３
６．３７を図示のように連結し、前記水銀蒸気発生器３
２を通したガスを０．５ ｔ／ｂの割合で１時間供給し
吸収実験した。洗浄瓶３５には１０ ％ ＮａＣ１溶液
およびこの１０チＮａＣＬ溶液にチオール系液体キレ−
１−１００ｒｎｖ’Ｌの割合で配合したもの、および同
じくこの１０チＮａ Ｃ１溶液にポリ硫化物〔２０チエ
タノール水溶液中にＮａ２ Ｓと、硫黄をＳ／Ｎａ ＝
１５ （モル比）で添加し調整したもの］ １００
ｍＶ’ｔの割合に添加した不発明方法に準するものの
３種を用い実験測定した結果は次の＠１表の通りであっ
た。
を送入して得られる水銀蒸気を硫酸−過マンガン酸カリ
ウム（ＫＭｎＯ４＋ ｕ、５ｏ４）吸収液１００−を収
容した２ ５０ ｍｌの洗浄瓶３３゜３４と試験用吸収
液を１００−収容した洗浄瓶３５および同じく硫酸−過
マンガン酸カリウム吸収液１００−を収容した洗浄瓶３
６．３７を図示のように連結し、前記水銀蒸気発生器３
２を通したガスを０．５ ｔ／ｂの割合で１時間供給し
吸収実験した。洗浄瓶３５には１０ ％ ＮａＣ１溶液
およびこの１０チＮａＣＬ溶液にチオール系液体キレ−
１−１００ｒｎｖ’Ｌの割合で配合したもの、および同
じくこの１０チＮａ Ｃ１溶液にポリ硫化物〔２０チエ
タノール水溶液中にＮａ２ Ｓと、硫黄をＳ／Ｎａ ＝
１５ （モル比）で添加し調整したもの］ １００
ｍＶ’ｔの割合に添加した不発明方法に準するものの
３種を用い実験測定した結果は次の＠１表の通りであっ
た。
即ち１０チＮａＣｔ溶液にポリ硫化物を添加したものを
吸収液としたＱのものは極めて高い吸収効果を示すこと
が確認された。
吸収液としたＱのものは極めて高い吸収効果を示すこと
が確認された。
そこで上記した工うな実験結果に基き、実際に水銀を含
有したゴミ焼却排ガスを用いると共に、■第１図に示し
たような焼却炉排ガスの塩化水素除去処理に使用される
苛性ソーダ洗浄液お↓び■該洗浄液にチオール系液体キ
レートを１００ ｒｒｖ’ｔの割合で添加したもの、■
該洗浄液に本発明に従いポリ硫化物を１００ＴＩｖ／ｌ
の割合で添加したものを用い、前述したところと同様に
吸収処理結果を測定した。
有したゴミ焼却排ガスを用いると共に、■第１図に示し
たような焼却炉排ガスの塩化水素除去処理に使用される
苛性ソーダ洗浄液お↓び■該洗浄液にチオール系液体キ
レートを１００ ｒｒｖ’ｔの割合で添加したもの、■
該洗浄液に本発明に従いポリ硫化物を１００ＴＩｖ／ｌ
の割合で添加したものを用い、前述したところと同様に
吸収処理結果を測定した。
即ちこの結果は次の第２表に示す通りでおって、本発明
による■のものが９４１に達する高い吸収効果を示した
。
による■のものが９４１に達する高い吸収効果を示した
。
「発明の効果」
以上説明したような本発明によるときは、ゴミ焼却排ガ
ス中に含有される水錫分を、該排ガスの塩素化除去に使
用される苛性ソーダ洗浄液を用い、これにポリ硫化ソー
ダを添加して効率的且つ低コストに吸収除去することが
可能であり、工業的にその効果の大きい発明である。
ス中に含有される水錫分を、該排ガスの塩素化除去に使
用される苛性ソーダ洗浄液を用い、これにポリ硫化ソー
ダを添加して効率的且つ低コストに吸収除去することが
可能であり、工業的にその効果の大きい発明である。
図面は不発明の技術的内容を示すもので、第１図と第２
図はゴミ焼却排ガスの洗浄処理状態を示した各説明図、
第３図はその洗浄排液に対する除去処理行程の説明図、
第４図は水銀蒸気を準備し吸収実験ｆ、なしたものの説
明図である。 然してこれらの図面において、１は焼却排ガス、２は洗
浄塔、３は予冷部、４は主洗浄部、５は減湿部、６は洗
浄液溜、Ｔは洗浄液ボ／ブ、８は苛性ソーダタンク、９
は苛性ソーダポンプ、１０はｐＨ指示調節計、１１はポ
リ硫化ソーダタンク、１２はポリ硫化ソーダポンプ、１
３は洗浄液引抜パルプ、１Ｂは処理排ガス、１Ｔは予冷
液ライン、１８は洗浄排液貯槽、１９は洗浄排液供給ポ
ンプ、２０は塩化第二鉄タンク、２１はそのポンプ、２
２は苛性ソーダタンク、２３はそのポンプ、２４はｐＨ
指示調節計、２５は撹拌反応槽、２６は固液分離槽、２
７は処理水、２８は汚泥、３１は空気、３２は水銀蒸気
発生器、３３．３４および３６．３７は硫酸−過マンガ
ン酸カリウム吸収故、３５は洗浄液、３９はエアポンプ
、４０はガスメータ、４１はエアポンプで夫々示すもの
でろる。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発 明 者 藤 沢 能 成四
大 垣 陽 二ｊＰ σ
画 ′＄ ４ 画 べ べへ
図はゴミ焼却排ガスの洗浄処理状態を示した各説明図、
第３図はその洗浄排液に対する除去処理行程の説明図、
第４図は水銀蒸気を準備し吸収実験ｆ、なしたものの説
明図である。 然してこれらの図面において、１は焼却排ガス、２は洗
浄塔、３は予冷部、４は主洗浄部、５は減湿部、６は洗
浄液溜、Ｔは洗浄液ボ／ブ、８は苛性ソーダタンク、９
は苛性ソーダポンプ、１０はｐＨ指示調節計、１１はポ
リ硫化ソーダタンク、１２はポリ硫化ソーダポンプ、１
３は洗浄液引抜パルプ、１Ｂは処理排ガス、１Ｔは予冷
液ライン、１８は洗浄排液貯槽、１９は洗浄排液供給ポ
ンプ、２０は塩化第二鉄タンク、２１はそのポンプ、２
２は苛性ソーダタンク、２３はそのポンプ、２４はｐＨ
指示調節計、２５は撹拌反応槽、２６は固液分離槽、２
７は処理水、２８は汚泥、３１は空気、３２は水銀蒸気
発生器、３３．３４および３６．３７は硫酸−過マンガ
ン酸カリウム吸収故、３５は洗浄液、３９はエアポンプ
、４０はガスメータ、４１はエアポンプで夫々示すもの
でろる。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発 明 者 藤 沢 能 成四
大 垣 陽 二ｊＰ σ
画 ′＄ ４ 画 べ べへ
Claims (1)
- ゴミ焼却排ガスの塩化水素除去に用いられた苛性ソーダ
洗浄液にポリ硫化物を添加した処理液に対し前記ゴミ焼
却排ガスを吸収処理させることを特徴とするゴミ焼却排
ガスの水銀除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60189486A JPS6253726A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | ゴミ焼却排ガスの水銀除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60189486A JPS6253726A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | ゴミ焼却排ガスの水銀除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6253726A true JPS6253726A (ja) | 1987-03-09 |
| JPH0148808B2 JPH0148808B2 (ja) | 1989-10-20 |
Family
ID=16242065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60189486A Granted JPS6253726A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | ゴミ焼却排ガスの水銀除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6253726A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6556189B1 (en) | 1998-04-24 | 2003-04-29 | Nissha Printing Co., Ltd. | Touch panel device |
| WO2009092575A1 (de) * | 2008-01-23 | 2009-07-30 | Vosteen Consulting Gmbh | Verfahren zur quecksilberabscheidung |
| US7589798B2 (en) | 2001-09-06 | 2009-09-15 | Nissha Printing Co., Ltd. | Touch panel having upper electrode plate including electrode, polarizing plate, quarter wave plate and heat-resistant transparent resin plate |
| JP2011506062A (ja) * | 2007-12-05 | 2011-03-03 | アルストム テクノロジー リミテッド | 湿式煙道ガス脱硫システムにおける水銀保持を促進する方法 |
-
1985
- 1985-08-30 JP JP60189486A patent/JPS6253726A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6556189B1 (en) | 1998-04-24 | 2003-04-29 | Nissha Printing Co., Ltd. | Touch panel device |
| US7589798B2 (en) | 2001-09-06 | 2009-09-15 | Nissha Printing Co., Ltd. | Touch panel having upper electrode plate including electrode, polarizing plate, quarter wave plate and heat-resistant transparent resin plate |
| JP2011506062A (ja) * | 2007-12-05 | 2011-03-03 | アルストム テクノロジー リミテッド | 湿式煙道ガス脱硫システムにおける水銀保持を促進する方法 |
| WO2009092575A1 (de) * | 2008-01-23 | 2009-07-30 | Vosteen Consulting Gmbh | Verfahren zur quecksilberabscheidung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0148808B2 (ja) | 1989-10-20 |
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