JPH0356123A - ガス中の水銀及びNOxの除去方法 - Google Patents
ガス中の水銀及びNOxの除去方法Info
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- JPH0356123A JPH0356123A JP1190493A JP19049389A JPH0356123A JP H0356123 A JPH0356123 A JP H0356123A JP 1190493 A JP1190493 A JP 1190493A JP 19049389 A JP19049389 A JP 19049389A JP H0356123 A JPH0356123 A JP H0356123A
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、ガス、とくに都市ごみや産業廃棄物等の焼却
炉から発生する排ガス中に含まれる水銀及びNoウを除
去する方法に関する。
炉から発生する排ガス中に含まれる水銀及びNoウを除
去する方法に関する。
[従来の技術]
都市ごみや産業廃棄物等の焼却炉から発生する排ガス中
には、法規制の対象となっている塩化水素(HCg)、
亜硫酸(SO2)等の酸性有害ガスが含まれている。こ
のため、通常、排ガスは乾式法、半乾式法、または湿式
法によって処理されている。しかしながら、この排ガス
中には上記有害ガスと共に、水銀、水銀化合物、及び窒
素酸化物(NOX)が含まれており、上記従来の酸性ガ
ス除去方法では、これらを除去することは出来なかった
。
には、法規制の対象となっている塩化水素(HCg)、
亜硫酸(SO2)等の酸性有害ガスが含まれている。こ
のため、通常、排ガスは乾式法、半乾式法、または湿式
法によって処理されている。しかしながら、この排ガス
中には上記有害ガスと共に、水銀、水銀化合物、及び窒
素酸化物(NOX)が含まれており、上記従来の酸性ガ
ス除去方法では、これらを除去することは出来なかった
。
一方、水銀およびその化合物を除去する方法として、上
記湿式法の洗浄液に次亜塩素酸塩(例えば次亜塩素酸ソ
ーダ)を添加し、さらに苛性ソーダ等のアルカリ剤でp
Hを6〜9に調整することにより、上記排ガス中の水銀
を塩化水素や亜硫酸と共に除去する方法が提案されてい
る。しかし、この方法では水銀は確実に除去可能である
が、水銀をね去するために添加する次亜塩素酸塩の添加
量では、NOXをほとんど除去することができない。N
OXをある程度まで除去するには、上記のアルカリ湿式
洗浄法において、次亜塩素酸塩の添加量をさらに多くす
れば良い。しかしこの場合、洗浄処理ガス中に塩素ガス
(CfI2 )が多く含まれ、後工程1影響を及ぼすと
共に、煙突から塩素ガスを放出することは環境保全上問
題となる。
記湿式法の洗浄液に次亜塩素酸塩(例えば次亜塩素酸ソ
ーダ)を添加し、さらに苛性ソーダ等のアルカリ剤でp
Hを6〜9に調整することにより、上記排ガス中の水銀
を塩化水素や亜硫酸と共に除去する方法が提案されてい
る。しかし、この方法では水銀は確実に除去可能である
が、水銀をね去するために添加する次亜塩素酸塩の添加
量では、NOXをほとんど除去することができない。N
OXをある程度まで除去するには、上記のアルカリ湿式
洗浄法において、次亜塩素酸塩の添加量をさらに多くす
れば良い。しかしこの場合、洗浄処理ガス中に塩素ガス
(CfI2 )が多く含まれ、後工程1影響を及ぼすと
共に、煙突から塩素ガスを放出することは環境保全上問
題となる。
本発明は、上記の従来技術の問題点を解決するためにな
されたもので、水銀およびNoκを含有する燃焼排ガス
を、湿式洗浄法によって、次亜塩素酸を含む洗浄液で処
理し、水銀とNOXを除去した後、処理ガス中に含まれ
る塩素を効果的に除去する、排ガス中の水銀とNOXの
除去方法を提供するものである。
されたもので、水銀およびNoκを含有する燃焼排ガス
を、湿式洗浄法によって、次亜塩素酸を含む洗浄液で処
理し、水銀とNOXを除去した後、処理ガス中に含まれ
る塩素を効果的に除去する、排ガス中の水銀とNOXの
除去方法を提供するものである。
[課題を解決する手段]
本発明は、次亜塩素酸塩を含有する洗浄液に、水銀及び
NOXを含有するガスを接触して、この洗浄液に水銀及
びNOXを吸収除去せしめる工程4、ついで、上記ガス
を塩素と反応可能な還元剤を添加した洗浄液に接触させ
て、このガス中に含まれる塩轡を除去する工程とを具備
したガス中の水銀及びNOXの除去方法である。
NOXを含有するガスを接触して、この洗浄液に水銀及
びNOXを吸収除去せしめる工程4、ついで、上記ガス
を塩素と反応可能な還元剤を添加した洗浄液に接触させ
て、このガス中に含まれる塩轡を除去する工程とを具備
したガス中の水銀及びNOXの除去方法である。
[実施例]
実施例I
第1図は、本発明方法を実施するための3塔の湿式ガス
洗浄塔20. 40. 80を組合わせた除去装置を示
す。各塔の構造は、特に限定されるものではないが、気
液接触効率の良い、スプレー塔、若しくは充填塔構造を
なすスプレー塔が望ましい。排ガスと洗浄液との接触は
向流もしくは並流のいずれでもよいが、向流による方が
効率が良い。各塔の下部には、液溜21. 41. 8
1が設けてあり、それぞれボンブ22. 42. 82
によって洗浄液が抜出され、搭上部に設置したスプレー
手段23. 43. Hによって塔内に噴霧され、排ガ
スと接触する。また、夫々の洗浄液はガスを洗浄するう
ち、塩類濃度が高くなり、吸収効率が低下する。これを
防止するために、一定の塩類濃度となるように、時々洗
浄液を洗煙廃水貯槽80に抜出すと共に、補給液が供給
される。また、各塔から抜出された洗浄液は、洗煙廃水
貯槽80で混合され、中和された後、後工程である水処
理設備;こ送られる。なお、これらの液は混合しないで
別々に処理しても良い。
洗浄塔20. 40. 80を組合わせた除去装置を示
す。各塔の構造は、特に限定されるものではないが、気
液接触効率の良い、スプレー塔、若しくは充填塔構造を
なすスプレー塔が望ましい。排ガスと洗浄液との接触は
向流もしくは並流のいずれでもよいが、向流による方が
効率が良い。各塔の下部には、液溜21. 41. 8
1が設けてあり、それぞれボンブ22. 42. 82
によって洗浄液が抜出され、搭上部に設置したスプレー
手段23. 43. Hによって塔内に噴霧され、排ガ
スと接触する。また、夫々の洗浄液はガスを洗浄するう
ち、塩類濃度が高くなり、吸収効率が低下する。これを
防止するために、一定の塩類濃度となるように、時々洗
浄液を洗煙廃水貯槽80に抜出すと共に、補給液が供給
される。また、各塔から抜出された洗浄液は、洗煙廃水
貯槽80で混合され、中和された後、後工程である水処
理設備;こ送られる。なお、これらの液は混合しないで
別々に処理しても良い。
第一塔20及び第二塔40から抜出された洗浄液のpH
は検出計24. 44で自動計測され、この値に基づい
て第一塔及び第二塔の液溜のpHが所定の値となるよう
に、苛性ソーダ供給ポンプ25. 45が制御される。
は検出計24. 44で自動計測され、この値に基づい
て第一塔及び第二塔の液溜のpHが所定の値となるよう
に、苛性ソーダ供給ポンプ25. 45が制御される。
第一塔及び第二塔の洗浄液スプレーラインには貯槽90
からポンプ9lにより次亜塩素酸塩(例えばNaCρO
)が供給される。一方、第三塔の洗浄液スプレーライン
には、貯冶100からボンプ101により塩素と反応す
る還元剤(例えば、亜硫酸ソーダNa2SO3 )が供
給される。
からポンプ9lにより次亜塩素酸塩(例えばNaCρO
)が供給される。一方、第三塔の洗浄液スプレーライン
には、貯冶100からボンプ101により塩素と反応す
る還元剤(例えば、亜硫酸ソーダNa2SO3 )が供
給される。
第二塔及び第三塔スプレー手段43. 63の上部には
デミスター413. 68が設置されており、ガ−スに
伴って飛散するミストを除去している。
デミスター413. 68が設置されており、ガ−スに
伴って飛散するミストを除去している。
本発明では、燃焼排ガスを電気集塵機lOでダスト除去
した後、上記湿式ガス洗浄塔の第一塔20頂部に導く。
した後、上記湿式ガス洗浄塔の第一塔20頂部に導く。
この燃焼排ガスは、300℃程度であり、この中には塩
化水素(Hill)や硫言酸化物(SOx)と共に、窒
素酸化物(NOX )や水銀(Hg)が含まれている。
化水素(Hill)や硫言酸化物(SOx)と共に、窒
素酸化物(NOX )や水銀(Hg)が含まれている。
第一塔20に導入された上記排ガスは、スプレー手段2
3から噴霧されたNaCρOを含む洗浄液により冷却さ
れる。このとき、洗浄液中のNaCj70の一部は、上
記ガスに同伴するHCfiによって、酸分解を受け、塩
素ガスを発生する。この反応は次のように進行する。
3から噴霧されたNaCρOを含む洗浄液により冷却さ
れる。このとき、洗浄液中のNaCj70の一部は、上
記ガスに同伴するHCfiによって、酸分解を受け、塩
素ガスを発生する。この反応は次のように進行する。
NaCIO+HCII−NaCIJ +HCN OH
C 47 0 + H C O − H 2 0 +
C R 2この反応は、pHが7以下で急激に進行する
。上記酸分解によって生成したCN2は、排ガス中のN
OXと次のように反応し、洗浄液中に吸収されると考え
られる。
C 47 0 + H C O − H 2 0 +
C R 2この反応は、pHが7以下で急激に進行する
。上記酸分解によって生成したCN2は、排ガス中のN
OXと次のように反応し、洗浄液中に吸収されると考え
られる。
2NO+CD 2 −2NOCR
2 N O C II 十H 2 0 − 2 H N
O 2 + 2 H C fl第2図は、縦軸にNO
X除去率、横軸に洗浄液pH値をとり、NaC,170
を同量添加し、更にNaOHでpHFl節した時の、洗
浄液のpHとNo、除去率との′関係を示す。この図は
、60%以上のNOX除去率を達或するために、洗浄液
のpHを約6以下とする必要があることを示している。
O 2 + 2 H C fl第2図は、縦軸にNO
X除去率、横軸に洗浄液pH値をとり、NaC,170
を同量添加し、更にNaOHでpHFl節した時の、洗
浄液のpHとNo、除去率との′関係を示す。この図は
、60%以上のNOX除去率を達或するために、洗浄液
のpHを約6以下とする必要があることを示している。
従って、第一塔での洗浄液のpHは2〜6となるように
制御してNOXの酸化をおこない、洗浄液中に吸収させ
ることが望ましい。
制御してNOXの酸化をおこない、洗浄液中に吸収させ
ることが望ましい。
一方、排ガス中の水銀の形態は、その大部分が水溶性の
第二水銀( H g ”)であるが、一部不溶性の金属
水銀(Hg0)が含まれており、加えられたNaCJ7
0によって、第二水銀に酸化された洗i′p波中に吸収
される。
第二水銀( H g ”)であるが、一部不溶性の金属
水銀(Hg0)が含まれており、加えられたNaCJ7
0によって、第二水銀に酸化された洗i′p波中に吸収
される。
Hg+NaCfIO−HgO+NaCJ7HgO+2H
CiJロHg CD 2 + H2 0第3図は、洗浄
液のpHと水銀除去率との関係を示す。この図は、高効
率で水銀除去するためには、洗浄液のpHは、約6〜9
とする必要があることを示している。従って、水銀除去
に関して、第一塔20である程度の水銀を洗浄液中に吸
収除去した後、第二塔40における洗浄液のpHを約6
〜9に制御して、水銀の吸収除去をおこなうことが望ま
しい。
CiJロHg CD 2 + H2 0第3図は、洗浄
液のpHと水銀除去率との関係を示す。この図は、高効
率で水銀除去するためには、洗浄液のpHは、約6〜9
とする必要があることを示している。従って、水銀除去
に関して、第一塔20である程度の水銀を洗浄液中に吸
収除去した後、第二塔40における洗浄液のpHを約6
〜9に制御して、水銀の吸収除去をおこなうことが望ま
しい。
第二塔40において、NaCfiOを供給することは、
水銀およびNOXに対して、除去率を向上させる効果が
ある。しかし、排ガスの燃焼状態や、水銀とNOXの濃
度によっては、第一塔20で供給したNaCjlOだけ
で十分な場合があり、必ずしも第二塔40にNaCρO
を供給する必要はない。
水銀およびNOXに対して、除去率を向上させる効果が
ある。しかし、排ガスの燃焼状態や、水銀とNOXの濃
度によっては、第一塔20で供給したNaCjlOだけ
で十分な場合があり、必ずしも第二塔40にNaCρO
を供給する必要はない。
また、第二塔出口には、デミスター46を設置し、排ガ
スに同伴するミストを除去することが、水銀除去率を高
める上で非常に重要である。何故なら、後述するように
、第三塔において洗浄液は還元性雰囲気にあり、第二塔
40から排出されたミスト中に含まれる水銀が還元され
、金属水銀となって再揮散し、排ガス中に戻り、水銀除
去率が低下するためである。生成したC,lJ2ガスは
、第一塔20と第二塔40だけでは消費されず、第三塔
60に導入される。このCl2ガスを後工程に導入する
ことは、装置材質上好ましくない。従って、第三塔60
においてCR2と反応する還元剤(Na2So3等)を
添加し、残存するCI?2を除去することが必要である
。この還元剤の添加量は、第三塔60に導入される処理
ガス中に含まれる(12に封して等量以上あればよい。
スに同伴するミストを除去することが、水銀除去率を高
める上で非常に重要である。何故なら、後述するように
、第三塔において洗浄液は還元性雰囲気にあり、第二塔
40から排出されたミスト中に含まれる水銀が還元され
、金属水銀となって再揮散し、排ガス中に戻り、水銀除
去率が低下するためである。生成したC,lJ2ガスは
、第一塔20と第二塔40だけでは消費されず、第三塔
60に導入される。このCl2ガスを後工程に導入する
ことは、装置材質上好ましくない。従って、第三塔60
においてCR2と反応する還元剤(Na2So3等)を
添加し、残存するCI?2を除去することが必要である
。この還元剤の添加量は、第三塔60に導入される処理
ガス中に含まれる(12に封して等量以上あればよい。
又、洗浄液のORP (酸化還元電位)を測定し、10
0〜−200mvとなるように、還元剤の添加量を制御
してもよい。
0〜−200mvとなるように、還元剤の添加量を制御
してもよい。
tj.1図に示す装置を使用して、本発明方法を実施し
た。すなわち、ごみ焼却工場の電気集塵機出口の煙道よ
り、燃焼排ガスを分岐し、三塔で構成された洗浄装置に
導いた。NaCfIOの供給は、第一塔20のみとし、
NaOHによって、第一塔20及び第二塔40の洗浄液
のpHをそれぞれ4.0. 7.5となるように制御し
た。さらに第三塔60には、還元剤としてNa2So,
水溶液を加えた。
た。すなわち、ごみ焼却工場の電気集塵機出口の煙道よ
り、燃焼排ガスを分岐し、三塔で構成された洗浄装置に
導いた。NaCfIOの供給は、第一塔20のみとし、
NaOHによって、第一塔20及び第二塔40の洗浄液
のpHをそれぞれ4.0. 7.5となるように制御し
た。さらに第三塔60には、還元剤としてNa2So,
水溶液を加えた。
第4図は第一塔20でのNaCJ70の添加量を変化さ
せたときの、第二塔40での処理ガス中の塩素濃度と第
三塔60での処理ガスの原ガスに対する水銀及びNOX
の除去率を示す。この図から、水銀除去に関しては、第
二塔処理ガス中のCp 2 ’t農度を20■/ N
m ’以上とすることにより、約90%以上の水銀除去
ができた。一方、NOXに対しては、40Clng/N
m3とすることにより、80%以上のNOXを除去でき
た。
せたときの、第二塔40での処理ガス中の塩素濃度と第
三塔60での処理ガスの原ガスに対する水銀及びNOX
の除去率を示す。この図から、水銀除去に関しては、第
二塔処理ガス中のCp 2 ’t農度を20■/ N
m ’以上とすることにより、約90%以上の水銀除去
ができた。一方、NOXに対しては、40Clng/N
m3とすることにより、80%以上のNOXを除去でき
た。
また、第二塔処理ガス中のCJ?2に対する、供給した
Na2So4のモル比と第三塔処理ガス中のCρ2を第
5図に示す。その結果、モル比が1,0以上で、第三塔
の処理ガス中のCff2濃度が20 mg./ N m
3.9j下となった。この図から、等モル以上の添加
が好適であることがわかる。
Na2So4のモル比と第三塔処理ガス中のCρ2を第
5図に示す。その結果、モル比が1,0以上で、第三塔
の処理ガス中のCff2濃度が20 mg./ N m
3.9j下となった。この図から、等モル以上の添加
が好適であることがわかる。
以上の結果から、上記実施例では、燃焼υトガス中の水
銀及びNOXが高効率で除去できると共に、洗浄塔より
排出する塩素濃度を著しく低減できることがわかる。
銀及びNOXが高効率で除去できると共に、洗浄塔より
排出する塩素濃度を著しく低減できることがわかる。
実施例■
上記実施例では、三塔構造の水銀及びNOX除去装置に
ついて述べたが、本発明方法は、構造の異なる他の装置
を用いても実施できる。例えば、第6図は一塔200か
らなる除去装置を示す。この装置は、塔の下部に液溜2
01を、またこの液溜20lに連通した貯槽202が設
けてあり゜、洗浄液が抜出され、搭.下段又は搭中段に
設置したスプレー手段203. 204によって塔下部
または塔内の洗浄部205上に噴霧され、排ガスと接触
する。抜出された洗浄液のpHは検出計206. 20
7で自動計測され、この検出値に基づいて貯槽202又
は液溜201のpllが所定の値となるように、HC,
17供給ボンブ20B又は209苛性ソーダ供給ポンプ
209が制御される。
ついて述べたが、本発明方法は、構造の異なる他の装置
を用いても実施できる。例えば、第6図は一塔200か
らなる除去装置を示す。この装置は、塔の下部に液溜2
01を、またこの液溜20lに連通した貯槽202が設
けてあり゜、洗浄液が抜出され、搭.下段又は搭中段に
設置したスプレー手段203. 204によって塔下部
または塔内の洗浄部205上に噴霧され、排ガスと接触
する。抜出された洗浄液のpHは検出計206. 20
7で自動計測され、この検出値に基づいて貯槽202又
は液溜201のpllが所定の値となるように、HC,
17供給ボンブ20B又は209苛性ソーダ供給ポンプ
209が制御される。
各洗浄液スプレーラインには次亜塩素酸塩(例えばNa
C10)が供給される。一方、貯槽210、冷却塔21
l1及び塔上段のスプレー手段2l2、及びその下部に
ある果液部213を備えた洗浄液スプレーラインには、
塩素と反応する還元剤(例えば、亜硫酸ソーダNa2S
Oi)が供給される。上記スプレー手段204. 21
2の上部にはデミスター214,215が設置されてお
り、ガスに伴って飛散するミストを除去している。
C10)が供給される。一方、貯槽210、冷却塔21
l1及び塔上段のスプレー手段2l2、及びその下部に
ある果液部213を備えた洗浄液スプレーラインには、
塩素と反応する還元剤(例えば、亜硫酸ソーダNa2S
Oi)が供給される。上記スプレー手段204. 21
2の上部にはデミスター214,215が設置されてお
り、ガスに伴って飛散するミストを除去している。
この装置を用いて本発明方法を実施するには、燃焼排ガ
スを予冷部216から導入し、NaCρOを含む洗浄液
で冷却する。この時、洗浄液中のNaCIOの、一部は
、上記ガスに同伴するHCρによって、酸分解を受け、
塩素ガスを発生する。
スを予冷部216から導入し、NaCρOを含む洗浄液
で冷却する。この時、洗浄液中のNaCIOの、一部は
、上記ガスに同伴するHCρによって、酸分解を受け、
塩素ガスを発生する。
上記酸分解によって生成したCII2は、排ガス中のN
OXと反応し、洗浄液中に吸収される。一方、排ガス中
の水銀の形態は、その大部分が水溶性の第二水銀( H
g ”)であるが、一部不溶性の金属水銀(Hg’)
が含まれており、加えられたNaC[Oによって、第二
水銀に酸化された洗浄液中に吸収される。この処理後の
排ガスは、塔中段に上昇し、ここでも同様にスプレー手
段204から噴霧された洗浄液により、NOXと水銀が
吸収除去される。これらの処理で生成したCjll2ガ
スは、塔下段と塔中段だけでは消費されず、塔上段に導
入される。塔上段において、C12と反応する還元剤を
添加し、残存するCρ2を除去する。
OXと反応し、洗浄液中に吸収される。一方、排ガス中
の水銀の形態は、その大部分が水溶性の第二水銀( H
g ”)であるが、一部不溶性の金属水銀(Hg’)
が含まれており、加えられたNaC[Oによって、第二
水銀に酸化された洗浄液中に吸収される。この処理後の
排ガスは、塔中段に上昇し、ここでも同様にスプレー手
段204から噴霧された洗浄液により、NOXと水銀が
吸収除去される。これらの処理で生成したCjll2ガ
スは、塔下段と塔中段だけでは消費されず、塔上段に導
入される。塔上段において、C12と反応する還元剤を
添加し、残存するCρ2を除去する。
実施例■
第7図は、二塔300. 301からなる除去装置を示
す。この装置は各塔の下部に液溜302, 303が設
けてあり、洗浄液が抜出され、各搭内部に設置したスプ
レー手段304. 305によって各塔内の洗浄部30
8, 307上に噴霧され、排ガスと接触する。抜出さ
れた洗浄液のpHは夫々検出計308. 309で自動
計劃され、この値に基づいて液溜のpHが所定の値とな
るように、苛性ソーダ供給ポンプ310. 311が制
御される。各洗浄液スプレーラインには次亜塩素酸塩(
例えばNaCffO)が供給される。一方、貯槽3l2
、塔上段のスプレー手段3l3、及びその下部にある果
液部314を備えた洗浄液スプレーラインには、塩素と
反応する還元剤(例えば、亜硫酸ソーダNa2SOi)
が供給される。上記スプレー手段305, 313の上
部にはデミスター3l5,31Bが設置されており、ガ
スに伴って飛散するミストを除去している。
す。この装置は各塔の下部に液溜302, 303が設
けてあり、洗浄液が抜出され、各搭内部に設置したスプ
レー手段304. 305によって各塔内の洗浄部30
8, 307上に噴霧され、排ガスと接触する。抜出さ
れた洗浄液のpHは夫々検出計308. 309で自動
計劃され、この値に基づいて液溜のpHが所定の値とな
るように、苛性ソーダ供給ポンプ310. 311が制
御される。各洗浄液スプレーラインには次亜塩素酸塩(
例えばNaCffO)が供給される。一方、貯槽3l2
、塔上段のスプレー手段3l3、及びその下部にある果
液部314を備えた洗浄液スプレーラインには、塩素と
反応する還元剤(例えば、亜硫酸ソーダNa2SOi)
が供給される。上記スプレー手段305, 313の上
部にはデミスター3l5,31Bが設置されており、ガ
スに伴って飛散するミストを除去している。
この装置を用いて本発明方法を実施するには、燃焼排ガ
スを第一の塔300の頂部から導入し、NaCIOを含
む洗浄液で冷却する。この時、洗浄液中のNaCIOの
一部は、上記ガスに同伴するHCfiによって、酸分解
を受け、塩素ガスを発生する。上記酸分解によって生成
したCfI2は、排ガス中のNO.と反応し、洗浄液中
に吸収される。一方、排ガス中の水銀の形態は、その大
部分が水溶性の第二水銀( H g ”)であるが、一
部不溶性の金属水銀(HgO)が含まれており、加えら
れたNaCj70によって、第二水銀に酸化された洗浄
液中に吸収される。さらに第一の塔300で処理された
燃焼排ガス中のNOX及び水銀を第二の塔301の下段
に導入し、ここで上記と同様にNOX及び水銀の吸収処
理をおこなう。これらの処理で生成したCfl2ガスは
、第一の塔300及び第二の塔301の下段だけでは消
費されず、第二の塔301の上段に導入される。塔上段
において、CfI2と反応する還元剤を添加し、残存す
るcg2を除去する。
スを第一の塔300の頂部から導入し、NaCIOを含
む洗浄液で冷却する。この時、洗浄液中のNaCIOの
一部は、上記ガスに同伴するHCfiによって、酸分解
を受け、塩素ガスを発生する。上記酸分解によって生成
したCfI2は、排ガス中のNO.と反応し、洗浄液中
に吸収される。一方、排ガス中の水銀の形態は、その大
部分が水溶性の第二水銀( H g ”)であるが、一
部不溶性の金属水銀(HgO)が含まれており、加えら
れたNaCj70によって、第二水銀に酸化された洗浄
液中に吸収される。さらに第一の塔300で処理された
燃焼排ガス中のNOX及び水銀を第二の塔301の下段
に導入し、ここで上記と同様にNOX及び水銀の吸収処
理をおこなう。これらの処理で生成したCfl2ガスは
、第一の塔300及び第二の塔301の下段だけでは消
費されず、第二の塔301の上段に導入される。塔上段
において、CfI2と反応する還元剤を添加し、残存す
るcg2を除去する。
実施例■
第8図は、二塔400. 401からなる除去装置を示
す。この装置は第一の塔400の下部に液溜402が設
けてあり、この液溜402に連通して貯槽403が設け
てあり、洗浄液が抜出され、塔下部及び搭上部に設置し
たスプレー手段404. 405によって塔内に噴霧さ
れ、排ガスと接触する。貯冶403及び液溜402から
抜出された洗浄液のpHは、pH検出計406. 40
7により自動計測され、この値に基づいて貯槽403又
は液溜402のpHが所定の値となるように、HCρ供
給ボンブ408又は苛性ソーダ供給ポンブ409が制御
される。各洗浄液スプレーラインには貯槽410から次
亜塩素酸塩(たとえば、NaCiJO)が供給される。
す。この装置は第一の塔400の下部に液溜402が設
けてあり、この液溜402に連通して貯槽403が設け
てあり、洗浄液が抜出され、塔下部及び搭上部に設置し
たスプレー手段404. 405によって塔内に噴霧さ
れ、排ガスと接触する。貯冶403及び液溜402から
抜出された洗浄液のpHは、pH検出計406. 40
7により自動計測され、この値に基づいて貯槽403又
は液溜402のpHが所定の値となるように、HCρ供
給ボンブ408又は苛性ソーダ供給ポンブ409が制御
される。各洗浄液スプレーラインには貯槽410から次
亜塩素酸塩(たとえば、NaCiJO)が供給される。
一方、第二の塔401は、下部に液溜411を設け、洗
浄岐が抜出され、スプレー手段412によって塔内に噴
霧され、排ガスと接触する。この洗浄液スプレーライン
には、塩素と反応する還元剤(例えば、亜硫酸ソーダN
a2SOi)が供給される。上記スプレー手段405,
412の上部にはデミスター413, 414が設置
されており、ガスに伴って飛散するミストを除去してい
る。 この装置を用いて本発明方法を実施するには、燃
焼排ガスを第一の塔下部から導入し、NaC,poを含
む洗浄液で冷却する。この時、洗浄液中のNaCρOの
一部は、上記ガスに同伴するI C ,Qによって、酸
分解を受け、塩素ガスを発生する。上記酸分解によって
生成したCLl2は、排ガス中のNOXと反応し、洗浄
液中に吸収される。一方、排ガス中の水銀の形態は、そ
の大部分が水溶性の第二水銀( H g ”)であるが
、一部不溶性の金属水銀(Hg0)が含まれており、加
えられたNaC1loによって、第二水銀に酸化された
洗浄液中に吸収される。さらに第一の塔下部で処理され
た燃焼排ガス中のNOX及び水銀を第一の塔の上段で吸
収処理する。これらの処理で生成したCF2ガスは、第
一の塔だけでは消費されず、第二の塔に導入される。第
二の塔において、CF2と反応する還元剤を添加し、残
存するCN2を除去する。なお上記第6図乃至第8図を
用いた本発明方法の実施の説明では、各液溜、貯め内の
洗浄液のpH値の制御、還元剤の添加量の制御について
とくに記載しなかったが、第1図の装置を用いた本発明
方法の実施について説明したのと同様の制御を行う。
浄岐が抜出され、スプレー手段412によって塔内に噴
霧され、排ガスと接触する。この洗浄液スプレーライン
には、塩素と反応する還元剤(例えば、亜硫酸ソーダN
a2SOi)が供給される。上記スプレー手段405,
412の上部にはデミスター413, 414が設置
されており、ガスに伴って飛散するミストを除去してい
る。 この装置を用いて本発明方法を実施するには、燃
焼排ガスを第一の塔下部から導入し、NaC,poを含
む洗浄液で冷却する。この時、洗浄液中のNaCρOの
一部は、上記ガスに同伴するI C ,Qによって、酸
分解を受け、塩素ガスを発生する。上記酸分解によって
生成したCLl2は、排ガス中のNOXと反応し、洗浄
液中に吸収される。一方、排ガス中の水銀の形態は、そ
の大部分が水溶性の第二水銀( H g ”)であるが
、一部不溶性の金属水銀(Hg0)が含まれており、加
えられたNaC1loによって、第二水銀に酸化された
洗浄液中に吸収される。さらに第一の塔下部で処理され
た燃焼排ガス中のNOX及び水銀を第一の塔の上段で吸
収処理する。これらの処理で生成したCF2ガスは、第
一の塔だけでは消費されず、第二の塔に導入される。第
二の塔において、CF2と反応する還元剤を添加し、残
存するCN2を除去する。なお上記第6図乃至第8図を
用いた本発明方法の実施の説明では、各液溜、貯め内の
洗浄液のpH値の制御、還元剤の添加量の制御について
とくに記載しなかったが、第1図の装置を用いた本発明
方法の実施について説明したのと同様の制御を行う。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、燃焼排ガスなど
のガス中に含まれるNOX及び水銀を確実に除去すると
共に、処理ガスに含まれる塩素を吸収して大気中に放出
することを阻止し、環境汚染を防止することができる顕
著な効果を発揮する。
のガス中に含まれるNOX及び水銀を確実に除去すると
共に、処理ガスに含まれる塩素を吸収して大気中に放出
することを阻止し、環境汚染を防止することができる顕
著な効果を発揮する。
第1図は、本発明方広を実施する装置の一例を示す線図
、第2図は洗浄液のpHとNOX除去率との関係を示す
図、第3図は洗浄液のpHと水銀除去率との関係を示す
図、第4図は第一塔でのNaCpOの添加量を変化させ
たときの、第二塔での処理ガス中の塩素濃度と第三塔処
理ガスの原ガスに対する水銀及びNOXの除去率を示す
図、第5園は第二塔処理ガス中のCl)2に対する、供
給したNa 2 S 0 4のモル比と第三塔処理ガス
中のCg2を示す図、第6図乃至第8図は夫々本発明方
法を実施する装置の他の例を示す線図である。 10・・・電気集塵機、20・・・第一塔、21・・・
液溜、22・・・ポンプ、23・・・スプレー手段、2
4・・・検出計、25・・・苛性ソーダ供給ポンプ、4
0・・・第二塔、41・・・液溜、42・・・ボンブ、
43・・・スプレー手段、44・・・検出計、45・・
・苛性ソーダ供給ポンプ、4B・・・デミスター、6o
・・・第三塔、6l・・・液溜、62・・・ポンプ、B
3・・・スプレー手段、66・・・デミスター、80・
・・洗煙廃水貯搏、90・・・貯槽、91・・・ボンブ
、100・・・貯槽、101・・・ポンプ、200・・
・塔、201・・・液溜、202・・・貯搏、203,
204・・・スプレー手段、205・・・洗浄部、20
8.207・・・検出計、208・・・塩酸供給ポンプ
、209・・・苛性ソーダ供給ポンプ、210・・・貯
槽、211・・・冷却塔、2’l2・・・スプレー手段
、213・・・集液部、214.215・・・デミスタ
ー218・・・予冷部、
、第2図は洗浄液のpHとNOX除去率との関係を示す
図、第3図は洗浄液のpHと水銀除去率との関係を示す
図、第4図は第一塔でのNaCpOの添加量を変化させ
たときの、第二塔での処理ガス中の塩素濃度と第三塔処
理ガスの原ガスに対する水銀及びNOXの除去率を示す
図、第5園は第二塔処理ガス中のCl)2に対する、供
給したNa 2 S 0 4のモル比と第三塔処理ガス
中のCg2を示す図、第6図乃至第8図は夫々本発明方
法を実施する装置の他の例を示す線図である。 10・・・電気集塵機、20・・・第一塔、21・・・
液溜、22・・・ポンプ、23・・・スプレー手段、2
4・・・検出計、25・・・苛性ソーダ供給ポンプ、4
0・・・第二塔、41・・・液溜、42・・・ボンブ、
43・・・スプレー手段、44・・・検出計、45・・
・苛性ソーダ供給ポンプ、4B・・・デミスター、6o
・・・第三塔、6l・・・液溜、62・・・ポンプ、B
3・・・スプレー手段、66・・・デミスター、80・
・・洗煙廃水貯搏、90・・・貯槽、91・・・ボンブ
、100・・・貯槽、101・・・ポンプ、200・・
・塔、201・・・液溜、202・・・貯搏、203,
204・・・スプレー手段、205・・・洗浄部、20
8.207・・・検出計、208・・・塩酸供給ポンプ
、209・・・苛性ソーダ供給ポンプ、210・・・貯
槽、211・・・冷却塔、2’l2・・・スプレー手段
、213・・・集液部、214.215・・・デミスタ
ー218・・・予冷部、
Claims (3)
- (1)次亜塩素酸塩を含有する洗浄液に、水銀及びNO
_Xを含有するガスを接触して、この洗浄液に水銀及び
NO_Xを吸収除去せしめる工程と、ついで、上記ガス
を塩素と反応可能な還元剤を添加した洗浄液に接触させ
て、このガス中に含まれる塩素を除去する工程とを具備
した、 ガス中の水銀及びNO_Xの除去方法。 - (2)水銀及びNO_Xを吸収除去せしめる工程は、p
H2〜6に調整された第一の洗浄液に水銀及びNO_X
を含有するガスを接触せしめる工程と、第一の洗浄液と
接触した後の上記ガスをpH6〜9に調整された第二の
洗浄液と接触せしめる工程とを具備している請求項1に
記載のガス中の水銀及びNO_Xの除去方法。 - (3)水銀及びNO_Xを吸収除去せしめる工程では、
洗浄液と接触した後のガス中に含まれる塩素の濃度が1
00〜1000mgCl_2/Nm^3となるように、
上記洗浄液に添加する次亜塩素酸塩の添加量を制御して
いる請求項1に記載のガス中の水銀及びNO_Xの除去
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1190493A JPH0356123A (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | ガス中の水銀及びNOxの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1190493A JPH0356123A (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | ガス中の水銀及びNOxの除去方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0356123A true JPH0356123A (ja) | 1991-03-11 |
Family
ID=16259013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1190493A Pending JPH0356123A (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | ガス中の水銀及びNOxの除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0356123A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000084352A (ja) * | 1998-09-09 | 2000-03-28 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 煙突一体型排煙脱硫装置 |
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US7572420B2 (en) | 2003-04-11 | 2009-08-11 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Method for removing mercury in exhaust gas and system therefor |
JP2010527767A (ja) * | 2007-05-24 | 2010-08-19 | シーオーツー ピューリフィケーション エーエス | 燃焼ガスから二酸化炭素を除去する装置及び方法 |
US7916452B2 (en) | 2004-11-25 | 2011-03-29 | Panasonic Corporation | Method of producing a coin-type electrochemical element |
US10625206B2 (en) * | 2009-07-24 | 2020-04-21 | Graham Dickson | Apparatus and method for removing mercury from a gas |
Citations (3)
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JPS63100918A (ja) * | 1986-10-16 | 1988-05-06 | Zensuke Inoue | 排ガス中の水銀および窒素酸化物の同時除去方法 |
JPS63315136A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-12-22 | Zensuke Inoue | 排ガス中の水銀および窒素酸化物の同時除去方法 |
-
1989
- 1989-07-25 JP JP1190493A patent/JPH0356123A/ja active Pending
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US10625206B2 (en) * | 2009-07-24 | 2020-04-21 | Graham Dickson | Apparatus and method for removing mercury from a gas |
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