JPS6245423A - 静圧型レベラ用矯正ヘツド - Google Patents

静圧型レベラ用矯正ヘツド

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Publication number
JPS6245423A
JPS6245423A JP18587085A JP18587085A JPS6245423A JP S6245423 A JPS6245423 A JP S6245423A JP 18587085 A JP18587085 A JP 18587085A JP 18587085 A JP18587085 A JP 18587085A JP S6245423 A JPS6245423 A JP S6245423A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
strip
straightening
static pressure
head
cushion part
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18587085A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Yanagi
謙一 柳
Hikotaro Itani
猪谷 彦太郎
Toshihiro Takemasa
武政 俊博
Nobuyuki Taniguchi
信行 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP18587085A priority Critical patent/JPS6245423A/ja
Publication of JPS6245423A publication Critical patent/JPS6245423A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Straightening Metal Sheet-Like Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し産業上の利用分野〕 本発明は流体によシストリップ金浮上させて矯正する静
圧型テンションレベラの矯正ヘッドの構造に関する。
〔従来の技術〕
圧延機により圧延された帯状の金属板(以下、ストリッ
プという)はそのままの状態では平面度が十分でない場
合が多く、この場合にはテンションレベラにより矯正が
行われている。
一般にテンションレはうは第2図に示すように矯正ロー
ラ6全千鳥状に配置し、該ローラ6をストリップ1に接
触させて矯正作業全行うローラ矯正法全とっているが、
特に薄いストリップを矯正する場合には、ロール径を小
さくしなければならず、ロール径を小さくすることは強
度上の問題があり、またローラの軸受の強度や危険速度
による限界がある九め、高速化が困難であつtoこのよ
うな場合に、ローラの代用として流体の圧力でス) I
Jツブを支持する方法が従来より考えられている。
例えば特公昭50−35904公報に開示されている発
明は、第3図に示すように、矯正ヘッド2の中央に設け
られた流体噴出ノズル3とストリップ1との間に流体膜
5を形成させ、ストリップ11に静圧ヘッド2の頂部の
R部を接することなく支持させ繰返し曲げを行ってスト
リップ1に伸びを与えることにより、ス) IJツブの
幅方向に分布する伸びの不均一を是正して板形状全矯正
している。
し発明が解決しようとする問題点j 第3図に示した従来の矯正ヘッド2では次のような欠点
がある。
(1)ストリップの受圧面が狭いためポンプ容量が大き
くなる。ス) IJツブの受圧面は該矯正ヘッド2のノ
ズル幅に比例する几め、負荷が大きい場合は噴射圧力上
上げてこれ全支持する必要がある。
(2)該矯正ヘッド2に対し、ストリップ1が傾くと、
ヘッド前後の流体の流量バランスがくずれ、必要な圧力
が7’Cfcず、ス) IJツブ1が該ヘッド2に接触
し疵を生じたり、ストリップ1の振動等による該ヘッド
2への傾きの変化に対し不安定となシ、ひいてはス) 
IJツブの塑性加工量の変化ともなりチャタマーク等の
原因にもなる。
〔問題点を解決するtめの手段〕
前述のような矯正ヘッドの欠点全解消するため、走行ス
トリップの巾方向に開口する2個の流体噴射ノズル3を
具え、その間に所定の曲率半径金持つクッション部4を
構成することにより(第1図参照)、 受圧面積を大きくとれるようにし、ま九矯正ヘッドとス
トリップの傾きに対しても安定な圧力?維持できる構造
の矯正ヘッド全使用する。
(作用〕 これにより、2つの流体噴射ノズルから出る流体によっ
て囲まれた部分に形成されるクッション部の静圧によっ
てス) IJツブ全支持するため、クッション部の長さ
を大きくとることにより受圧面積を大きく出来る。
マ几、クッション部の静圧は、ストリップがノズルから
離れれば圧力が低下し支持力が落ちるためストリップは
近づき、一方、ストリップがノズルに近づけば圧力が増
大し、支持力が増しストリップは離れるため、安定なば
ね効果を持っている。
〔実施例J 本発明の一実施例全第1図に示す。
本発明の矯正ヘッド2ば、走行ス) IJツブ1の巾方
向にスリット状に開口する平行し九2個の流体噴射ノズ
ル3.3と、前記の2個の噴射ノズル3.3の間でスト
リップの長手方向断面に関し所定の曲率半径を有するク
ッション部とからなっている。
上記流体噴射ノズル3,3から内向きに噴出する気体に
よってこの矯正ヘッド2のクッション部4に発生する安
定した静圧によってストリップ1をクッション部4の曲
率半径に沿わせることにより、ストリップ1に曲げ変形
を与えることが出来る。
これによって回転小径ロールを使わずに極薄高張力のス
トリップの矯正が可能となる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、2つの流体噴射ノズル3から出る流体
によって囲まれた部分に形成されるクッション部4の静
圧5によってストリップ1t″支持するため、ストリッ
プ支持面積が大きく流量が小さくて済む。またクッショ
ン部の静圧のばね効果により安定な圧力を維持できるの
で矯正効果も安定している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例として矯正ヘッドの断面図を
示す。 第2図は従来のローラ矯正法によるテンションレベラ全
示し、第3図は従来の静圧型矯正ヘッドを示す。 1・・・ストリップ    2・・・矯正ヘット93・
・・流体噴射ノズル  4・・・クッション部5・・・
流体膜 復代理人  弁理士  岡 本 重 文外2名 第1図 2−一 矢喬正ヘッド 3−一流体噴射ノズル 4−一りヅショシ部 5− 流体膜 第2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ストリップに圧力流体を噴射することにより、ストリッ
    プに繰り返し曲げを与えてストリップ形状を矯正する装
    置において、走行ストリップの幅方向にスリット状の流
    体噴射ノズルを2つ平行に、かつその噴射方向が交又す
    るように開口せしめると共に、更に該ノズル間に所定の
    曲率半径を有するクッション部を設けたことを特徴とす
    る静圧型レベラ用矯正ヘッド。
JP18587085A 1985-08-26 1985-08-26 静圧型レベラ用矯正ヘツド Pending JPS6245423A (ja)

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JP18587085A JPS6245423A (ja) 1985-08-26 1985-08-26 静圧型レベラ用矯正ヘツド

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JPS6245423A true JPS6245423A (ja) 1987-02-27

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ID=16178317

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JP (1) JPS6245423A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6487017A (en) * 1987-09-30 1989-03-31 Nippon Mining Co Manufacture of copper or copper alloy foil for circuit board

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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