JPS5811490B2 - ストリップの非接触支持方法 - Google Patents

ストリップの非接触支持方法

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JPS5811490B2
JPS5811490B2 JP13159078A JP13159078A JPS5811490B2 JP S5811490 B2 JPS5811490 B2 JP S5811490B2 JP 13159078 A JP13159078 A JP 13159078A JP 13159078 A JP13159078 A JP 13159078A JP S5811490 B2 JPS5811490 B2 JP S5811490B2
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JP
Japan
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strip
fixed support
contact
distance
plating
Prior art date
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Expired
Application number
JP13159078A
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English (en)
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JPS5558336A (en
Inventor
下川靖夫
石川英毅
白土昌治
野中高四郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Publication of JPS5558336A publication Critical patent/JPS5558336A/ja
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  • Coating With Molten Metal (AREA)
  • Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はストリップの非接触支持方法、特に移送中のス
トリップの振動及び巾方向のそりを効果的に防止するこ
とができるストリップの支持方法に関するものである。
例えば、鋼ストリップを垂直又は水平方向に移送する場
合、ストリップを定間隔に配置したガイドローラ等によ
って安定して搬送することは容易である。
しかし、ストリップの連続溶融めっき工程又は熱処理工
程等の如く、かなり長い距離に亘って何等のガイドなス
トリップに接触させることなく搬送させることが要求さ
れることがある。
すなわち、ストリップの連続溶融亜鉛めっきを例にした
場合、第1図に示すようにめっき槽1内のめつき浴2内
に導入浸漬されたストリップ3はジンクロール4によっ
てその方向を変えて垂直上方へ引き出され、めっき浴2
を出た直後の位置で相対向するガスワイピングノズル5
かも噴出する高圧ガスによって余剰のめつき金属な払拭
しめつき厚みな所望量に制御される。
そしてめっき厚を制御されたストリップ3は上方に設け
たトップロール6によって水平方向へ移行され、次工程
へ送られるが、このトップロール6はストリップ面のめ
つき層が完全に凝固するまではめつき而を損なうため設
けることができず、このためジンクロール4とトップロ
ール6との距離はかなり長い距離(20m以上)にせざ
るを得ない。
しかも最近の如(ストリップの移送速度が早くなる傾向
のもとでは、この距離は増々犬となる。
したがって、上記の如くストリップ支持ロール(これら
は固定支持点と考えられる)間の距離が大きいこととス
トリップの移送速度の迅速化によって、ストリップは横
方向の振動及び巾方向のそりを発生する。
このストリップの振動とそりはストリップをはさむ如く
設けたワイピングノズルの噴出口とストリップ間距離を
変動させ、めっき厚みのむらな生せしめると共に、ノズ
ル設置位置におけるストリップの最大振動中を越えてノ
ズルをストリップに近接配置させることな不可能とし、
その結果めっき厚制御に限界をもたらしていた。
従来でもこのように二つの固定支持点間を垂直又は水平
方向に移行するストリップの振動を防止するため、移行
するストリップ面に流体圧力又は磁力を作用せしめて該
ストリップを非接触状態で保持ガイドする手段が種々提
案されている。
この従来の非接触保持手段を用いてストリップな支持す
る方式としては、一対の非接触保持手段をストリップの
移行ラインの適宜位置に配置する場合、あるいはストリ
ップの移行ラインに沿って複数個の非接触保持手段を設
置する場合とがある。
しかしながら、−個所に設けた非接触保持手段でストリ
ップを支持する方法では、ストリップの振動中、そりの
巾が過大なときにはストリップと保持手段との接触の危
険がさけられず、必然的に両者の間隔を犬としなげれば
ならない。
そのため保持力が低下して有効なストリップの支持が行
なわれないか、又は保持力を増加させるために過大な液
体圧力あるいは磁力が要求される。
次に、複数個の保持手段を設ける方法では、各保持手段
とストリップとの間隔は等間隔で配置されているため、
ストリップに接触しないようにするには広い間隔ですべ
ての保持手段を設置しなげればならない。
このためストリップとの近接が困難で全体の保持力が弱
くなり、複数個設置したわりには効果が小さい。
本発明はこれら従来の非接触保持手段によるストリップ
の支持方式な改良し、最も効果的に保持力をストリップ
に作用せしめることができるストリップの支持方法を提
供することな目的とする。
すなわち、本発明は二つの固定支持点間で移送されるス
トリップ面に、いずれか一方の固定支持点間りにて流体
圧力又は磁力を作用せしめて該ストリップを非接触状態
で保持するに際し、ストリップの振動中が固定支持点間
の中間位置で最大となり固定支持点側に向って減少する
ことに着目し、ストリップの移行ラインに沿って設置し
た複数の非接触保持手段のストリップに対する間隔を、
前記振動中に応じて固定支持点から離れるにしたがい順
次太き(したことを特徴とする。
以下本発明の内容な図面に基いて説明する。
第2図は本発明を連続溶融めっき設備に適用した例を示
すもので、2はめつき浴、3はストリップ、5はガスワ
イピングノズルである。
ストリップ3は図示していないがジンクロール及びトッ
プロールの二つの固定支持点間で一定の速度及び張力に
よって矢印方向に引き上げられている。
7は一方の固定支持点、即ちジンクロール寄りのガスワ
イピングノズル5の上方位置に、ストリップ3の移行ラ
インをはさむ如く相対向して配置した流体圧パッドであ
る。
図示の例では該流体圧パッド7は、ストリップの移行方
向に沿って間隔をおいて配置した三組のパッド7a、7
b、7cから構成されている。
各三組の流体圧パッド7ay7b。7cとストリップ3
との間隔11,1□、13は、13>12>11 の関
係にあり、ジンクロールを配置した側の固定支持点側を
最小としこの固定支持点を離れるにしたがって順次太と
している。
第2図に示す流体圧パッド7は各段共ストリップ3を中
心にしてそれぞれ対称位置に配置されており、例えば図
示しないが各段すべてを1個の流体供給源に連接して同
一圧力にて液体を噴出させるか、あるいは各段毎に独立
した流体供給源に接続して異なった圧力でも保持できる
ようにしてもよい。
又流体流量についても同様である。更に流体圧パッド7
のそれぞれは図示の如くボックス状に形成し、ストリッ
プ面に対向する面にスリット孔を形成し、該孔から流体
をストリップ面に噴出せしめて静圧力を作用させる構造
とするのが好ましい。
しかし本発明における非接触保持手段は静圧方式に限ら
ず、ノズルを利用した勤王保持方式あるいはこれら流体
保持に代えて磁力による保持方式をも採用することがで
きる。
しかも静圧保持、動圧保持及び磁力保持のいずれか単独
でも又は2種以上を相互に組合せて使用してもよい。
第2図に示す如く分割した各流体圧パッドを一方の固定
支持点から離れるにしたがってストリップとの間隔を順
次大とする配置をとれば、第三段の流体圧パッド7cは
間隔13が大きいがこれによってストリップの振動及び
そりがかなり軽減されるので、第二段パッド7bの間隔
12はより小さくすることができ、同様に第三段パッド
7aの間隔11はより一層小とすることができ、最終的
な保持力は大幅に向上しストリップの振動及びそりは極
めて小さい値に矯正される。
換言すれば本発明の支持方法によれば、各段の非接触保
持手段はストリップの移送及びストリップ面の品質(め
っきの場合はめつき層の品質)に支障を与えない範囲内
で最も効果的に保持力をストリップに作用せしめること
ができる位置にそれぞれ配置されていることになる。
したがって、第2図の溶融めっきラインのような場合に
は、ワイピングノズル5に近接して前記の非接触保持手
段を配置すれば、ワイピング位置におけるストリップの
振動及びそりはほぼ完全に生ぜず、このためノズルをス
トリップに対して近接することができ、目付量制御範囲
を大幅に拡大しうると共に、めつきむら等の問題もな(
、最大限のワイピング効果が期待できる。
又、本発明の支持によれば間隔11j12j13及びそ
れぞれの非接触保持手段の保持力(流体流量、圧力)の
組合せを適当に調整することにより保持力(板の振動、
そりの矯正)を従来に比較して数倍、場合によっては数
十倍にすることができる。
逆に従来と同一の保持力を得ようとすれば、保持動力は
数分の1で足りることにもなる。
次に第3図及び第4図は本発明の他の実施例を示すもの
である。
第3図は一方のストリップ固定支持点寄りに、該支持点
側のス)リップとの間隔を最小としてストリップ3に沿
って角度を付して一体的な長尺の流体圧パッド8を一対
配置したものである。
この一対のパッド8はストリップ3をはさんで対称位置
にある。
又該流体圧パッド8は例えば仕切板によって複数個の単
位パッド8a。
8b、8cに区分され、各パッドの中心とストリップ3
との間隔は13〉12〉11′の関係にある。
又第4図の非接触保持手段はストリップ3をはさんで各
パッドを相対させずに千鳥状に配置したものである。
すなわち、ストリップ3の一方の固定支持点寄りから第
1段パッド9aを片側に、次の第2段パッド9bはその
上方の反応側にというように順次第3段パッド9c及び
第4段パッド9dを互い違いに配置し、各パッドとスト
リップ30間隔を14>13>1□〉11としたもので
ある。
第3図及び第4図に示す各パッドも第2図と同様に静圧
又は動圧流体方式、もしくは磁力による方式のいずれか
又はこれらの組合せである。
これらの配置においてもその作用は第2図とほぼ変るこ
とな(、ストリップ3は強い保持力を受け、振動及びそ
りを生じることなく安定して移行される。
なお、図示の例はいずれもストリップを垂直方向に移送
する場合の非接触支持方式を示しているが、本発明はこ
れに限ることなくストリップを水平方向に搬送する場合
にも非接触保持の必要があれば適用することができる。
又溶融めっき設備の他にも例えばストリップの熱処理ラ
イン等にも応用することが可能である。
以上述べた如(本発明によれば、比較的距離のある二つ
の固定支持点間でストリップを搬送する場合にストリッ
プを安定して移送させかつ移送中にストリップに振動又
はそりが生じてもこれを許容範囲内に矯正することがで
きる。
このため従来ストリップの振動又はそりによって起る種
々のトラブルを本発明の採用によって解消することがで
きる。
又本発明によるストリップ保持力は非常に太き(するこ
とができるので、比較的板厚の厚い鋼板、金属板の如く
剛性の大きなストリップを支持するのに特に有効である
更にストリップの搬送スピードが大幅に高くなっても本
発明によれば十分な非接触保持力が確保できる。
実施例 鋼薄板の連続溶融亜鉛めっきラインにおいて、めっき浴
の直上部位置でガスワイピングを行なう装置に、本発明
の非接触保持手段(本実施例では静圧流体パッド)をト
ップロールとジンクロールを固定点とするジンクロール
側寄りで、且つガスワイピングノズルの上方に二段にわ
たって相対して配置した。
この非接触保持を行なう目的はガスワイピング部でのス
トリップの振動を防止して、目付量の低減及び均一化を
図ることである。
表に従来法と比較した各種条件とその結果を示すが、表
かられかるように本発明の有効性が確認された。
【図面の簡単な説明】
第1図はストリップの溶融めっき設備を示す概略図、第
2図は本発明を溶融めっきラインに適用した態様を示す
要部説明図、第3図及び第4図は本発明の他の実施例を
示す説明図である。 1……めっき槽、2……めっき浴、3……ストリツフ、
4……ジンクロール、5田…ワイピングノズル、6……
トツプロール、γ、8,9……流体圧パッド。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 二つの固定支持点間を移送されるストリップ面に、
    いずれか一方の固定支持点間りにて流体圧力又は磁力を
    作用せしめて該ストリップな非接触状態で保持するスト
    リップの支持方法において、保持力を作用せしめる位置
    をストリップの移行方向に沿って複数に分けるとともに
    、複数の非接触保持手段とストリップとの間隔を前記非
    接触状態、で保持する側の固定支持点側を最小とし該固
    定支持点を離れるにしたがい順次大としたことな特徴と
    するストリップの非接触支持方法。
JP13159078A 1978-10-27 1978-10-27 ストリップの非接触支持方法 Expired JPS5811490B2 (ja)

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JP4867453B2 (ja) * 2006-04-20 2012-02-01 Jfeスチール株式会社 連続溶融金属めっきの付着量制御装置

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