JPS6245303A - 限外口過膜の製造方法 - Google Patents
限外口過膜の製造方法Info
- Publication number
- JPS6245303A JPS6245303A JP18400885A JP18400885A JPS6245303A JP S6245303 A JPS6245303 A JP S6245303A JP 18400885 A JP18400885 A JP 18400885A JP 18400885 A JP18400885 A JP 18400885A JP S6245303 A JPS6245303 A JP S6245303A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- membrane
- polysulfone
- sulfonated
- sulfonating agent
- sulfonation degree
- Prior art date
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- Granted
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、限外口過膜の製造方法に関する。更に詳しく
は、膜表面部分をスルホン化ポリサルホンで形成せしめ
る限外口過膜の製造方法に関する。
は、膜表面部分をスルホン化ポリサルホンで形成せしめ
る限外口過膜の製造方法に関する。
限外口過は、液中に分散した微量油分、細菌、その他の
微粒子をとり除くための１イＦ−の省エネルギー分離プ
ロセスであり、その使用分野は様々である。
微粒子をとり除くための１イＦ−の省エネルギー分離プ
ロセスであり、その使用分野は様々である。
ところで、限外口過においては、限外口過膜の膜面に矧
積あるいは吸着される物質は、しばしば膜の１１詰りを
ひき起して１漠の抵抗を高め、口過効率を低下させる。
積あるいは吸着される物質は、しばしば膜の１１詰りを
ひき起して１漠の抵抗を高め、口過効率を低下させる。
そのため、限外口過１漠の運転に際してはタロスフロ一
方式をとり、なるへく膜面への堆積を抑えるようにして
いる。
方式をとり、なるへく膜面への堆積を抑えるようにして
いる。
しかしながら、このような方式を採用しても、１１・７
表面はやはり汚染を受け、透過抵抗が徐々に１−昇して
くる現象がみられる。これは、口過対ご（液中の分散物
質が膜表面に吸着され、膜の孔を塞ぐために起るものと
考えられる。そして、このような物質が一旦膜表面に吸
着されると、逆洗、洗浄などをくり返しても膜から離わ
ず、いわゆるプラギング現象を起して、最後には限外口
過膜の透過率を殆んどセロにしてしまうようになる。
表面はやはり汚染を受け、透過抵抗が徐々に１−昇して
くる現象がみられる。これは、口過対ご（液中の分散物
質が膜表面に吸着され、膜の孔を塞ぐために起るものと
考えられる。そして、このような物質が一旦膜表面に吸
着されると、逆洗、洗浄などをくり返しても膜から離わ
ず、いわゆるプラギング現象を起して、最後には限外口
過膜の透過率を殆んどセロにしてしまうようになる。
ここで、このような物質について考えてみるに、水中に
安定分散し、膜だけでしか除去できない物質は、１′ｌ
γ子相互のもつ電気的反発作用で安定化しているものと
考えられ、自然界ではそれぞれの粒−４が負電荷をもっ
ているものが多い。そこで、膜表面にこのような粒子が
吸着され難し）よう番こするためには、膜表面の負電荷
を貝富しこしたり、膜表面の水和層の厚さを増やして親
水性にするなどの方法が考えられている。
安定分散し、膜だけでしか除去できない物質は、１′ｌ
γ子相互のもつ電気的反発作用で安定化しているものと
考えられ、自然界ではそれぞれの粒−４が負電荷をもっ
ているものが多い。そこで、膜表面にこのような粒子が
吸着され難し）よう番こするためには、膜表面の負電荷
を貝富しこしたり、膜表面の水和層の厚さを増やして親
水性にするなどの方法が考えられている。
このような観点から、限外口過膜材料として有望なポリ
サルホンに、極性基であるスルホン基を導入することが
試みられている。しかしなから、膜材料に直接極性基を
導入することには、次のような欠点かみられる。
サルホンに、極性基であるスルホン基を導入することが
試みられている。しかしなから、膜材料に直接極性基を
導入することには、次のような欠点かみられる。
（１）躾の親水性が高まるにつれ、水中での膜強度が低
下するようになる。
下するようになる。
（２）製膜時に水をゲル化浴として用いることが多いた
め、ゲル化の除水を抱き込んで重合体が凝集してしまい
、極性基の導入率を高くするとＩＩ桑を形成せず、製膜
か不可能となる。
め、ゲル化の除水を抱き込んで重合体が凝集してしまい
、極性基の導入率を高くするとＩＩ桑を形成せず、製膜
か不可能となる。
このような欠点を解消するために、ポリサルホンおよび
スルホン化ポリサルホンの混合物膜状体よりなる限外口
過ＩＩ侍が先に本ｔ１臀ｈ１人によって提案されており
（！ｌ’、’ｊ願昭６０−９３３１８号）、一応所期の
［」的は達成さ才したものの、膜状体が均一な混合物か
ら形成されているという構逍十、、スルホン化ポリサル
ポンによろスルホン基の導入が膜ｌθ染に関与する表面
において不十分とならさるを得ない。また、スルホン化
ポリサルホンを限外口過膜材料にコーティングする方法
なども考えられるが、この場合には塗布膜の耐剥離性に
問題がみられる。
スルホン化ポリサルホンの混合物膜状体よりなる限外口
過ＩＩ侍が先に本ｔ１臀ｈ１人によって提案されており
（！ｌ’、’ｊ願昭６０−９３３１８号）、一応所期の
［」的は達成さ才したものの、膜状体が均一な混合物か
ら形成されているという構逍十、、スルホン化ポリサル
ポンによろスルホン基の導入が膜ｌθ染に関与する表面
において不十分とならさるを得ない。また、スルホン化
ポリサルホンを限外口過膜材料にコーティングする方法
なども考えられるが、この場合には塗布膜の耐剥離性に
問題がみられる。
そこで、かかる課題の根本的な解決方法を求めて更に検
討を・Ｒねた結果、本発明者は直接ポリサルホンの膜状
体をスルホン化することにより、膜表面にスルホン基な
どを集中的に導入しかつ剥離性の点でも問題のない限外
口過膜が得られることを見出した。
討を・Ｒねた結果、本発明者は直接ポリサルホンの膜状
体をスルホン化することにより、膜表面にスルホン基な
どを集中的に導入しかつ剥離性の点でも問題のない限外
口過膜が得られることを見出した。
〔問題点を解決するための手段〕および〔作用〕従って
１本発明は限外口過膜の製造方法に係り、限外口過膜の
製造は、ポリサルホンの膜状体をスルホン化剤中に浸漬
し、膜表面部分をスルホン化することにより行われる。
１本発明は限外口過膜の製造方法に係り、限外口過膜の
製造は、ポリサルホンの膜状体をスルホン化剤中に浸漬
し、膜表面部分をスルホン化することにより行われる。
スルホン化されるポリサルホンの膜状体としては、一般
に乾湿式法で製造された］ｌ膜状、中空糸状のものなど
が用いられる。これらの膜状体１よ、例えば２〜１８Ｎ
の硫酸をスルホン化剤に用い、約８０〜ＯＯ”Ｃの液中
に約Ｘ３〜１５日間程度浸漬することに上り、スルホン
化される。浸ひ腎２日目位から１１簗状体は赤味をおび
るようになり、所望されるスルホン化度に応して所定［
−１数浸漬する。その後、純水でよく洗浄し、洗浄水が
中性になる迄水洗を続け、硫Ｖを除去する。
に乾湿式法で製造された］ｌ膜状、中空糸状のものなど
が用いられる。これらの膜状体１よ、例えば２〜１８Ｎ
の硫酸をスルホン化剤に用い、約８０〜ＯＯ”Ｃの液中
に約Ｘ３〜１５日間程度浸漬することに上り、スルホン
化される。浸ひ腎２日目位から１１簗状体は赤味をおび
るようになり、所望されるスルホン化度に応して所定［
−１数浸漬する。その後、純水でよく洗浄し、洗浄水が
中性になる迄水洗を続け、硫Ｖを除去する。
＋’＋ｉｒ述の如く、ポリサルホン樹脂自体をスルホン
化してから製膜すると製膜性に劣り、例えばスルホン化
度（重合体のくり返し単位当りのスルホン基の敬）がＱ
、７を越えるともはや乾湿式法では平膜状あるいは中空
糸状に製膜できなくなり、製膜し１１）ろスルホン化度
にすると、膜表面部分のスルホン」ルの数が少なくなっ
て所期の目的を達成し得ないが、本発明方法にあっては
、膜状体の形状が保持されたまま、その表面部分のみが
スルホン化されるため、スルホン化度０．１−０．７の
スルホン化ポリサルホンを形成させても、そこに十分な
耐汚染性の性質を付！４−することかできる。
化してから製膜すると製膜性に劣り、例えばスルホン化
度（重合体のくり返し単位当りのスルホン基の敬）がＱ
、７を越えるともはや乾湿式法では平膜状あるいは中空
糸状に製膜できなくなり、製膜し１１）ろスルホン化度
にすると、膜表面部分のスルホン」ルの数が少なくなっ
て所期の目的を達成し得ないが、本発明方法にあっては
、膜状体の形状が保持されたまま、その表面部分のみが
スルホン化されるため、スルホン化度０．１−０．７の
スルホン化ポリサルホンを形成させても、そこに十分な
耐汚染性の性質を付！４−することかできる。
次に、実１ｊ’ｆｆ１例について本発明を説明する。
実施例
・：吃６？、弐法で！Ｉｌｕされたポリサルホン平膜（
厚さ０．１−０．３ｍｍ）を、８０−９０°Ｃの１．８
Ｎ硫酸中に１０日間浸漬させた後、水洗、乾燥させた。
厚さ０．１−０．３ｍｍ）を、８０−９０°Ｃの１．８
Ｎ硫酸中に１０日間浸漬させた後、水洗、乾燥させた。
このスルホン化処理膜について、ＥＳＣＡによる表面分
析からスルホン化度０．４の値が、またＳの元素分析か
らそれの増加；４（２５％の値がそれぞれ得られたこと
から、表面部分がスルホン化度０．４のスルホン化ポリ
サルホンが得られたことが分る。
析からスルホン化度０．４の値が、またＳの元素分析か
らそれの増加；４（２５％の値がそれぞれ得られたこと
から、表面部分がスルホン化度０．４のスルホン化ポリ
サルホンが得られたことが分る。
また、このような膜表面のスルホン化処理により、限外
口過膜としての性能が変化したかどうかを調べたが、硫
酸浸漬の重役で、いずれも透過係数は１０〜２０＝ｍ／
ａ＋ｆ・ｈｒ・眩／ｄで、また分画分子量は２００００
で、膜性能に変化はみられなかった。
口過膜としての性能が変化したかどうかを調べたが、硫
酸浸漬の重役で、いずれも透過係数は１０〜２０＝ｍ／
ａ＋ｆ・ｈｒ・眩／ｄで、また分画分子量は２００００
で、膜性能に変化はみられなかった。
更に、切削油（ユシロ化学製品ニジローケンＥＣ＝５）
の１５０倍液の透過試験を、液温２５℃、流量３Ｑ／分
、操作圧］気圧、中空糸有効膜面積０．２ｍの条＋Ｌ下
で、３０分間毎に逆洗をくり返しながら行なうと、１５
０時間後には、スルホン化していない中空糸の透水量は
５０％迄低ドしたが、同し中空糸をスルホン化したもの
の透水量は８０％以上の値を推持していた。なお、切削
曲のぢ１除率は、いずれも９８％以上である。
の１５０倍液の透過試験を、液温２５℃、流量３Ｑ／分
、操作圧］気圧、中空糸有効膜面積０．２ｍの条＋Ｌ下
で、３０分間毎に逆洗をくり返しながら行なうと、１５
０時間後には、スルホン化していない中空糸の透水量は
５０％迄低ドしたが、同し中空糸をスルホン化したもの
の透水量は８０％以上の値を推持していた。なお、切削
曲のぢ１除率は、いずれも９８％以上である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ポリサルホンの膜状体をスルホン化剤中に浸漬し、
膜表面部分をスルホン化することを特徴とする限外口過
膜の製造方法。 ２、ポリサルホンの膜状体が平膜状である特許請求の範
囲第１項記載の限外口過膜の製造方法。 ３、ポリサルホンの膜状体が中空糸状である特許請求の
範囲第１項記載の限外口過膜の製造方法。 ４、スルホン化剤が硫酸である特許請求の範囲第１項記
載の限外口過膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18400885A JPS6245303A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 限外口過膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18400885A JPS6245303A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 限外口過膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6245303A true JPS6245303A (ja) | 1987-02-27 |
| JPH057053B2 JPH057053B2 (ja) | 1993-01-28 |
Family
ID=16145710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18400885A Granted JPS6245303A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 限外口過膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6245303A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02157026A (ja) * | 1988-12-08 | 1990-06-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 荷電型限外濾過膜及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-08-23 JP JP18400885A patent/JPS6245303A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02157026A (ja) * | 1988-12-08 | 1990-06-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 荷電型限外濾過膜及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH057053B2 (ja) | 1993-01-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |