JPS6239811B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6239811B2 JPS6239811B2 JP8160481A JP8160481A JPS6239811B2 JP S6239811 B2 JPS6239811 B2 JP S6239811B2 JP 8160481 A JP8160481 A JP 8160481A JP 8160481 A JP8160481 A JP 8160481A JP S6239811 B2 JPS6239811 B2 JP S6239811B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- scanning
- repeating
- memory
- unit
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 16
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は集積回路等の製造に用いられるレチク
ル等のパターン検査方法に係り、特に同一パター
ンの繰り返し部分において、被検査パターンの繰
り返し部分の１単位を走査してこれを基準パター
ンとして用いる検査方法に関する。
ル等のパターン検査方法に係り、特に同一パター
ンの繰り返し部分において、被検査パターンの繰
り返し部分の１単位を走査してこれを基準パター
ンとして用いる検査方法に関する。
以下に図を用いて従来のパターン検査方法を説
明する。第１図Ａ，Ｂは繰り返しパターンの一
例、第２図は従来のパターン検査方法の説明図で
ある。なお第２図において１はレチクル、２はイ
メージセンサ、３は比較部、４はパターン発生
部、５は磁気テープ装置、６は表示部である。
明する。第１図Ａ，Ｂは繰り返しパターンの一
例、第２図は従来のパターン検査方法の説明図で
ある。なお第２図において１はレチクル、２はイ
メージセンサ、３は比較部、４はパターン発生
部、５は磁気テープ装置、６は表示部である。
上述の繰り返しパターンは第１図の如きもの
で、ICメモリ等に多く見られる。従来のパター
ン検査方法では、あらかじめ磁気テープ等の記憶
装置にレチクル全体のパターンと１：１に対応す
る基準パターンを用意し、第２図の如き構成で、
イメージセン２でレチクル１を走査した信号と磁
気テープ装置５から読み出された基準信号とを比
較部３で比較照合し、パターン異常を表示部６に
表示するようにしている。
で、ICメモリ等に多く見られる。従来のパター
ン検査方法では、あらかじめ磁気テープ等の記憶
装置にレチクル全体のパターンと１：１に対応す
る基準パターンを用意し、第２図の如き構成で、
イメージセン２でレチクル１を走査した信号と磁
気テープ装置５から読み出された基準信号とを比
較部３で比較照合し、パターン異常を表示部６に
表示するようにしている。
しかしながら従来の検査方法では、第１図の如
き繰り返しパターンの部分においても繰り返し部
分全体のパターンに対応する基準パターンデータ
を用意しているため記憶装置の容量を大きくしな
ければならず、また基準となるパターンデータを
作成すること自体非常に手間がかかり多種のレチ
クルを検査する場合には検査能率が低下するとい
う欠点がある。
き繰り返しパターンの部分においても繰り返し部
分全体のパターンに対応する基準パターンデータ
を用意しているため記憶装置の容量を大きくしな
ければならず、また基準となるパターンデータを
作成すること自体非常に手間がかかり多種のレチ
クルを検査する場合には検査能率が低下するとい
う欠点がある。
本願発明は上記の欠点を解消し、検査能率の高
いパターン検査方法を提供することを目的とし、
被検査パターンを光学的に走査する走査手段と、
該走査によつて得られたパターンデータを記憶す
るメモリ手段と、該メモリ手段から読み出された
信号と前記走査手段からの信号とを比較する比較
手段とを設け、基板上に形成された繰り返しパタ
ーンのうちの正常な１単位を前記走査手段によつ
て走査し、そのパターンデータを基準パターンと
して前記メモリ手段に記憶し、しかる後、同一基
板上の繰り返しパターンのうちの他の１単位を前
記走査手段によつて走査し、その走査によつて得
られる信号と前記メモリ手段から読み出される信
号とを前記比較手段によつて比較してパターンの
異常を検出することを特徴とするパターン検査方
法によつて達成される。
いパターン検査方法を提供することを目的とし、
被検査パターンを光学的に走査する走査手段と、
該走査によつて得られたパターンデータを記憶す
るメモリ手段と、該メモリ手段から読み出された
信号と前記走査手段からの信号とを比較する比較
手段とを設け、基板上に形成された繰り返しパタ
ーンのうちの正常な１単位を前記走査手段によつ
て走査し、そのパターンデータを基準パターンと
して前記メモリ手段に記憶し、しかる後、同一基
板上の繰り返しパターンのうちの他の１単位を前
記走査手段によつて走査し、その走査によつて得
られる信号と前記メモリ手段から読み出される信
号とを前記比較手段によつて比較してパターンの
異常を検出することを特徴とするパターン検査方
法によつて達成される。
以下、図面を用いて本発明を詳細に説明する。
第３図は本発明の一実施例、第４図ａ，ｂは繰
り返しパターンの１単位である。なお第３図にお
いて７はレチクル、８は光学的、９はイメージセ
ンサ、１０はＡ／Ｄ変換部１１はメモリ、１２は
モニタ、１３はＡ／Ｄ変換部、１４は比較部、１
５は表示部である。
り返しパターンの１単位である。なお第３図にお
いて７はレチクル、８は光学的、９はイメージセ
ンサ、１０はＡ／Ｄ変換部１１はメモリ、１２は
モニタ、１３はＡ／Ｄ変換部、１４は比較部、１
５は表示部である。
本発明は、従来のようにあらかじめ磁気テープ
等に基準パターンデータを用意することは行なわ
ず、繰り返しパターンを検査する場合には被検査
パターン内の１単位を直接走査して基準のパター
ンデータとするものである。たとえば第１図Ａ，
Ｂのような繰り返しパターンを検査する場合に
は、検査開始時に第４図ａ，ｂに示すような繰り
返しパターン内の１単位をイメージセンサ９によ
り走査して、走査信号をＡ／Ｄ変換部１０でデイ
ジタル信号に変換しメモリ１１に記憶した後、被
検査パターンの繰り返しパターンを順次走査し、
比較部１４でメモリ１１に記憶された基準パター
ンと比較照合してパターンの異常を検査する。
等に基準パターンデータを用意することは行なわ
ず、繰り返しパターンを検査する場合には被検査
パターン内の１単位を直接走査して基準のパター
ンデータとするものである。たとえば第１図Ａ，
Ｂのような繰り返しパターンを検査する場合に
は、検査開始時に第４図ａ，ｂに示すような繰り
返しパターン内の１単位をイメージセンサ９によ
り走査して、走査信号をＡ／Ｄ変換部１０でデイ
ジタル信号に変換しメモリ１１に記憶した後、被
検査パターンの繰り返しパターンを順次走査し、
比較部１４でメモリ１１に記憶された基準パター
ンと比較照合してパターンの異常を検査する。
このようにすることにより検査前に磁気テープ
等に基準パターンデータを作成しておく必要がな
いため検査能率が向上し、またメモリ１１も繰り
返しパターン内の１単位を記憶するだけなので小
容量のものでよい。
等に基準パターンデータを作成しておく必要がな
いため検査能率が向上し、またメモリ１１も繰り
返しパターン内の１単位を記憶するだけなので小
容量のものでよい。
なお上記説明ではレチクルの検査を例にとつた
が、本発明の用途はこれに限るものではなく、フ
オトマスク、ウエハー等検査にも応用可能であ
る。
が、本発明の用途はこれに限るものではなく、フ
オトマスク、ウエハー等検査にも応用可能であ
る。
以上説明したように、本発明によればパターン
検査能率が向上し、特に多種のレチクルを検査す
る場合にその効果は大である。
検査能率が向上し、特に多種のレチクルを検査す
る場合にその効果は大である。
第１図は繰り返しパターンの一例、第２図は従
来のパターン検査方法の説明図、第３図は本発明
の一実施例、第４図は繰り返しパターンの１単位
である。 ７…レチクル、８…光学系、９…イメージセン
サ、１０…Ａ／Ｄ変換部、１１…メモリ、１２…
モニタ、１３…Ｄ／Ａ変換部、１４…比較部、１
５…表示部。
来のパターン検査方法の説明図、第３図は本発明
の一実施例、第４図は繰り返しパターンの１単位
である。 ７…レチクル、８…光学系、９…イメージセン
サ、１０…Ａ／Ｄ変換部、１１…メモリ、１２…
モニタ、１３…Ｄ／Ａ変換部、１４…比較部、１
５…表示部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被検査パターンを光学的に走査する走査手段
と、 該走査によつて得られたパターンデータを記憶
するメモリ手段と、 該メモリ手段から読み出された信号と前記走査
手段からの信号とを比較する比較手段とを設け、 基板上に形成された繰り返しパターンのうちの
正常な１単位を前記走査手段によつて走査し、そ
のパターンデータを基準パターンとして前記メモ
リ手段に記憶し、 しかる後、同一基板上の繰り返しパターンのう
ちの他の１単位を前記走査手段によつて走査し、
その走査によつて得られる信号と前記メモリ手段
から読み出される信号とを前記比較手段によつて
比較してパターンの異常を検出することを特徴と
するパターン検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8160481A JPS57196530A (en) | 1981-05-28 | 1981-05-28 | Inspection of pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8160481A JPS57196530A (en) | 1981-05-28 | 1981-05-28 | Inspection of pattern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57196530A JPS57196530A (en) | 1982-12-02 |
| JPS6239811B2 true JPS6239811B2 (ja) | 1987-08-25 |
Family
ID=13750917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8160481A Granted JPS57196530A (en) | 1981-05-28 | 1981-05-28 | Inspection of pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57196530A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10422985B2 (en) | 2013-11-06 | 2019-09-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical imaging device and imaging method for microscopy |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60138924A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-23 | Fujitsu Ltd | パタ−ン検査方法及びその装置 |
| JPH0754687B2 (ja) * | 1987-04-24 | 1995-06-07 | 株式会社日立製作所 | パターン検査方法およびその装置 |
| JPS6425430A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-27 | Tokyo Electron Ltd | Probe device |
| JPH09304040A (ja) * | 1996-05-13 | 1997-11-28 | Hitachi Ltd | 電子ビームによるパターン検査方法とその装置 |
| JP3566470B2 (ja) | 1996-09-17 | 2004-09-15 | 株式会社日立製作所 | パターン検査方法及びその装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50131469A (ja) * | 1974-04-03 | 1975-10-17 | ||
| JPS53117978A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-14 | Hitachi Ltd | Automatic mask appearance inspection apparatus |
| JPS5472975A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-11 | Hitachi Ltd | Mask inspecting method |
| JPS5654038A (en) * | 1979-10-08 | 1981-05-13 | Toshiba Corp | Checking device for shape of photomask |
-
1981
- 1981-05-28 JP JP8160481A patent/JPS57196530A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50131469A (ja) * | 1974-04-03 | 1975-10-17 | ||
| JPS53117978A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-14 | Hitachi Ltd | Automatic mask appearance inspection apparatus |
| JPS5472975A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-11 | Hitachi Ltd | Mask inspecting method |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10422985B2 (en) | 2013-11-06 | 2019-09-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical imaging device and imaging method for microscopy |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57196530A (en) | 1982-12-02 |
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