JPS62292734A

JPS62292734A - シクロヘキセン、シクロヘキサン及びベンゼンを含有する混合物を蒸留後処理する方法

Info

Publication number: JPS62292734A
Application number: JP62124115A
Authority: JP
Inventors: ノルベルト、リーバー; ロルフ、フィシャー; エルヴィン、ブルナー; ヘルマン、ルイケン; ウヴェ、ファグト
Original assignee: BASF SE
Current assignee: BASF SE
Priority date: 1986-06-06
Filing date: 1987-05-22
Publication date: 1987-12-19
Also published as: EP0248422B1; EP0248422A1; DE3760108D1; DE3619173A1; ES2007566B3

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】３、発明の詳細な説明産業上の利用分野本発明は、シクロヘキセン、シクロヘキサン及びベンゼ
ンを含有する混合物を蒸留後処理する新規方法に関する
。

従来の技術この種の混合物は、例えばベンゼンの部分的水素添加及
びシクロヘキサンのシクロヘキセンへの部分的脱水素の
際に生成し、この際所望の目的生成物のシクロヘキセン
の他に常にまたシクロヘキサンもしくはベンゼンが得ら
れる。

シクロヘキサンは重要な中間生成物でありかつ工業的に
シクロヘキサノールの脱水又はクロルシクロヘキサンの
脱ハロゲン化水素により製造される、コスト的には水素
添加法及び脱水法が有利であるが、しかしそのベンゼン
及びシクロヘキサンとの混合物からシクロヘキセンを単
離することはごれらの３つの主成分の沸点が接近してい
ることにより極めて困頒である。

シクロヘキセン、シクロヘキサン及びベンゼンのけ準沸
点は８２．Ｉ、８０．７及び８０゜１℃である。シクロ
ヘキサンとベンゼンは７８．９℃でかつシクロヘキサン
とベンゼンは７７．６℃で共沸混合物を形成する（　Ａ
ｄｖａｎｃｅｓ　ｉ　ｎＣｈｅｗ、　Ｓｅｒ、１１６．
　ｐ３１６）　、シクロヘキセン／シクロヘキサンの系
の簡単な蒸留分離は極めて高いかつ不経済な分離費用を
必要とする（Ｊ、Ｇｍｅｈ−１ｉｎｇ、　Ｕ、０ｎｋｅ
ｎ、　Ｙ、Ａｒ１ｔ及びＢ、Ｋｏｌｂｅ、Ｖａｐｏｒ−
１，１−ｑｕｉｄ　Ｅｑｕｉｌｉｂｒｉｕｍ　Ｄａｔａ
　５ｅｒｉｅｓ、Ｙｏｌ、ｉ、　Ｐａｒｔ６ａ、Ｐ１３
８及び６ｃ、　ｐ１６６−１７０）。

三元系のシクロヘキセン／シクロヘキサン及びベンゼン
の沸騰挙動に関しは何等知られていない。

系の複雑性のために各成分の蒸留分離は費用がかかり過
ぎると見なされたために、シクロヘキサンとベンゼンと
の混合物からシクロヘキセンを単離するためには特許明
細書には抽出蒸留が提案された。例えば特公昭５０−７
１９１３５号公報にはジメチルスルホキシドが、特公昭
５（１−８１４］８号公報にはＮ−メチルピロリドンが
、特公昭５１−６０１９２号公報にはジメチルホルムア
ミドがかつ特公昭５１−６０１９３号公報にはブチロラ
クトンが抽出蒸留の際のシクロヘキセンに対する高い選
択性を有する液相として３己載された。

芳香族化合物の取得に類似して、共沸蒸留又は抽出によ
るベンゼン分離が可能である（　Ｅｉ−ｓｅｎｌｏｈｒ
、　Ｅｒｄｏｅｌ　ｕｎｄ　Ｋｏｈｌｅ、　Ｅｒｄｇａ
ｓ、Ｐｃｔｒｏ−ｃｈｍｉｃ　１９６３．５２３−５３
３；　　Ｕｌｌｍａｎｎｓ　Ｅｎｚｙｋｌ、　ｄ。

Ｌｅｃｈｎ、　ＣｈｅＩｌｌ、　１９７４．４．＾ｕｒ
１．．Ｂｄ、８．ｐ　３９２−４０２：　Ｃ１ｎｅｌｌ
ｉ　ａｔ　ａｌ、ｌ１ｙｄｒｏｃａｒｂｏｎ　ｐｒｏｃ
ｅｓｓｉｎｇ。

＋９７２．　ｐ１４１−１４４；　Ｍｕｃｌｌｅｒ、　
Ｃｈｃｍｉｋｅｒ−Ｚｃｉｔｕｎｇ９５、１９７１．　
り、９９６−１０００）。ベンゼン分離後に生成するシ
クロヘキセン／シクロヘキサン混合物は極めて高い費用
をかけて精留によるか又は抽出蒸留により分離しなけれ
ばならい。

この分離問題を解決するための総ての記載された提案は
、不経済でありかつプロセス技術的に満足されない。

発明が解決しようとする問題点従って、本発明の課題は、シクロヘキセンをそのシクロ
ヘキサン及びベンゼンとの混合物から分離又は富化する
簡単なかつ経済的方法を提供することであった。

問題点を解決するための手段＋ｉｎ記課題は、本発明によりシクロヘキサン、シクロ
ヘキサン及びベンゼンを含有する混合物を１１　’に４
後処する方法において、ベンゼン対シクロヘキサンのモ
ル比ｑがＯ，］：ｌ〜ｌＯ：１である混合物から出発す
るか、又は別のモル比ｑ゛の混合物をベンゼンもしくは
シクロヘキサンを添加することにより前記範囲の値ｑに
調整しかつベンゼンとシクロヘキサンをシクロヘキセン
を精留することにより共沸混合物として分離することに
より解決される。

発明の作用及び効果本発明による方法の特別の実施態様は、比ｑを既にベン
ゼンの水素添加条件又はシフ【１ヘキサンの脱水素条件
の適当な選択により調整することに基づく。

該混合物は、なお少ｒ１１のシクロヘキサン、及び場合
により水素添加又は脱水素の際に生成する不純物を含有
することがある、ベンゼンとシクロヘキサンの共沸混合
物を塔頂を介して蒸留する形式で精留する。塔底にはベ
ンゼン及び／又はシクロヘキサンの他に、シクロヘキセ
ンが実質的に純粋な形又は強度に富化された形で残留す
る。

蒸留のためには、任意の構造の塔、即ち例えばホウ鐘棚
段塔、多孔板棚段塔並びに特に充填塔が適当である。こ
れらは大気圧、紘圧又は過圧で運転することができる。

有利には、シクロヘキサン、シクロヘキサン及びベンゼ
ンを含（１゛する混合物を塔の途中で、２／４又は３／
４の位置、特に３／４の位置で供給する。

シクロヘキサンを純粋な形もしくは強度に富化された形
でかつ良好な収率で取得４−るためには、３０〜＋５０
、イｆ利には４０〜＋２０の理論的分離段数及び５〜４
００、イｆ利には６〜Ｉ００の還流比を適用するのが好
ましい。それよりも少ない分離段数及び還流比を使用す
ることもできる、しかしその際にはもちろんシフ［Ｊヘ
キセン収率及び塔底でのシクロヘキサン濃度も低下する
。

しかしながら、塔底内でのシフ［Ｊヘキセンの純度もし
くは濃度は主としてベンゼン／シクロヘキサン混合物の
モル比ｑに左右される。

この比ｑは０．１　・１〜ＩＯ：ＩＳ有利には０．２〜
５、特にイｆ利には０．９〜１．６である。

ｑが約１−２　：　Ｉ　（ｃ＋ａｚ）の共沸比に相当す
ると、塔底生成物としてシクロヘキサンが９９％の純度
でマーｌられる。塔底生成物は１２以−１−の値ではシ
クロヘキサン／ベンゼン混合物から成り、１．２未満の
値ではシクロヘキセン／シクロヘキサン混合物から成る
。

疋って、この混合物は重要である、それというのもシク
ロヘキセンの若干の後続反応においてベンゼンもしくは
シクロヘキサンを溶剤として利用することができるから
である。

ンクＣｌヘキセン、シクロヘキサン、ベンゼン混合物を
製造するために使用されるベンゼンの部分的水素添加は
、自体公知形式で有利には、ベンゼンを水の存在下に、
場合により１種以−ヒの遷移金属及び／又は稀土類金属
例えば鉄、コバルト、ニッケル、セリウド及び特に（ｆ
利には銅又は銀がドープされていてらよい、溶解した又
は懸濁したルテニウム触媒に接触させて水素を用いて、
温度２０〜３００°Ｃ１特に有利には５０〜２００℃及
び圧力０．１〜５００バール、特に有利にはＩＯ〜２０
０バール、滞留時間００１〜５時間、特に（ｒ−利には
０．０５〜２時間で液相又は気相中で不連続的又は連続
的に操作するようにして実施することができる。ベンゼ
ン水素添加の際の副生成物としては、脂肪族炭化水素、
例えばブタン、ペンタン、ヘキサノが生成する。

この種の方法は、例えば米国特許第３９１２７８７号明
細書、ドイツ連邦共和国特許出願公開第２２２１１３７
号及び同第２５２０／１３０号明細−１に記載されてい
る。

シクロヘキサンの部分的脱水素は、自体公知の方法で有
利には水素及び第■副属、特に白金又はパラジウムの貴
金属触媒又は第■副属の金属の酸化物、例えば酸化クロ
ム又は酸化モリブデンの存在下に温度２００〜６５０℃
、有利には３００〜６００℃、圧力０．０１〜ＩＯバー
ル、有利にはＯ，Ｉ〜５バールで液相又は気相中で不連
続的に又は連続的に実施することができる。適当な方法
は、例えばヨー〔Ｊツバ特許第２３３７９壮明細占に記
載されている。

触媒、温度、圧力及び特に滞留時間を適当に選択するこ
とにより、ベンゼン水素添加もしくはンク［１ヘキサン
脱水素は、ベンゼン／フクロヘキサンのモル比ｑ、その
うりでも特に（ｒ利なｌｔｑ、、を意図的に調整するこ
とができるように制御することができる。

本発明によるベンゼン／シクロへ算サンのモル比ｑがベ
ンゼン水素添加もしくはシフ〔ｌヘキサン脱水素に上っ
て達成されない場合には、諌止はベンゼン又はシクロヘ
キサンを添加することにより調整することができる。

シクロヘキセンは、なかんずく水添加によりシクロヘキ
サノールを製造するために利用するごとができる重要な
中間物質である。

実施例１８３の理論的分離段数（補強部分に３０及び摩耗部分に
５３）を有する充填塔で、１時間当リシクロヘキセン２
０モル％、ベンゼン４４モル％及びシクロヘキサン３６
モル％（これはベンゼン／シクロヘキサンのモル比ｑ＝
１．２２に相当する）から成る混合物８１ｇを１バール
及び還流比１４．５で連続的に蒸留した。７７℃でＧＣ
分析によればベンゼン５４．５モル％、シクロヘキサン
４５モル％及びシクロヘキセン０．５モル％から成る塔
頂生成物６５ｇ／ｈが得られた。塔底か）、１時間当り
シクロヘキセン９９．１モル％、シクロヘキサン０．７
モル％及びベンゼン０．２モル％から成る混合物１６９
が回収された。このことは、フィード中に含（ｆされた
シクロヘキセンの９７．５％が塔底生成物として単離さ
れたことを意味する。

実施例２７０の理論的分離段数（補強部分に２５及び摩耗部分に
４５）を有する充填塔で、１時間当りシクロヘキセン５
０モル％、ベンゼン３０モル％及びシクロヘキサン２０
モル％（これはベンゼン／シクロヘキサンのモル比ｑ＝
１．５に相当する）から成る混合物８１ｇを１．５ノ（
−ル及び還流３５で連続的に蒸留した。９０℃でＧＣ分
析によればベンゼン５７．５モル％、シクロヘキサン３
８モル％及びシクロヘキセン４．５モル％から成る塔頂
生成物４１．５ｙ／ｈが得られた。塔底から、１時間当
りシクロヘキセン９９．０モル％、シフ（７ヘキサン０
．８モル％及びベンゼン０，２モル％から成る混合物３
９．５９が回収された。このことは、フィード中に存在
したシクロヘキセンの９５％が塔底生成物として単離さ
れたことを彦味する。

実施例３８３の理論的分離段数（補強部分に３０及び摩耗部分に
５３）をｆｆする充填塔で、１時間当りシクロヘキセン
４モル％、ベンゼン５２モル％及びシクロヘキサン４４
モル％（これはベンゼン／シクロヘキサンのモル比ｑ＝
１．１８に相当する）から成る混合物８１ｇを０．８ノ
く−ル及び還流比１４．５で連続的に蒸留した。６９〜
７０℃でＧＣ分析によればベンゼン５４モル％、シクロ
ヘキサン４６モル％及びシクロヘキセン０．１モル％か
ら成る塔頂生成物７７゜８　ｇ／ｈが得られた。塔底か
ら、１時間当りシクロヘキセン９９．５モル％、シクロ
ヘキサン０．３モル％及びベンゼン０．２モル％から成
る混合物３．２ｇが回収された。このことは、フィード
中に存在したシフ【！ヘキセンの９７％が塔底生成物と
してｍｔｌ＆されたことを意味する。

実施例４７０の理論的分離段数（補強部分に３２及び摩耗部分に
３８）を有する充填塔で、１時間当りシクロヘキセン７
０モル％、ベンゼン２４モル％及びシクロヘキサン６モ
ル％（これはベンゼン／シクロヘキサンのモル比ｑ＝４
．００に相当する）から成る混合物８］９を１バール及
び還流比４０で連続的に蒸留した。７８℃でＧＣ分析に
よればベンゼン６４モル％、シクロヘキサン１９モル％
及びシクロヘキセン１７モル％から成る塔頂生成物２／
Ｉ　９／ｈが得られた。塔底から、１時間当りシクロヘ
キセン９２．５モル％、シクロヘキサン０．５モル％及
びベンゼン７．０モル％から成る混合物５７９が回収さ
れた。このことは、フィード中に含有されたシクロヘキ
センの９２．５％が塔底生成物として即離されたことを
ご味する。

実施例５７０の理論的分離段数（補強部分に４０及び摩耗部分に
３０）を有する充填塔で、１時間当りシクロヘキセン９
０モル％、ベンゼン２モル％及びシクロヘキサン８モル
％（これはベンゼン／シクロヘキサンのモル比ｑ＝０．
２５に相当する）から成る混合物８２９を０．７バール
及び還流比６０で連続的に蒸留した。塔頂生成物として
沸点６８〜６９℃を有する、ＧＣ分析によればベンゼン
２０モル％、シクロヘキサン３２．５モル％及びシフＣ
）ヘキセン４７．５モル％から成る混合物８　ｇ／ｈが
得られた。塔底から、１時１ｍ当りシクロヘキセン９５
モル％、シクロヘキサン５モル％及びベンゼン＜０．０
０１モル％から成る混合物７４ｇが回収された。

このことは、フィード中に存在したシクロヘキセンの９
４．５％が塔底生成物として単離されたことを意味する
。

実施例６９５の理論的分離段数（補強部分に６７及び摩耗部分に
２８）を（丁する充填塔で、１時間当りシクロヘキセン
９９．０モル％、ベンゼン０．５５モル％及びシクロヘ
キサン０．４５モル％（これはベンゼン／シクロヘキサ
ンのモル比Ｑ＝＝１．２に相当する）から成る混合物８
２ｙを１バール及び還流比２７５で連続的に蒸留した。

塔頂生成物として、８２℃の沸点をイＪ゛する、ＧＣ分
析によればベンゼン１１モル％、ンク〔１ヘキサン６モ
ル％及びシクロヘキセン８３モル％から成る塔頂生成物
４　タ／ｈが得られた。塔底から、１時間当りシクロヘ
キセン９９．８５モル％、シクロヘキサン０．１５モル
％及びベンゼン＜０．０００１モル％から成る混合物７
８５Ｉが回収された。このことは、フィード中に存在し
たシクロヘキセンの９５％が塔底生成物として単離され
たことを萄味する。

実施例７９０の理論的分離段数（補強部分に３５及び摩耗部分に
５５）を（ｆする充填塔で、１時間当りシクロヘキセン
１７モル％、ベンゼン４５゜５モル％及びシフ【ノヘキ
ザン３７．５モル％（ベンゼン／シクロヘキサンのモル
比−１，２２）から成る混合物１００９を１．０バール
及び還流比９で連続的に蒸留した。７７℃で組成（ＧＣ
分析による）ベンゼン５４．５モル％、シフ［ｌヘキサ
ン４５，０モル％及びシクロヘキセン０．５モル％をｆ
Ｈする塔頂生成物８３ｙ／ｈが得られた。塔底から、１
時間当り組成シクロヘキセン９７．２モル％、シクロヘ
キサ゛）２．２モル％及びベンゼン０．６モル％から成
る混合物１７９が回収された。このことは、フィード中
に含有されたシクロヘキセンの９６．８％が塔底生成物
として単離されたことを意味する。

出発混合物は以下のようにして製造した：前型反応器（
長さ５０ｃｒｔｒ、直径０．６ｃｎ＋）に、１７０℃及
び８０バールで１時間当り水素（排ガス１０Ｑ／ｈ）、
ベンゼン１００峠及び水５０峠を担体としてのΔｃ２ｏ
３．．ｔ−のＲｕ／Ｃｕ／Ｃｏ　／　Ｃｃ　（＋１　ｕ
　　０　、５１’ｎ　、ｒｉｔ％、Ｃｕ　　Ｏ，５重量
％、Ｇｏ　　０．５重’ｉ′４％及ヒｃ　ｃ　　Ｏ，５
ＩｒＩ；ｒｔ％）触媒５ｇｌに圧送した。１００時間の
反応時間後に、相分離による水の除去後に、出発混合物
１０Ｑが得られた。

実施例７９０の理論的分離段数（補強部分に４５及び摩耗部分に
４５）を有する充填塔で、１時間当リシク【Ｊヘキセン
１６モル％、ベンゼン４５゜５モル％及びシクロヘキサ
ン３８．５モル％（ベンゼン／シクロヘキサンのモル比
−１，１７）から成る混合物＋ｏｏｇを１．５バール及
び還流比１２．５で連続的に蒸留した。９０℃で組成（
ＧＣ分析による）ベンゼン５４．６モル％、シクロヘキ
サン４５．４モル％及びシクロヘキセン〈０．１モル％
を有する塔頂生成物８３．２９／ｈが得られた。塔底か
ら、１時間゛１１り組成シクロヘキセン９５．４モル％
、シクロヘキサン４．１モル％及びベンゼン０．５モル
％から成る混合物１６．８９が回収された。このことは
、フィード中に存在したシクロヘキサンの９９．９％が
塔底生成物として単離されたことを０味する。

出発混合物は以下のようにして’Ｂ　ＩＸｉした：前型
反応器（長さ５０ｃｍ、直径０．６ｃｍ）に、１７ＩＯ
℃及び７０バールで１時間当り水素（排ガスＩ　ＯＬ／
ｈ）　、ベンゼン５Ｃ１＋１２及び水２５ｘＱを担体と
してのΔＱ２０：（−Ｌユのｎ　ｕ　／　Ｃｕ触媒（Ｉ
Ｌ　ｕ　　０．５　重ｒｉｔ％及びＣｕ　　Ｏ，５重量
％）５９上に圧送した。２０時間の反応時間後に、相分
離による水の除去後に、シクロヘキセン２４重ｊ１１％
、シクロヘキサン６１重量％及びベンゼン１５重Ｍ１％
から成る混合物１０００ｍ１２が得られた。この生成物
にベンゼン４６５ｚＱを加え、それによってシクロヘキ
セン１６　屯ｉｄ％、シフ【Ｊヘキサン４０重Ｍ％及び
ベンゼン４４　＝Ｔｒ’＋１％から成る混合物計１４６
５ｚ＆が得られた。

実施例９９０の理論的分離段数（補強部分に５５及び摩耗部分に
３５）をイ」−する充填塔で、１時間当りシクロヘキセ
ン１２モル％、ベンゼン４７゜５モル％及びシクロヘキ
サン４０５モル％（ベンゼン／シクロヘキサンのモル比
−１，１９）から成る混合物１００９を０．８バール及
び還流比１２で連続的に蒸留した。６９．５℃で組成（
ＧＣ分析による）ベンゼン５４．１モル％、シクロヘキ
サン４５．６モル％及びシクロヘキセン０．３モル％を
￥ｆする塔頂生成物８７．８ｙ／ｈが得られた。塔底か
ら、１時間当りシクロヘキセン９６．９モル％、シクロ
ヘキサン２．８モル％及びベンゼン０．３モル％の組成
を有する混合物１２．２ｙが回収された。このことは、
フィード中に存在したシクロヘキセンの９８．２％が塔
底生成物として単離されたごとを意味する。

出発混合物は以下のようにして製造した：前型反応器（
長さ５０　ｃ＋＋、直径０，６ｃ１）に、２００℃及び
９０バールで１時間当り水素（排ガスＩ　ＯＣ／ｈ）　
、ベンゼン５０ｘＱ及び水２５峠を担体としての５ｉ０
２上のＲｕ　／　Ｃｕ　／Ｃｏ　／　Ｃｅ触媒（Ｒｕ０
．５重量％、Ｃｕ　　０５　ＩＲＦＩ’Ｉ％、Ｇｏ　　
０．５重量％及びＣｅ　　Ｏ，５重量％）　５　ｙ　、
ｈに圧送した。８時間の反応時間後に、相分離による水
の除去後に、シクロヘキセン１５重量％、シクロヘキサ
ン２８重量％及びベンゼン５７重へ（％から成る混合物
４００ｘＱが得られた。この生成物にフクロヘキサン＋
０３峠を加え、それによりシクロヘキセン１２重量％、
シフ【１ヘキサン４２重量％及びベンゼン４６　＝Ｉ’
ｉ、’量％を含イｆする混合物計５０３　ｚＱが得られ
た。

実施例１０９０の理論的分離段数（補強部分に３４及びＰＩ耗部分
に５６）を有する充填塔で、１時間当りシクロヘキセン
６．５モル％、ベンゼン５０．６モル％及びシクロヘキ
サン４２．９モル％（ベンゼン／シクロヘキサンのモル
比＝１．　１８）から成る混合物１００ｇを１．０バー
ル及び還流比１１．５で連続的に蒸留した。７６゜５℃
で組成（（、Ｃ分析による）ベンゼン５４゜１モル％、
シクロヘキサン４５．８モル％及びフクロヘキセン０．
１モル％をイｆする塔頂生成物９３．５１／／ｈが得ら
れた。塔底から、１時間当り組成フクロヘキセン９８．
９モル％、シクロヘキセン１２モル％及びベンゼン０．
９モル％有する混合物６．５９が回収された。このこと
は、フィード中に存在したシクロヘキセンの９９％が塔
底生成物としてｔｐ雌されたことを章味する。

出発混合物は以下のようにして製造した：前型反応器（
長さ５０　ｃＩｌｌ、直径０．６ｃＩＩ＋）に、５７５
℃で１時間当りシクロヘキサン５　ｘＱ及び水素１３ｆ
ｆを担体としての５ｉ０２１のＲｕ／　Ｓ　ｃ触媒（Ｒ
ｕ　　４．０　（ｔ、量％及びＳｃ１．０、Ｉ’ｉ：　
８１１％）２ＯｘＱ上に圧送した。４８時間の反応時間
後に、シクロヘキセン７重量％、シクロへ′キサン４８
重量％及びベンゼン４５重量％から成る混合物２４０１
が得られた。この生成物にベンゼン１７ｚ（を加え、そ
れによりシクロヘキセン６４５重量％、シクロヘキサン
４４．５重量％及びベンゼン４９ｉ；１％を含イＪ゛す
る混合物１；１・２５７１が得られた。

Claims

【特許請求の範囲】１、シクロヘキセン、シクロヘキサン及びベンゼンを含
有する混合物を蒸留後処する方法において、ベンゼン対
シクロヘキサンのモル比ｑが０．１：１〜１０：１であ
る混合物から出発するか又は別のモル比ｑ’の混合物を
ベンゼンもしくはシクロヘキサンを添加することにより
前記範囲の値ｑに調整しかつベンゼンとシクロヘキサン
をシクロヘキセンを精留することにより共沸混合物とし
て分離することを特徴とする、シクロヘキセン、シクロ
ヘキサン及びベンゼンを含有する混合物を蒸留後処理す
る方法。２、反応混合物中において既に比ｑが存在するような条
件下でベンゼンの接触水素添加により製造された混合物
に適用する、特許請求の範囲第１項記載の方法。３、ベンゼンの水素添加を液相又は気相内でルテニウム
触媒に接触させて水の存在下に温度５０〜３００℃、圧
力０．１〜５００バール、滞留時間０．０１〜５時間で
不連続的又は連続的に実施した、特許請求の範囲第２項
記載の方法。４、反応混合物中において既に比ｑが存在するような条
件下でシクロヘキサンの熱的接触水素添加により製造さ
れた混合物に適用する、特許請求の範囲第１項記載の方
法。５、シクロヘキサンの脱水素を第VIII副属の貴金属又は
第VI副属の金属の酸化物から成る触媒に接触させて水素
の存在下に温度２００〜６５０℃及び圧力０．０１〜１
０バールで不連続的に又は連続的に実施した、特許請求
の範囲第４項記載の方法。６、精留に直接的に供給される混合物において、適用蒸
留圧下でシクロヘキサン／ベンゼン共沸混合物の組成に
相当するモル比ｑ＿ａ＿２が存在するか又は該モル比を
調整する、特許請求の範囲第１項から第５項までのいず
れか１項に記載の方法。