JPS584750A - 高純度アニリンの製造方法 - Google Patents

高純度アニリンの製造方法

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JPS584750A
JPS584750A JP56102256A JP10225681A JPS584750A JP S584750 A JPS584750 A JP S584750A JP 56102256 A JP56102256 A JP 56102256A JP 10225681 A JP10225681 A JP 10225681A JP S584750 A JPS584750 A JP S584750A
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晃弘 玉置
Teruyuki Nagata
永田 輝幸
Katsuji Watanabe
勝治 渡辺
Hiroki Onishi
大西 博喜
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は二1−ロベンゼンの水素添加による7ニリンの
製造方法に関する。
芳香族ニトロ化合物な液相で水素添加して対応する芳香
族アミンを製造する方法が米国特許2.292,879
号に提案されている。この方法は細分された担体上に支
持されたニッケル、フッ・ルト、または銅触媒を使用し
て、これを二1・口止合物とその水素添加生成物である
アミンとの混合液中に懸濁させ、これに水素を通して反
応をおこなうものである。その明細書には、反応で生成
する水をアミンとともに反応系から連続的に留去させろ
ような条件で反応をおこなうことに」:つて触媒の活性
が高く保持されろこと、さらに芳香族アミンを反応溶媒
として使用1し、そのアミンの濃度を比較的高(して反
応させることにより触媒の活性度を増大させることが記
載されている。
また、特許公報昭5[]−15779号明細書には、前
記米国特許と同様液相反応で、溶媒として使用する生成
芳香族アミンの濃度を液相中で95重月係以上に維持し
、反応をできるだけ常圧刊近で、しかも脚点またはその
近くの温度でおこなうことにより、反応生成水が容易に
系外に除去できてまた反応器より留去される生成物中に
は二)p化合物の含有量の少ない芳香族7ミ/が得られ
るので有利であることが4ノー案されている。
反応液中のアミン濃度を高く保つことは、即ちニトロ化
合物を反応の消費に見合う量だけをチャ−シすることは
系列へ留去される生成物中の未反応ニトロ化合物の含有
率を低くするためには望ましいことであり、また本反応
のように発熱の大きな反応では温度制御のため多量の溶
媒を使用して、蒸発潜熱で反応熱を制御することも一般
に推奨されているところである。
このような観点からみれば反応液中のアミン濃度はでき
る限り100循に近く保ち、二)P化合物の濃度を低く
することが有利なように思われる。
しかしながらアミン溶媒中でニドp化合物の濃度を低く
して反応をおこなえば副反応として芳香族環の核水素添
加がおきやす(なり、・ンクpヘキシルアミン、シクロ
ヘキサノン、シクロヘキシリゾ/7ニリン、シクロヘキ
シルアニリンなどの不純物を生成しやすくなる。これら
の副生率は反応系中の二)p化合物の濃度が低いほど著
しく・0これらの核水添化物である副生不純物の生成を
抑制するため、特公昭47−27212にはアルカノー
ルアミンなどの有機塩基物を添加することが提案されて
おり、例えばニトロベンゼンの水素添加により7ニリン
製造の場合においてトリエタノールアミンを添加してい
るが、この場合でも満足できるものではない。
また、通常市販されている高純度アニリン中には二l・
ロベンゼンはI D ppm程度以下の含有が望ましい
とされているが、二1・1ベンゼンの濃度を0.5重3
5(%以下の低い濃1屍に保って反応を実施しても、未
反応二l−pべ/ゼンの20 ppm以上が7ニリ/と
共に留出し、触媒量を増加させて未反応二)pベンゼン
の留出を抑制しようとすれば、核水添化物は、それだけ
比例して増加する。
本発明者らは、貴金属触媒の存在下接触水素添加による
二)l−ベンゼンからのアニリンの製造法において、こ
のような問題を解決すべく鋭意検討した結果、特定反応
条件下に特定の化合物を添加することにより、未反応ニ
トロベンゼンを殆んど含有せず、しかも核水添化物含有
量の極めて少ない高純度のアニリンの製造方法を見出し
、本願方法を完成させたものである。
即ち、本願方法は貴金属触媒を用いて、二トロべ/ゼン
の接触水素添加によるアニリンの連続的製造方法におい
て、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アル
カリ金属重炭酸塩、酢酸亜鉛、硝酸亜鉛から選ばれた化
合物の存在下、7ニリン反応液中の二l・t−ベンゼン
の濃度を05重量係以下に保ちながら反応をおこなうこ
とを特徴とする蒸留工程を経ることなく高純度アニリン
を連続的に製造する方法である。
本願方法に使用できる貴金属触媒とは、通常ニトロ化合
物の接触水素添加反応に使用できる触媒であり特定され
るものではない。例えばパラジウム、白金およびpジウ
ム等を含有する触媒が使用できる。特にパラジウムおよ
びまたはパラジウム−白金系触媒が好ましく、パラジウ
ム系触媒を使用する場合は、担体として少くとも100
の油吸収率を有する親油性炭素上に沈着させて使用した
ほうが好ましい。反応系中の触媒濃度は、通常00.2
〜2.0重量係が適当である。
また本願方法で、添加して使用される化合物としては、
苛性ソーダ、苛性カリなどのアルカリ土類金 川水酸化物、炭酸ソーダ、炭酸カリ、重炭酸ソーダなど
のアルカリ金属の炭酸塩若しくは重炭酸塩、または酢酸
亜鉛、硝酸助錯であり、これらを触媒中の貴金属正月に
対し01〜100倍好ましくは0.5〜50倍量を直接
触媒に添加してもよくまたは水溶液として反応系へ添加
してもよい。これらの化合物はベンゼン環核水素化反応
抑制剤として機能するだけでなく、本願方法では、貴金
属触媒の助触媒としての相乗的効果もあり、通常の使用
量の触媒量でも連続的に反応系から留出されるアニリン
中には未反応二1・p−ンゼンが殆んど含まれない。
本願方法の反応は以下のようにして実施する。
貴金属触媒を使用して水添反応を実施する場合、通常反
応系内に水が存在していれば触媒活性がおちろと同時に
副生成物が増大する傾向にあるので、反応中に生成する
水は、たえず系外に除去して、実質的に水工存在下で反
応をおこなうのが望ましい。少iのニトロベンゼンをあ
らかじめチャージされている7ニリン溶媒中へ導入して
反応を行い、(6) 反応器に導入された二)pベンゼンは瞬時にアニリンと
水に転化され反応生成物は蒸気として系外に除去する。
反応時の圧力は大気圧でも実施可能であるが1.5〜1
0気圧、反応温度150〜250’0で実施するのが好
ましい。反応器へ導入するニド「コベンゼンは反応液中
の二l−qベンゼン濃度が110.5重月%以下である
」:5に、二)pべ/ゼンを7ニリノへの転化にほぼ見
合う量を7ニリン溶媒中に供給し、好ましくは0.1重
量%以下の濃度に維持して反応をおこなう。0.5重量
%以上では未反応ニドpベンゼンが増し、高純度アニリ
ンのスペ、ツクにするためには、そのための蒸留工程が
必要になるので好ましくない。
このようにして反応器から、連続的に蒸気として取出し
凝縮されたアニリン中には、未反応二1・pべ/ゼンは
殆んど含まれず、またシクロヘキサノール、シクロヘキ
サツノ、シクロヘキシリデン7ニリン、シクロヘキシル
7ニリンなどの核水素添加物も殆んど含まれない高純度
アニlJンが連続的に得られる。凝縮留去されたアニリ
ンは、水を分離後必要あれば一部反応系に戻して反応器
中の7ニリン溶媒を調節する。
以]二のように、本発明方法を実施することにより、未
反応二l・pヘンゼン含有量の極めて少ない、然も核水
添化物の(夕めて抑制された高純度7ニリンを得ること
ができ、従って精製工程がほとんど不要でありその効果
は極めて太きいといえる。
以下実施例を示〕。
実施例に トロベンゼン、触媒および水素ガスを連続的に供給する
ための導入口、未反応の水素ガスおよび生成物を反応系
外に排出するための出口と凝縮器、攪拌機および温度計
を備えた内容積1tのステンレススチール製オートクレ
ーブにアユリフ5002油吸収率260のカーホン粉末
にパラジウム08重量パーセノ1−1白金0.1 重J
Ffバーセン)・および鉄0.8重量パーセントを沈着
させて得られる水素添加触媒0.32および重炭酸ナト
リウム0.1fを仕込み、内温を190〜20 [1’
0に、全圧を31cg 、/ctd Gに夫々保ちつつ
二1・1べ/ゼン、触媒および水素ガスを各々毎時10
0ζ0.025rおよび60〜807の速度で供給し、
未反応の水素ガスと共に生成水お」:びアニリンを連続
的に系外に排出し、この蒸気をオートクレーブに連結し
て装備した凝縮器に導入し冷却することにより水および
7ニリンを凝縮させた。この間水素ガスの流量は供給す
るニドpヘンゼンより生成する量に対応する量のアニリ
ンが留出するように、即ちオートクレーン中のアニリン
を主成分とする液相の重量が常に5002伺近に維持さ
れるように調節した。得られた凝縮液は二層に分離され
、無色ないし淡黄色の透明なアニリン層が得られた。こ
のアニリン層中には水分が約4.5パーセント含まれる
が、ガスクロマトクラフ法で分析した結果、シクロヘキ
ーリーメール、シクロヘキサツノ、シクロヘキシリテ/
アニリ/および二)pベンゼンが各々51)Pm以下、
40 ppm以下、20’ Ilpm以下および10 
ppm以下含まれているにすぎなかった。々反応器内液
相中の7ニリン溶液な逐時分析しニド−ベンゼン濃度が
0.02%以下に保たれていると(9) とを確認した。この液相中にはN−シクロヘキシル7ニ
リンが認められたがその含有率は反応開始後30時間目
で0.05%にすぎなかった。
実施例2〜7 触媒及び添加剤の種類を変えた以外は実施例1と同じ方
法で実施した。
結果を表に示す。
(10)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、  貴金属触媒を用いて、二)pベンゼンの接触水
    素添加によるアニリンの連続的製造方法において、アル
    カリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属
    重炭酸塩、酢酸亜鉛、硝酸亜鉛から選ばれた化合物の存
    在下、アニリン反応液中のニトロベンゼンの製置を0.
    5重量係以下に保ちながら反応をおこなうことを特徴と
    する高純度アニリンの製造方法。
JP56102256A 1981-07-02 1981-07-02 高純度アニリンの製造方法 Granted JPS584750A (ja)

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