JPS62291709A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS62291709A JPS62291709A JP13469186A JP13469186A JPS62291709A JP S62291709 A JPS62291709 A JP S62291709A JP 13469186 A JP13469186 A JP 13469186A JP 13469186 A JP13469186 A JP 13469186A JP S62291709 A JPS62291709 A JP S62291709A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 19
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 8
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 3
- -1 ferrite Chemical compound 0.000 claims description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 2
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 32
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 235000007575 Calluna vulgaris Nutrition 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁性酸化物材１斗と磁性金属材料との複合磁
性材料からなる磁気ヘッドに閏ｒろ。
性材料からなる磁気ヘッドに閏ｒろ。
従来この種の磁気ヘット・チップ（以下へ７１・と称す
）の構成を開示した公知資料として「特開昭６ｌ−３３
１３Ｊ等があった。
）の構成を開示した公知資料として「特開昭６ｌ−３３
１３Ｊ等があった。
又、第１９図及び第２０図に示すようなＪ＼ツトの製造
方法として、第１１図乃至第１８図に示す工程を経て製
造していた。
方法として、第１１図乃至第１８図に示す工程を経て製
造していた。
第１９図は完成したヘッドの正面図、第２０図は前記ヘ
ッドの平面図である。
ッドの平面図である。
第１１図は第１行程図であり、フェライト等の磁性酸化
物材料でなる直方体のコア半体ブロック３ａの一面を突
き合わせ面Ｓとし、該突き合わぜ面Ｓに、開口幅Ａでし
かもｖ字状の断面を持つ第１の満１が間隔Ｗで平行に刻
設された状態を示す。
物材料でなる直方体のコア半体ブロック３ａの一面を突
き合わせ面Ｓとし、該突き合わぜ面Ｓに、開口幅Ａでし
かもｖ字状の断面を持つ第１の満１が間隔Ｗで平行に刻
設された状態を示す。
尚、前記溝１以外の平坦面Ｆａは前記溝ｌの開口幅Ａよ
りもやや広い幅Ｂとしている。第１２図は第２工程図で
あり、前記溝１にガラス等の非磁性体４が充填された状
態を示す。
りもやや広い幅Ｂとしている。第１２図は第２工程図で
あり、前記溝１にガラス等の非磁性体４が充填された状
態を示す。
第１３図は第３工程図であり、前記第２行程のものの溝
１及び突き合わせ面Ｓ上に山盛りに溶着された前記非磁
性体４が前記平坦面Ｆａと一致するように平滑に研磨さ
れた状態を示す。
１及び突き合わせ面Ｓ上に山盛りに溶着された前記非磁
性体４が前記平坦面Ｆａと一致するように平滑に研磨さ
れた状態を示す。
第１４図は第４行程図であり、前記第１工程において前
記溝１を刻設しなかった平坦面Ｆａにも、前記溝１の閉
口幅Ａ及び間隔Ｗを持つ第２の溝が平行に刻設された状
態を示す、このとき、前記溝ｌの左縁部ＩＬへ前記溝２
の左縁部２Ｒが１菫かに重なり合うことにより、新たな
切削面Ｊが２箇所できる。
記溝１を刻設しなかった平坦面Ｆａにも、前記溝１の閉
口幅Ａ及び間隔Ｗを持つ第２の溝が平行に刻設された状
態を示す、このとき、前記溝ｌの左縁部ＩＬへ前記溝２
の左縁部２Ｒが１菫かに重なり合うことにより、新たな
切削面Ｊが２箇所できる。
第１５図は第６行程図であり、前記第５工程のものの突
き合わせ面Ｓに、スパッタリング又は蒸着により金属磁
性体の薄膜Ｍが所定の厚さｍに形成された状態を示す（
第１９図参照）。尚該薄膜Ｍの厚さｍは周知の技術によ
り容易に制御でき、後述するトラック幅規制を精密なも
のとしている。
き合わせ面Ｓに、スパッタリング又は蒸着により金属磁
性体の薄膜Ｍが所定の厚さｍに形成された状態を示す（
第１９図参照）。尚該薄膜Ｍの厚さｍは周知の技術によ
り容易に制御でき、後述するトラック幅規制を精密なも
のとしている。
第１６図は第６行程図であり、前記第５工程のものの突
き合わせ面Ｓに、再度ガラス等の非磁性体４を山盛りに
溶着し、前記溝２が完全に埋められた状態を示す。
き合わせ面Ｓに、再度ガラス等の非磁性体４を山盛りに
溶着し、前記溝２が完全に埋められた状態を示す。
第１７図は第７エ程図であり、前記第６エ程のものの突
き合わせ面Ｓの表面を前記第３工程同様に平滑に研磨す
る様子を示す、この時、前記金属磁性体の薄膜Ｍは前記
突き合わせ面Ｓ上から完全に削除されている。従って、
この工程では前記した厚さｍ以上の研磨加工がなされる
。
き合わせ面Ｓの表面を前記第３工程同様に平滑に研磨す
る様子を示す、この時、前記金属磁性体の薄膜Ｍは前記
突き合わせ面Ｓ上から完全に削除されている。従って、
この工程では前記した厚さｍ以上の研磨加工がなされる
。
第１８図は第８行程乃至第１１工程を合わせて示す工程
図である。
図である。
第８１テ程では前記第７行程のもの多数のうち、先ず全
数に対し、前記突き合わせ而Ｓの反対の面Ｐｉこ、七円
彫の断面を持つ巻線溝６を、前記溝１゜２と直角方向に
シ１１設する。次に半数のものに対し、前記突き合わせ
面Ｓ上に、台形の断面を持つ巻線穴５を前記巻線溝６と
同様に刻設する。
数に対し、前記突き合わせ而Ｓの反対の面Ｐｉこ、七円
彫の断面を持つ巻線溝６を、前記溝１゜２と直角方向に
シ１１設する。次に半数のものに対し、前記突き合わせ
面Ｓ上に、台形の断面を持つ巻線穴５を前記巻線溝６と
同様に刻設する。
第９１テ程では前記第８行程のもののうち、前記巻線穴
５の刻設されたものと、そうでないものとを１組として
前記突き合わせ面Ｓ同志を向かい合わせ、ギャップスペ
ーサガラス（第１８図では示されない）を挾み、ギャッ
プＧを形成する前記金属磁性体の７菫膜Ｍの層が、正面
Ｅから見て、前記した２つのコア半体ブロック３ａに回
り、−直線の帯状に揃うように前記コア半体ブロック３
ａを、図の左右方向の位置に対して微調整した後に加熱
し、前記ギャップスペーサガラスＧＳにより前記した２
つのコア半体ブロック３ａを融着し、１つのコアブロッ
ク７を得る。この時、前記ギャップＧには所定のギヤツ
ブ輻ｇが形成される（第１９図参照）。
５の刻設されたものと、そうでないものとを１組として
前記突き合わせ面Ｓ同志を向かい合わせ、ギャップスペ
ーサガラス（第１８図では示されない）を挾み、ギャッ
プＧを形成する前記金属磁性体の７菫膜Ｍの層が、正面
Ｅから見て、前記した２つのコア半体ブロック３ａに回
り、−直線の帯状に揃うように前記コア半体ブロック３
ａを、図の左右方向の位置に対して微調整した後に加熱
し、前記ギャップスペーサガラスＧＳにより前記した２
つのコア半体ブロック３ａを融着し、１つのコアブロッ
ク７を得る。この時、前記ギャップＧには所定のギヤツ
ブ輻ｇが形成される（第１９図参照）。
第１０行程では、前記第９行程のコアブロック７の正面
Ｅをかまぼこ型の曲面となるように研磨して摺動面Ｒ（
第１８図の仮想線で示す）を形成する。
Ｅをかまぼこ型の曲面となるように研磨して摺動面Ｒ（
第１８図の仮想線で示す）を形成する。
第１１行程では、前記第１Ｏ行程のコアブロック７を切
断面Ｙｌ、Ｙ２で切断し、２個のヘッド（ホ）、（へ）
を得る。この時、前記切断面Ｙｌ。
断面Ｙｌ、Ｙ２で切断し、２個のヘッド（ホ）、（へ）
を得る。この時、前記切断面Ｙｌ。
Ｙ２は前記突き合わせ面Ｓ及び外面Ｐに対する完全な垂
直面からアジマス角θだけ傾ける。該アジマス角θはＶ
ＨＳ方式のＶＴＲで６″、ベータフォーマット方式で７
°に設定されており、このｆＪ！のベッドで特に問題と
なる、隣接するトラ・ツク間でのクロストークを防止す
るためのものである。
直面からアジマス角θだけ傾ける。該アジマス角θはＶ
ＨＳ方式のＶＴＲで６″、ベータフォーマット方式で７
°に設定されており、このｆＪ！のベッドで特に問題と
なる、隣接するトラ・ツク間でのクロストークを防止す
るためのものである。
又、前記突き合わせ而Ｓと前記金属磁性体の薄膜Ｍとが
交蓬する面がキャップＧとなり、該ギャップＧをヘッド
厚Ｚの略中央に位置するように前記切断面Ｙ１．Ｙ２を
設定する。
交蓬する面がキャップＧとなり、該ギャップＧをヘッド
厚Ｚの略中央に位置するように前記切断面Ｙ１．Ｙ２を
設定する。
以上の第１工程乃至第１１工程が、ｌ＼ラッド製造工程
のあらましであるが第１９図の正面図及び第２０図の平
面図により、前記各工程を経て完成されたヘットを示す
。
のあらましであるが第１９図の正面図及び第２０図の平
面図により、前記各工程を経て完成されたヘットを示す
。
第１９図及び第２０図において、前記ギャップＧの間に
は前記ギャップスペーサガラスＧＳが充填されてその間
隔を促持し、機械的強度も得、前記摺動面Ｒの表面に前
記ギャップＧの部分て凹凸ができるのを防いでいる。
は前記ギャップスペーサガラスＧＳが充填されてその間
隔を促持し、機械的強度も得、前記摺動面Ｒの表面に前
記ギャップＧの部分て凹凸ができるのを防いでいる。
又、トラック幅Ｔは前記ｔＲ１，２の刻設角度と前記金
属磁性体の薄膜Ｍの厚さｍと前記アジマス角θとを規制
することにより所定の精度を出せる。
属磁性体の薄膜Ｍの厚さｍと前記アジマス角θとを規制
することにより所定の精度を出せる。
従来のこの種の磁気ヘットの製造方法においては、第１
の溝の縫部に対し第２の溝の縁部の片側し・か重なり合
わず、原型なり合う部分に生じる新たな切削面は、前記
第２の溝の刻設された本数しか得られなかった。
の溝の縫部に対し第２の溝の縁部の片側し・か重なり合
わず、原型なり合う部分に生じる新たな切削面は、前記
第２の溝の刻設された本数しか得られなかった。
又、１対のコア半体ブロックを前記切削面が含まれる位
置及び厚さをもって、複数の＠気ヘッドを切出すという
最終工程に示した通り、前記切削面の数しかヘッドが得
られなかった。
置及び厚さをもって、複数の＠気ヘッドを切出すという
最終工程に示した通り、前記切削面の数しかヘッドが得
られなかった。
従って、従来の製造方法では前記した通り、１紐のコア
ブロックからは、第２の溝を刻設する本数の切削面しか
得られないため、前記第２の溝の刻設された本数すなわ
ち前記第１の溝と第２の溝との合計本数の半数だけの磁
気ヘッドしか得られないという欠点があった。
ブロックからは、第２の溝を刻設する本数の切削面しか
得られないため、前記第２の溝の刻設された本数すなわ
ち前記第１の溝と第２の溝との合計本数の半数だけの磁
気ヘッドしか得られないという欠点があった。
この発明は、上記第２の溝が該第２の溝の両側に刻設さ
れた上記第１の溝の縁部に夫々型なり合うようにこれら
第２の溝と第１の溝とを配列した。
れた上記第１の溝の縁部に夫々型なり合うようにこれら
第２の溝と第１の溝とを配列した。
正確な直方体の一面に体し、精密な工作機械及び治具に
より、交互に並列されしかも上記第１の溝及び第２の溝
が平坦部を残すことなくそれらの縁部が僅かずつ重なり
合うように隣接した等しい間隔をもって刻設された場合
、前記型なり合うｉｔ部には、同じ形状を持つ切削面が
前記した「講と溝との間の数」だけ生じる。
より、交互に並列されしかも上記第１の溝及び第２の溝
が平坦部を残すことなくそれらの縁部が僅かずつ重なり
合うように隣接した等しい間隔をもって刻設された場合
、前記型なり合うｉｔ部には、同じ形状を持つ切削面が
前記した「講と溝との間の数」だけ生じる。
すなわち、刻設した溝の総数より１つ少ない数の切削面
が得られ、該切削面と同数の磁気ヘッドを切り出すこと
ができる。
が得られ、該切削面と同数の磁気ヘッドを切り出すこと
ができる。
第１乃至第１Ｏ図は本発明の実施例を示すものであり、
第１図乃至第８図は各工程図、第９図及び第１０図は他
の実施例である。
第１図乃至第８図は各工程図、第９図及び第１０図は他
の実施例である。
尚、従来例と同効のものは同一符号で示し、説明の重複
を避ける。
を避ける。
第１図は上記第１１図と似た第１工程図であるが、上記
コア半体ブロック３の突き合せ面Ｓ上で、Ｖ字型の断面
をもち開口＠Ａの第１の溝１を従来のものよりもやや狭
い間隔Ｎで平行に数多く刻設する。従って平坦面Ｆの幅
Ｃは、上記溝１の開口ＭＡよりも狭いものとなる。
コア半体ブロック３の突き合せ面Ｓ上で、Ｖ字型の断面
をもち開口＠Ａの第１の溝１を従来のものよりもやや狭
い間隔Ｎで平行に数多く刻設する。従って平坦面Ｆの幅
Ｃは、上記溝１の開口ＭＡよりも狭いものとなる。
第２図及び第３図は上記第１２図及び第１３図と略同等
の工程であり、夫々第２工程図及び第３工程図を示す。
の工程であり、夫々第２工程図及び第３工程図を示す。
第４図は上記第１４図と似た工程の第４工程図であり、
前記平坦面Ｆのうち、両方の端面１１の近傍以外の全部
に第２の満２を、上記溝１と平行てしかも上記溝１の右
（左）縁部ＩＲ（ＩＬ）に上記ｆｉ２の左（右）縁部２
Ｌ （２Ｒ）が僅かに重なり合うように刻設する。前記
型なり合った部分は上記したように新たな切削面Ｊを形
成する。
前記平坦面Ｆのうち、両方の端面１１の近傍以外の全部
に第２の満２を、上記溝１と平行てしかも上記溝１の右
（左）縁部ＩＲ（ＩＬ）に上記ｆｉ２の左（右）縁部２
Ｌ （２Ｒ）が僅かに重なり合うように刻設する。前記
型なり合った部分は上記したように新たな切削面Ｊを形
成する。
この時、上記溝１，２の刻設される間隔Ｎが狭くなり、
刻設本数が増える。そして、上記溝２の左縁部２Ｒ及び
左縁部２Ｌの両方が隣設する上記溝１の締部に重なるた
め、上記溝２の本数の２倍の数の切削面Ｊを得られろ。
刻設本数が増える。そして、上記溝２の左縁部２Ｒ及び
左縁部２Ｌの両方が隣設する上記溝１の締部に重なるた
め、上記溝２の本数の２倍の数の切削面Ｊを得られろ。
第５図、第６図及び第７図は上記第１５図、第１６図及
び第１７図と略同等の工程であり、夫り第５工程図、第
６エ程図及び第７エ程図を示す。第８図は上記第１８図
の工程と似た上記第８工程乃至第１１工程をＤ Ｊ）せ
て示す工程図である。
び第１７図と略同等の工程であり、夫り第５工程図、第
６エ程図及び第７エ程図を示す。第８図は上記第１８図
の工程と似た上記第８工程乃至第１１工程をＤ Ｊ）せ
て示す工程図である。
上記第８工程乃至第１０工程は従来例と同等である。
上記第１１工程では上記第１０工程で得られたコアブロ
ック８を切断面Ｘ１．Ｘ２．Ｘ３．、￥４にて切断し、
４個のヘット （イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）を得る
。
ック８を切断面Ｘ１．Ｘ２．Ｘ３．、￥４にて切断し、
４個のヘット （イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）を得る
。
上記各ヘッド（イ）乃至（へ）には全て、ヘッド厚Ｚの
略中央部近傍に上記切削面Ｊを含めるが、本実施例の製
造方法では、上記切削面Ｊが４面得られるので、コアブ
ロック８から４個のヘッドを得られる。
略中央部近傍に上記切削面Ｊを含めるが、本実施例の製
造方法では、上記切削面Ｊが４面得られるので、コアブ
ロック８から４個のヘッドを得られる。
第９図は他の実施例の正面図であり、第１の溝を略半円
形の断面を持つ形状に刻設し、第２の溝はＶ字状の断面
を持つ形状でしかも、刻設角度が深くなっている。
形の断面を持つ形状に刻設し、第２の溝はＶ字状の断面
を持つ形状でしかも、刻設角度が深くなっている。
第１０図は前記第９図のものとは違う、他の実施例であ
り、第１の溝及び第２の溝共に半円形の断面を持つ形状
に刻設している。尚、この場合の切断面ＸＩ、Ｘ２．Ｘ
３．Ｘ４は前記第８図のものと略同じ位置に設定されて
おり、４個のヘッド（チ）、（す）、（ヌ）、（ル）が
得られる。
り、第１の溝及び第２の溝共に半円形の断面を持つ形状
に刻設している。尚、この場合の切断面ＸＩ、Ｘ２．Ｘ
３．Ｘ４は前記第８図のものと略同じ位置に設定されて
おり、４個のヘッド（チ）、（す）、（ヌ）、（ル）が
得られる。
フェライト等の磁性酸化物で直方体状のコア半体ブロッ
クを形成し、該コア半体ブロックの一面を突き合わせ面
とし、該突き合わせ面に所定の間隔でしかも平坦面が残
る程度に略平行な第１０溝を刻設し、該第１の溝にガラ
ス等の非磁性体を充填した後に前記突き合わせ面を平滑
に研磨し、該平滑な突き合わせ面に前記所定の間隔でし
かも前記第１の講の縁部に新たな切削面が得られる程度
に略平行な第２の溝を刻設し、該第２の溝を含む突き合
わせ面全体にセンダスト等の金属磁性体の薄膜を被着し
、該薄膜の上から前記と同様の非磁性体を充填した後に
、再度前記突き合わせ面全体を所要寸法だけ平滑に研磨
し、該研磨工程の終了した１対のコア半体ブロックの各
突き合わせ面を相対峠し、前記両突き合わせ面の間にガ
ラス等でなるギャップスペーサを挟み、前記７Ｉｉ！ｌ
ｌの層が首記コアブロック半体の両方に亘って連続する
ような位置に前記コアブロック半体を位置設定し、これ
らを加熱融着して１個のコアブロックとし、該コアブロ
ックを前記切削面が含まれるような切断位置及び厚さを
もって切断することにより、前記した１対のコア半体ブ
ロックよりなる１個のコアブロック牟ら複数の磁気ヘッ
ドを製造する工程において、前記第２の溝の縁部が該第
２溝の両側に隣接された第１の溝の縁部に夫々重なるよ
うにこれら第１の溝と第２の溝を配列したから、第２の
溝の左縁部及び左縁部に前記切断面が得られ、該切削面
を含む位置及び厚さをもって切断することにより、前記
第２の溝が刻設された本数の２倍の数の磁気ヘッドが前
記１朝のコアブロックから得られる。
クを形成し、該コア半体ブロックの一面を突き合わせ面
とし、該突き合わせ面に所定の間隔でしかも平坦面が残
る程度に略平行な第１０溝を刻設し、該第１の溝にガラ
ス等の非磁性体を充填した後に前記突き合わせ面を平滑
に研磨し、該平滑な突き合わせ面に前記所定の間隔でし
かも前記第１の講の縁部に新たな切削面が得られる程度
に略平行な第２の溝を刻設し、該第２の溝を含む突き合
わせ面全体にセンダスト等の金属磁性体の薄膜を被着し
、該薄膜の上から前記と同様の非磁性体を充填した後に
、再度前記突き合わせ面全体を所要寸法だけ平滑に研磨
し、該研磨工程の終了した１対のコア半体ブロックの各
突き合わせ面を相対峠し、前記両突き合わせ面の間にガ
ラス等でなるギャップスペーサを挟み、前記７Ｉｉ！ｌ
ｌの層が首記コアブロック半体の両方に亘って連続する
ような位置に前記コアブロック半体を位置設定し、これ
らを加熱融着して１個のコアブロックとし、該コアブロ
ックを前記切削面が含まれるような切断位置及び厚さを
もって切断することにより、前記した１対のコア半体ブ
ロックよりなる１個のコアブロック牟ら複数の磁気ヘッ
ドを製造する工程において、前記第２の溝の縁部が該第
２溝の両側に隣接された第１の溝の縁部に夫々重なるよ
うにこれら第１の溝と第２の溝を配列したから、第２の
溝の左縁部及び左縁部に前記切断面が得られ、該切削面
を含む位置及び厚さをもって切断することにより、前記
第２の溝が刻設された本数の２倍の数の磁気ヘッドが前
記１朝のコアブロックから得られる。
第１図乃至第１０［ｍに示すものは本発明の実施例を示
すものであり、第１図乃至第８図は各工程図、第９図及
び第１０図は他の実施例である。 第１１図乃至第１８図は従来例を示すものである。 第１９図及び第２０図は従来例または本実施例の各工程
を経たものの完成図であり、第１９図は正面図、第２０
図は平面図である。 第１図及び第１１図は第１工程図。 第２図及び第１２図は第２工程図。 第３図及び第１３図は第３工程図。 第４図及び第１４図は第４工程図。 第５図及び第１５図は第５工程図。 第６図及び第１６図は第６エ程図。 第７図及び第１７図は第７エ程図。 第８図及び第１８図は第８工程図。 ｌ：第１の溝 ２：第２の溝 ３．３ａ：コア半体ブロック ４：非磁性体 ５：巻線穴 ６：巻線溝 ？、８，９：コアブロック ＩＬ：第１の溝の左縁部 ＩＲ：第１の溝の右縁部 ２Ｌ：第２の溝の左縁部 ２Ｒ：第２の溝の右縁部 Ａ：溝１．２の開口幅 Ｂ、Ｃ：平坦面の幅 Ｅ：正面 Ｆ、Ｆａ：平坦面 Ｇ：ギャップ ＧＳ：ギャップスペーサガラス ｇ：ギャップ幅 Ｈ：端面 Ｊ：切削面 Ｌ：側面 Ｍ：金属磁性体の薄膜 ｍ：ＦｆｉＭＨの厚さ Ｎ、Ｗ：溝の間隔 Ｐ：外面 Ｒ：摺動面 Ｓ：突き合せ面 Ｔニドラック幅 Ｘｌ、Ｘ２．Ｘ３．Ｘ４．Ｙｌ、Ｙ２：切断面 Ｚ：ヘッド厚 θ：アジマス角 （イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）、（ホ）。 （へ）９ （チ）、（す）、（ヌ）、（ル）第３７刀 ＩＬ ： ’ｐｔっ溝の創うε川へ
戊 ： ；へ １
つ講の第１日決ｆｉ）２Ｌ 第２ｑ：％ｑ７ｘ仝
シー’；Ｐ
２＜ ： 規勾溝の杢１に会心弘：４Ｆ視杵俸 ｈ：４Ａ随・１１際蒋眺 Ｅ ： Ｌ６ １） ８ ｉ
ＸＩ、Ｘ２． ＸＪ、Ｘ４ 二 τ；ン）Ｗｌｆｖ（
イ）、（０）、（へン、（ニ）、・＼−ノドー
Ｃ、方Ｓ蒋と二
５［〜 ２ 的 ３ａａ コ丁４４−）ａ、、、７
Ａ ： ｊ％ ／ ＊
４Ａ’１躬７３図
すものであり、第１図乃至第８図は各工程図、第９図及
び第１０図は他の実施例である。 第１１図乃至第１８図は従来例を示すものである。 第１９図及び第２０図は従来例または本実施例の各工程
を経たものの完成図であり、第１９図は正面図、第２０
図は平面図である。 第１図及び第１１図は第１工程図。 第２図及び第１２図は第２工程図。 第３図及び第１３図は第３工程図。 第４図及び第１４図は第４工程図。 第５図及び第１５図は第５工程図。 第６図及び第１６図は第６エ程図。 第７図及び第１７図は第７エ程図。 第８図及び第１８図は第８工程図。 ｌ：第１の溝 ２：第２の溝 ３．３ａ：コア半体ブロック ４：非磁性体 ５：巻線穴 ６：巻線溝 ？、８，９：コアブロック ＩＬ：第１の溝の左縁部 ＩＲ：第１の溝の右縁部 ２Ｌ：第２の溝の左縁部 ２Ｒ：第２の溝の右縁部 Ａ：溝１．２の開口幅 Ｂ、Ｃ：平坦面の幅 Ｅ：正面 Ｆ、Ｆａ：平坦面 Ｇ：ギャップ ＧＳ：ギャップスペーサガラス ｇ：ギャップ幅 Ｈ：端面 Ｊ：切削面 Ｌ：側面 Ｍ：金属磁性体の薄膜 ｍ：ＦｆｉＭＨの厚さ Ｎ、Ｗ：溝の間隔 Ｐ：外面 Ｒ：摺動面 Ｓ：突き合せ面 Ｔニドラック幅 Ｘｌ、Ｘ２．Ｘ３．Ｘ４．Ｙｌ、Ｙ２：切断面 Ｚ：ヘッド厚 θ：アジマス角 （イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）、（ホ）。 （へ）９ （チ）、（す）、（ヌ）、（ル）第３７刀 ＩＬ ： ’ｐｔっ溝の創うε川へ
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４Ａ’１躬７３図
Claims (1)
- フェライト等の磁性酸化物で直方体状のコア半体ブロッ
クを形成し、該コア半体ブロックの一面を突き合わせ面
とし、該突き合わせ面に所定の間隔てしかも平坦面が残
る程度に略平行な第１の溝を刻設し、該第１の溝にガラ
ス等の非磁性体を充填した後に前記突き合わせ面を平滑
に研磨し、該平滑な突き合わせ面に前記所定の間隔でし
かも前記第１の溝の縁部に新たな切削面が得られる程度
に略平行な第２の溝を刻設し、該第２の溝を含む突き合
わせ面全体にセンダスト等の金属磁性体の薄膜を被着し
、該薄膜の上から前記と同様の非磁性体を充填した後に
、再度前記突き合わせ面全体を所要寸法だけ平滑に研磨
し、該研磨工程の終了した１対のコア半体ブロックの各
突き合わせ面を相対峠し、前記両突き合わせ面の間にガ
ラス等でなるギャップスペーサを挟み、前記薄膜の層が
前記コアブロック半体の両方に亘って連続するような位
置に前記コアブロック半体を位置設定し、これらを加熱
融着して１個のコアブロックとし、該コアブロックを前
記切削面が含まれるような切断位置及び厚さをもって切
断することにより、前記した１対のコア半体ブロックよ
りなる１個のコアブロックから複数の磁気ヘッドを製造
する工程において、前記第２の溝の縁部が該第２の溝の
両側に隣設された第１の溝の縁部に夫々重なるようにこ
れら第１の溝と第２の溝を配列したことを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13469186A JPS62291709A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13469186A JPS62291709A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62291709A true JPS62291709A (ja) | 1987-12-18 |
Family
ID=15134329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13469186A Pending JPS62291709A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62291709A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60205808A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-17 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
-
1986
- 1986-06-10 JP JP13469186A patent/JPS62291709A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60205808A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-17 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
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