JPS62288826A - ドライフイルムフオトレジスト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の４１ｊ用分野〕 本発明は、プリント回路作製の際に使用されるドライフ
ィルムフォトレジストに関するものであり、さらに詳し
く述べると、可視光レーザーにより、中間マスクを使用
せずに回路パターンを直接描画するために用いるドライ
フィルムフォトレジストに関するものである。

〔従来技術〕

ドライフィルムフォトレジストはプリント回路作製にお
いて有用なプロセス材料として広く利用されている。こ
の使用法の概略としては、金４基板、例えば銅張積層板
に第１ｔＪをはがしたドライフィルムフォトレジストを
熱圧着し、回路バターンの中間マスクを密着して紫外光
源にて露光後、第３層をはがし所定の現像液にて未露光
部を現像除去する。基板上には露光された部分のパター
ンが残存するので、これを耐酸性レジストとして、酸性
エッチャントにより基板をエツチングすることによ〕所
望のプリント配線回路板を得ることができる（林信行、
鍜治誠：熱硬化性樹脂、６　（ｉ）１４（ｉ９８５））
。

例えば特開昭６０−３５７２５号には、４．４’−ビス
（シアル中ルアミノ）ベンゾフェノンと芳香族ケトン化
合物と有機過酸化物を含有する光重合性組成物がドライ
フィルムフォトレジストに利用できることが記載されて
いるう 〔発明が解決しようとする問題点〕 ドライフィルムフォトレジストによるプリント回路作製
は、スクリーン印刷法によシ作製され九回路パターンに
比べて高密度な配線が得られるものの、中間マスクと感
光層の間に高分子フィルム層が存在するため、ある一定
限度以上、例えば、１００Ｐ渭よシも細い配線パターン
を得ることが難しい。そのため高分子フィルム層を従来
より薄くすることによシ改善を図っている例もあるが、
これにも限界があり、さらによシ高密度プリント回路板
の要求に充分満足させ得る方法とはなってか複雑化する
ことによシ、コンビエータ−を用いた回路設計システム
、いわゆるＣＡＤｔたはＣＡＭという名称で当該業界で
知られたシステムが用いられてきているが、この出力を
一度銀塩フイルムに露光し中間マスクを作製した後、ド
ライフィルムに密着し改めて紫外線露光を行なっている
。

上記工程において中間マスク作製をせずに直接ＣＡＤの
出力をドライフィルムレジストに短時間で行なうことが
できれば、プリント回路板の製造工程を大巾に短縮する
ことができ、かつ中間マスクに用いられる高価な銀塩フ
ィルムが不要となり経済的に有利である。

以上大きく２つの問題点を解決するために用いられる最
良の方法としては、設計された回路パターンを１次元の
時系列信号とし、細く絞ったレーザービームによシト・
ライフイルムレシストにｌｔ接高速で描画するシステム
がある。レーザービームは集光性が高く、高速走査が可
能なため、従来方法に比べて格段に高密度の回路パター
ンを作製できる。また、回路パターンの一部分を修正す
る場合もこの方式を用いることによシ極めて迅速に処理
することが可能となる。ここで使用されるレーザーは例
えばアルゴンイオンレーザ−、ヘリウム−ネオンレーザ
−、ヘリウム−カドミウムレーザー、半導体レーザーな
どの可視光発振レーザーが装置上適しているが、このよ
うな可視光レーザーの高速走査露光に充分対応できる感
光層を有するドライフィルムフォトレジストは、当該業
界の強い要望にもかかわらず、従来から得られていない
。

本発明は、可視光レーザーの高速走査露光に対して充分
な感度を有し、かつ金属基板との接着性や耐エツチング
性にも優れたドライフィルムフォトレジストを得ること
を目的としている。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、柔軟性を有する３＠の積層体からなシ、その
第１＃および第３層が透明な高分子フィルムであり、第
２層が下記に示す（ｉ）〜（り成分を含有する感光層で
あることを特徴とするドライフィルムフォトレジストを
提供するものである。

（ｉ）酸価５０〜３００であシ、分子量が１００００〜
５ｏｏｏｏｏの高分子重合体、 （ＩＩ）付加を合可能なエチレン性不飽和二砿結合を分
子中に２個以上有する単量体 ０１１）一般式（夏） で表わされるアミノフェニルケトン化合物、ＧＶ）分子
内にベンゼン骨格またはベンゾフェノン骨格を有する有
機過酸化エステル化合物。

本発明に用りる（ｉ）酸価５０〜３００で、分子量１０
０００〜５ｏｏｏｏｏの高分子重合体とは、ビニル系付
加重合凰ポリマー、ポリエステル系、ポリウレタン系、
ポリアミド系等の縮合壓ポリマー等であり、例えば、（
メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、マレ
インヘン、フマル酸、マレイン酸エステル、フマル酸エ
ステル、エチレングリコール、スチレン、アクリロニト
リル、塩化ビニルなどの共重合体が好ましい。

この酸価が５０より小さいと、露光後の現像も理工程に
おいて現で衾液として用いる弱アルカリ性水溶液に対し
て溶解性が低く、酸化が３００より大きいと溶解性が高
過ぎて０、画像部が基板から流去してしまう。

本発明に用いるＯ）付加重合可能なエチレン性不飽和単
量体としては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、プロビレ／グリコールジ（メタ）ア
クリレート、１．３−ブタンジオールジ（メタ）アクリ
レート、１．４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンテルグリコールジ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、へ
／タエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート等の　　　　−−
−〜−−−ポリ エステル（メタ）アクリレートや、エポキシ（メタ）ア
クリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等がある。

本発明に用いる一般式（りで表わされるアミノフル）−
１，４−ペンタジェン−３−オン、１．５−ビス（３−
（ジエチルアミノ）フェニル）　−１，４−ペンタジェ
ン−３−オン、１．９−ビス（４−（ジエチルアミ／）
フエニル）−１，３，６，ｓ−１ナテトラエン−５−オ
ン、 工、１３−ビス〔−一（ジエチルアミノ）７エ二ル）−
１，３，５，８，１０，１２−トリデカヘキサエン−７
−オン、 １．１７−ピス（３−（ジエチルアミノ）フェニル）−
１，３，５，７，１０，１２，１４，１６−へブタデカ
オクタエン−９−オン、 １．５−ビス（４−（ジエチルアミノ）フェニル）−１
，４−ペンタジェン−３−オン、１．５−ビスＣ４−Ｃ
ジブチルアミン）フェニル）−１，４−ペンタジェン−
３−オンａｓｓる。

また本発ＢＡＶｃ爪いる（φ有機過酸エステル化合物と
しては、１０時間半減期温度が７０℃以上のものが好ま
しく、たとえばターシャリイブチルペルオキジペンゾエ
ート、ターシャリイブチルペルオキシメトキシベンゾエ
ート、ターシャリイブチルペルオキシニトロベンゾエー
ト、ターシャリイブチルベルオキシエチルベンゾエート
、フェニルイソプロピルペルオキシベンゾエート、ジタ
ーシャリイブチルジペルオキシイソフタレート、トリタ
ーシャリイブチルトリペルオキシトリメリテート、トリ
ターシャリイプチルトリベルオキシトリメシネート、テ
トラターシャリイブチルテトラペルオキシピロメリテー
ト、２．５−ジメチル−２，５−シ（ヘンシイルベルオ
キシ）ヘキサン、３１３’１４．４′−テトラ−（ター
シャリイブチルベルオキシカルボニル）ベンゾフェノン
Ｑ　３．　３’、　　４．　４’−テトラ（ターシャリ
イアミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３．
３’、４．４’−ｆトラ（ターシャリイへキシルペルオ
キシカルボニル）ベンゾフェノン等がある。

上記各成分の好ましい配合割合Ｆｉ（＋）成分１００重
量部に対して（―）成分１０〜２００重才部、（ｉ１）
おめに塞−拳寒ヨ３〜２０重（３部の可塑剤を添加して
もよい。この可塑剤としては、例えばジブチルフタレー
ト、グリセロールトリアセテート、およびトリメチロー
ルプロパントリアセテート等が使用できる。

また、ドライフィルムフォトレジストの保存安に 定性を高めるために感光層−０，０１〜５重量部の重合
禁止剤を添加してもよい。この重合禁止剤には、通常良
く用いられるとドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエ
ーテル等が使用できる。

本発明の感光層は、前記の成分を適当な希釈溶媒に混合
して高分子フィルム上に塗布した後乾燥したものである
。

とこア希釈溶媒として、例えばイソプロパツール、メチ
ルエチルケトン、トルエン、キシレン、セロソルブなど
がある。

本発明に用いる高分子フィルムとしては、例えばポリエ
チレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル
、ポリエステルなどのフィルムが層に好ましくＦｉ＝リ
エチレンフイルムを用い、第３４４　Ｋ好ましくはポリ
エチレテレアタレートフイルムを用い、第２層に厚さ５
〜２００μｍの前記の感光層を配置して３層の積層体と
するものである。

〔発明の効果〕

本発明のドライフイルムフオ／）レジストは高感度であ
り、波長４００〜７００ｍの可視光レーザーの照射によ
り極めて短時間のうちに光化学度広を起し所定の硬化膜
を与える。この硬化膜は後のエツチング工程において充
分な耐酸性を有し、また最終的に強アルカリ水溶液にて
除去可能であるというフォトレジストとして優れた性能
を有している。

〔実施例〕

以下実施例および比較例により本発明をさらに詳しく説
明する。なお例中の部および％は重量部および重量−を
示す。

実施例Ｉ ＪＩＣ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に下記組成の感光液を乾燥膜Ｊ’Ｘ３５μｍとなるよ
うにコーティングを行ない、乾燥後厚さく１）１．５−
ビス〔４−（ジメチルアミノ）７エ二ル）−１，４−ペ
ンタジェン−３−オン１部 （Ｖ）　３　ｅ　　３’　＋　　４　ａ　　４’−テト
ラ（ターシャリイブチルベルオ中ジカルボニル）ベンゾ
フェノン３部 （ｉ０時間半減期温度（以下ＨＴという）１１４℃） ０ヒドロキノン　　　　　　　０．１部Ｏイソプロパツ
ール　　　　２００部 Ｏメチルエチルケトン　　　２００部 得られたドライフィルムレジストは、ポリエチレンフィ
ルム１１をはがした後、銅張積層板Ｋ１００℃にて熱圧
着を行なった。

露光は、出力ｚｏｏｍｗのアルゴンイオンレーザ−を用
い、波長４８８ｎｍの発振線をビーム径２５＃ｆＦ！に
絞り、５．１　ｍ　／　ｓｅｅの速度で走査露光を行な
った。走査露光後、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムをはがし、３チの炭酸ナトリウム水溶液にて１分間ス
プレー現像を行なった。

このようＫして得られた硬化レリーフは極めて鮮明かつ
強靭であり、４２度ボーメの塩化第二鉄水溶液によるエ
ツチングにおいても何ら損傷が生を得た。

実施例２ 実施例１と同様な方法により下記組成の感光液を用いた
ドライフィルムフォトレジストをｆＨＩした。

Ｏアクリル系ポリマー（酸価２６０）１００部Ｏトリメ
チロールプロパントリアクリ レート　　　　　　　　　　　　　　　３０部し ０テトラエチｌングリコールジアクリ レー）２０ｇ Ｏトリターシャリイブチルトリペルオ キシトリメリテー）（ＨＴＩＩＯ℃）　４部０１．５−
ビス（４−（ジエチルアミノ）フェニル）−１，４−ペ
ンタジェン−３−オン０．８部 ０ヒドロキノン　　　　　　　　　　Ｏ，ＯＳ部０イン
グロパノール　　　　　　　　２００部Ｏメチルヱチル
ケトン　　　　　　　２００部得られたドライフイルム
フォトレジストヲ実施例１と同様な方法により銅張積層
板への熱圧着後、出力３００　ｍＷのアルゴンイオンレ
ーザ−を用い、波長４８８ｎ？Ｆｌの発振線をビーム径
２５ｐｍＫ絞り、４．２　ｍ　／　ｓｅｅの速度で高速
走査露光を行なった。走査露光後ポリエチレンテレフタ
レートフィルムをはがし、２％の炭酸ナトリウム水溶液
にて１分間スプレー現像を行なった。

実施例３ 実施例１において、有機過酸化物にジターシャリイプチ
ルジベルオキシイソフタレー）（ＨＴＩＯ７℃）を３部
、アミノフェニルケトン化合物に１．９−ビス（４−（
ジエチルアミノ）フェニルツー１．３，６．８−ノナテ
トラエン−５−オンを１部用いた他は、同様にしてドラ
イフィルムフォトレジストを作製し、銅張積層板に熱圧
着を行なった。

とこに％出力２５０ｍＷのアルゴンイオンレーザ−を用
い、波長４８８　ｎｆｆ１の発振線をビーム径２５ｐｍ
に絞り、９．５　ｍ　／　ｓｅｃの速度で高速走査露光
を行なった。走査露光後、ポリエチレンテレフタレート
フィルムをはがし、３％の炭「俊ナトリウム水溶液にて
１分間スプレー現像を行なった。

実施例４ 下記組成の感光液を用いて実施例１と同様な方法により
ドライフィルムフォトレジストを得た。

０ビニル系ポリマー（酸価２９１）　　１００＋■り Ｏテトラメチロールメネンテトラ　　　４０部アクリレ
ート ０ターシヤリイブチルペルオキシベンエート（ＨＴ１０
４℃）　　　　　　　　　３部０１．１３−ビス〔４−
（ジエチルアミノ）フェニル）−１，３，ｓ、ｓ、１０
．１２−トリテカヘキサエンー７−オン　　　１．５部
Ｏジブチルフタレート　　　　　　　　　　５部０ヒド
ロキノン　　　　　　　　　　　０．１部０インプロパ
ツール　　　　　　　　１５０部Ｏトルエン　　　　　
　　　　　　　１００部実施例１と同様な方法によ抄銅
張積層板に熱圧着を行なった後、出力１０ＱｆｆｌＷの
ヘリウム−ネオンレーザ−を用い、波長６３３ｎｍの発
振線をビーム径２５ｐｍに絞り、３．５　ｍ　／　ｓｅ
ｅの速度で高速走査露光を行なった。

走査遮光後、ポリエチレンテレフタレートフィルムをは
がし、３％の炭酸ナトリウム水溶液にて１分間スプレー
現像を行なった。

実施例５ 実施例１においてアミノフェニルケトン化合物部用いた
他は同様にしてドライフィルムフォトレジストを作製し
、鋼張積層板に熱圧着を行なった。

ここに、出力２００　ｍＷのアルゴンイオンレーザを行
なった。走査露光後、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムをはがし、２チの炭酸ナトリウム水溶液にて１分間
スプレー現像を行なった。

以上、実施例２〜５で得られた硬化レリーフは、いずれ
も極めて鮮明かつ強靭であり、４２度ボーメの塩化第二
鉄水溶液によるエツチングにおいても何ら損傷が生じな
かった。また、その後１０％比較例１．２ 実施例１において、（２））成分またはｑφ酸成分除い
た組成の感光液を用いて同様にしてドライフィルムフォ
トレジストを得た。これをアルゴンイオンレーザ−にて
走査露光したところ全く感光しなかった。

比較例３ 実施例Ｉにおいて、（２））成分および（ｉψ酸成分代
りに、４．４’ビス−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフ
ェノンＯ，Ｓ部、ベンゾフェノン１．５ｆｉ、ジーｔ　
−ブチルジペルオキシイソ７タレート１．５部を用いた
以外は実施例１と同様にしてドライフィルムフォトレジ
ストを得た。これをアルゴンイオンレーザ−にて走査露
光したところ全く感光しなかった。

比較例４．５ 市販のド〉イフイルムフォトレジストを２種類用意し、
アルゴンイオンレーザにて走査露光したところ全く感光
しなかった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 柔軟性を有する３層の積層体からなり、その第１層およ
   び第３層が透明な高分子フィルムであり、第２層が下記
   に示す（ｉ）〜（ｉｖ）成分を含有する感光層であるこ
   とを特徴とするドライフィルムフォトレジスト。 （ｉ）酸価５０〜３００であり、分子量が１００００〜
   ５０００００の高分子重合体、 （ｉｉ）付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を分
   子中に２個以上有する単量体、 （ｉｉｉ）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４は各々独立
   に水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表わし
   、ｌおよびｍは１〜４の整数を表わす。〕で表わされる
   アミノフエニルケトン化合物、（ｉｖ）分子内にベンゼ
   ン骨格またはベンゾフエノン骨格を有する有機過酸化エ
   ステル化合物。