JP2547883B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
- Publication number
- JP2547883B2 JP2547883B2 JP2091752A JP9175290A JP2547883B2 JP 2547883 B2 JP2547883 B2 JP 2547883B2 JP 2091752 A JP2091752 A JP 2091752A JP 9175290 A JP9175290 A JP 9175290A JP 2547883 B2 JP2547883 B2 JP 2547883B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- photosensitive resin
- group
- resin composition
- compound represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光性樹脂組成物に関し、更に詳しくは皮膜
形成後、紫外線露光および希アルカリ水溶液による現像
で画像形成可能な紫外線硬化性、はんだ耐熱性等にすぐ
れた一液型液状フォトソルダーレジストとして有用な感
光性樹脂組成物に関する。
形成後、紫外線露光および希アルカリ水溶液による現像
で画像形成可能な紫外線硬化性、はんだ耐熱性等にすぐ
れた一液型液状フォトソルダーレジストとして有用な感
光性樹脂組成物に関する。
電子部品をコンパクトに組み込むためにプリント配線
板を使用することが一般的に行われている。このプリン
ト配線板は、積層板に張り合わせた銅箔を回路配線に従
ってエッチングしたもので、電子部品が所定の場所に配
置されてはんだ付けが行われる。
板を使用することが一般的に行われている。このプリン
ト配線板は、積層板に張り合わせた銅箔を回路配線に従
ってエッチングしたもので、電子部品が所定の場所に配
置されてはんだ付けが行われる。
ソルダーレジストは、このようなプリント配線板に電
気部品をはんだ付けする前工程で使用されるもので、回
路導体のはんだ付けをする部分を除いた全面に皮膜形成
されるものである。このような皮膜は、はんだ付けの際
にはんだが不必要な部分に付着するのを防止する絶縁膜
として機能するとともに、回路導体が空気に直接曝され
て酸化や湿度により腐食されるのを防止する保護膜とし
ても機能するもので、なくてはならないものである。
気部品をはんだ付けする前工程で使用されるもので、回
路導体のはんだ付けをする部分を除いた全面に皮膜形成
されるものである。このような皮膜は、はんだ付けの際
にはんだが不必要な部分に付着するのを防止する絶縁膜
として機能するとともに、回路導体が空気に直接曝され
て酸化や湿度により腐食されるのを防止する保護膜とし
ても機能するもので、なくてはならないものである。
従来このようなソルダーレジストは基板上にスクリー
ン印刷し、紫外線または熱により硬化させることで形成
されてきた。しかしプリント基板は高密度化実現のた
め、微細化（ファイン化）、多量化及びワンボード化の
一途をたどっており、目ざましいテンポで高度化される
と共に、実装方式も表面実装技術（SMT）への推移して
きた。ソルダーレジストもファイン化SMTに伴い高解像
性、高精度、高信頼性の要求が高まり、民生用基板、産
業用基板を問わずスクリーン印刷法から位置精度、導体
エッジ部の被覆性に優れる液状フォトレジスト法が提案
されている。例えば特開昭50−144431号、特開昭51−40
451号公報にはエポキシアクリレート、増感剤、エポキ
シ化合物、エポキシ硬化剤などからなる紫外線硬化性ソ
ルダーレジスト組成物が開示されている。これらのソル
ダーレジストは未露光部分を有機溶剤を用いて除去し現
像していた。しかしこの有機溶剤による未露光部分の除
去（現像）は、有機用像を多量に使用するため環境汚染
や火災等の危険性もあり問題がある。特に環境汚染の問
題は人体に与える影響が最近大きくクローズアップされ
その対策に苦慮しているのが現実である。
ン印刷し、紫外線または熱により硬化させることで形成
されてきた。しかしプリント基板は高密度化実現のた
め、微細化（ファイン化）、多量化及びワンボード化の
一途をたどっており、目ざましいテンポで高度化される
と共に、実装方式も表面実装技術（SMT）への推移して
きた。ソルダーレジストもファイン化SMTに伴い高解像
性、高精度、高信頼性の要求が高まり、民生用基板、産
業用基板を問わずスクリーン印刷法から位置精度、導体
エッジ部の被覆性に優れる液状フォトレジスト法が提案
されている。例えば特開昭50−144431号、特開昭51−40
451号公報にはエポキシアクリレート、増感剤、エポキ
シ化合物、エポキシ硬化剤などからなる紫外線硬化性ソ
ルダーレジスト組成物が開示されている。これらのソル
ダーレジストは未露光部分を有機溶剤を用いて除去し現
像していた。しかしこの有機溶剤による未露光部分の除
去（現像）は、有機用像を多量に使用するため環境汚染
や火災等の危険性もあり問題がある。特に環境汚染の問
題は人体に与える影響が最近大きくクローズアップされ
その対策に苦慮しているのが現実である。
この問題を解決するため希アルカリ水溶液で現像可能
なアルカリ現像型フォトソルダーレジストが提案されて
いる。
なアルカリ現像型フォトソルダーレジストが提案されて
いる。
この種のアルカリ現像可能なフォトソルダーレジスト
材料として特開昭56−40329号及び特開昭57−45785号公
報にはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のようなエポキ
シ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩
基酸無水物を付加させた反応生成物をベースポリマーと
する材料が開示されている。また特開昭61−243869号公
報には前記ビスフェノール型エポキシ樹脂の代りにノボ
ラック型エポキシ樹脂を使用した希アルカリ水溶液で現
像可能な液状ソルダーレジスト組成物が開示されてい
る。
材料として特開昭56−40329号及び特開昭57−45785号公
報にはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のようなエポキ
シ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩
基酸無水物を付加させた反応生成物をベースポリマーと
する材料が開示されている。また特開昭61−243869号公
報には前記ビスフェノール型エポキシ樹脂の代りにノボ
ラック型エポキシ樹脂を使用した希アルカリ水溶液で現
像可能な液状ソルダーレジスト組成物が開示されてい
る。
しかしながら、これらのものは液状フォトソルダーレ
ジストに必要な基本性能である光硬化性、耐熱性、耐薬
品性（耐塩化メチレン性、耐塩酸性等）、可撓性、密着
性、電気特性等に優れると共に、乾燥後の塗膜硬度が高
く、且つ乾燥塗膜が粘着性を示さないこと等は一応満足
するものの、一液での安定性が悪いため、二液型であ
り、混合後の保管が困難であるという欠点がある。
ジストに必要な基本性能である光硬化性、耐熱性、耐薬
品性（耐塩化メチレン性、耐塩酸性等）、可撓性、密着
性、電気特性等に優れると共に、乾燥後の塗膜硬度が高
く、且つ乾燥塗膜が粘着性を示さないこと等は一応満足
するものの、一液での安定性が悪いため、二液型であ
り、混合後の保管が困難であるという欠点がある。
またベースポリマーに共重合体を使用したものでは、
特開昭63−11930号及び特開昭63−205649号公報にスチ
レンと無水マレイン酸との共重合体のハーフエステルを
用いた組成物が開示されている。しかし、いずれも組成
物中に他の成分としてビスフェノールＡ型、ノボラック
型等のエポキシ樹脂を含有することから、同様に組成物
の安定性に問題がある。また特開昭62−285903号、特開
昭63−72710号及び特開昭63−97601号公報には無水マレ
イン酸とイソブチレンのような不飽和炭化水素化合物と
の共重合体から誘導された変性無水マレイン酸共重合体
をベースポリマーに用いた組成物が開示されているが、
変性前の共重合体は汎用溶媒に溶解し難いため高価なイ
ミド系溶媒を使用しなければならず、その結果、変性後
の共重合体にも溶媒が残留することによりソルダーレジ
ストとしての特性に悪影響を及ぼすことになる。更に特
開昭63−97601号公報に記載されるベースポリマーはイ
ミド環を極めて多量に含有しているので、溶媒への溶解
性やベースポリマー自体の安定性が悪くなる等の欠点が
ある。
特開昭63−11930号及び特開昭63−205649号公報にスチ
レンと無水マレイン酸との共重合体のハーフエステルを
用いた組成物が開示されている。しかし、いずれも組成
物中に他の成分としてビスフェノールＡ型、ノボラック
型等のエポキシ樹脂を含有することから、同様に組成物
の安定性に問題がある。また特開昭62−285903号、特開
昭63−72710号及び特開昭63−97601号公報には無水マレ
イン酸とイソブチレンのような不飽和炭化水素化合物と
の共重合体から誘導された変性無水マレイン酸共重合体
をベースポリマーに用いた組成物が開示されているが、
変性前の共重合体は汎用溶媒に溶解し難いため高価なイ
ミド系溶媒を使用しなければならず、その結果、変性後
の共重合体にも溶媒が残留することによりソルダーレジ
ストとしての特性に悪影響を及ぼすことになる。更に特
開昭63−97601号公報に記載されるベースポリマーはイ
ミド環を極めて多量に含有しているので、溶媒への溶解
性やベースポリマー自体の安定性が悪くなる等の欠点が
ある。
本発明はベースポリマーとして、特定の共重合体から
得られたエポキシ基含有反応生成物を使用して安定性や
溶媒の問題を解消すると共に、液状フォトレジストの基
本特性である光硬化性、耐熱性、耐薬品性、可撓性、密
着性、塗膜硬度、電気特性等に優れた、希アルカリ水溶
液で現像可能な一液型液状フォトレジストとして有用な
感光性樹脂組成物を提供するものである。
得られたエポキシ基含有反応生成物を使用して安定性や
溶媒の問題を解消すると共に、液状フォトレジストの基
本特性である光硬化性、耐熱性、耐薬品性、可撓性、密
着性、塗膜硬度、電気特性等に優れた、希アルカリ水溶
液で現像可能な一液型液状フォトレジストとして有用な
感光性樹脂組成物を提供するものである。
前記目的は一般式〔Ｉ〕 （式中R1は水素原子又はメチル基を示す） で表わされる化合物と一般式〔II〕 （式中R2は水素原子、炭素数１〜４個のアルキル基、シ
クロヘキシル基、低級アルキル基を有するか有しないア
リール基を示す） で表わされる化合物の共重合体のカルボキシル基の一部
に一般式〔III〕 （式中R1は前記と同一意義を有し、R3は炭素数１〜12個
の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を示す） で表わされる化合物を付加させて得られるベースポリマ
ー、希釈剤及び増感剤を含む本発明の感光性樹脂組成物
によって達成できる。
クロヘキシル基、低級アルキル基を有するか有しないア
リール基を示す） で表わされる化合物の共重合体のカルボキシル基の一部
に一般式〔III〕 （式中R1は前記と同一意義を有し、R3は炭素数１〜12個
の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を示す） で表わされる化合物を付加させて得られるベースポリマ
ー、希釈剤及び増感剤を含む本発明の感光性樹脂組成物
によって達成できる。
本発明の組成に用いられるベースポリマーは一般式
〔Ｉ〕で表わされる化合物、即ちアクリル酸及び／又は
メタクリル酸と一般式〔II〕で表わされる化合物、即ち
マレイミド化合物と他の重合性化合物、例えばメチル
（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、
ブチル（メタ）アクリレート、スチレン、ベンジル（メ
タ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート等のラジカル重合可能な化合物とを常法、例えば溶
液重合法等により共重合反応させた後、更にこれに一般
式〔III〕で表わされる化合物、即ちエポキシ基含有ア
クリル酸及び／又はエポキシ基含有メタクリル酸エステ
ルを加え、更に反応させて、前記共重合体のカルボキシ
ル基の一部に一般式〔III〕で表わされる化合物を付加
させればよい。こゝで一般式〔Ｉ〕で表わされる化合
物、一般式〔II〕で表わされる化合物及び一般式〔II
I〕で表わされる化合物の使用量は夫々30〜70モル％,5
〜20モル％,10〜50モル％（但し一般式〔III〕で表わさ
れる化合物の量は一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物と一
般式〔II〕で表わされる化合物との合計量を基準とす
る）の範囲である。一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物の
量が少な過ぎると、次の一般式〔III〕で表わされる化
合物の前記共重合体への付加量が少なくなる結果、光
（紫外線）硬化性が悪くなり、一方、逆に多過ぎると、
硬化塗膜の耐湿性が悪くなる。また一般式〔II〕で表わ
されるマレイミド化合物の量が少な過ぎると、耐熱性が
劣化し、一方、多過ぎると、希アルカリ水溶液による現
像性、溶媒への溶解性、樹脂の安定性が悪くなる傾向が
ある。
〔Ｉ〕で表わされる化合物、即ちアクリル酸及び／又は
メタクリル酸と一般式〔II〕で表わされる化合物、即ち
マレイミド化合物と他の重合性化合物、例えばメチル
（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、
ブチル（メタ）アクリレート、スチレン、ベンジル（メ
タ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート等のラジカル重合可能な化合物とを常法、例えば溶
液重合法等により共重合反応させた後、更にこれに一般
式〔III〕で表わされる化合物、即ちエポキシ基含有ア
クリル酸及び／又はエポキシ基含有メタクリル酸エステ
ルを加え、更に反応させて、前記共重合体のカルボキシ
ル基の一部に一般式〔III〕で表わされる化合物を付加
させればよい。こゝで一般式〔Ｉ〕で表わされる化合
物、一般式〔II〕で表わされる化合物及び一般式〔II
I〕で表わされる化合物の使用量は夫々30〜70モル％,5
〜20モル％,10〜50モル％（但し一般式〔III〕で表わさ
れる化合物の量は一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物と一
般式〔II〕で表わされる化合物との合計量を基準とす
る）の範囲である。一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物の
量が少な過ぎると、次の一般式〔III〕で表わされる化
合物の前記共重合体への付加量が少なくなる結果、光
（紫外線）硬化性が悪くなり、一方、逆に多過ぎると、
硬化塗膜の耐湿性が悪くなる。また一般式〔II〕で表わ
されるマレイミド化合物の量が少な過ぎると、耐熱性が
劣化し、一方、多過ぎると、希アルカリ水溶液による現
像性、溶媒への溶解性、樹脂の安定性が悪くなる傾向が
ある。
一般式〔III〕で表わされる化合物は一般式〔Ｉ〕で
表わされる化合物と一般式〔II〕で表わされる化合物と
を含む共重合体に付加すると、この共重合体に光硬化性
を付与する。しかし一般式〔III〕で表わされる化合物
の量が少な過ぎると紫外線硬化性が悪くなって硬化皮膜
の物性が悪化するし、一方多過ぎると樹脂の保存安定性
が悪くなる。
表わされる化合物と一般式〔II〕で表わされる化合物と
を含む共重合体に付加すると、この共重合体に光硬化性
を付与する。しかし一般式〔III〕で表わされる化合物
の量が少な過ぎると紫外線硬化性が悪くなって硬化皮膜
の物性が悪化するし、一方多過ぎると樹脂の保存安定性
が悪くなる。
一般式〔II〕で表わされるマレイミド化合物の具体例
としてはマレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチ
ルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロ
ピルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−シク
ロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−
（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−メチル
フェニル）マレイミド等が挙げられるが、好ましくはＮ
−フェニルマレイミドである。
としてはマレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチ
ルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロ
ピルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−シク
ロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−
（２−メチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−メチル
フェニル）マレイミド等が挙げられるが、好ましくはＮ
−フェニルマレイミドである。
一般式〔III〕で表わされる化合物の具体例としては
グリシジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
グリシジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
以上のようにして得られた本発明のベースポリマー
は、重量平均分子量20,000〜70,000、軟化点35〜130
℃，酸価50〜150の範囲内のものである。
は、重量平均分子量20,000〜70,000、軟化点35〜130
℃，酸価50〜150の範囲内のものである。
なお、重量平均分子量が低過ぎると耐熱性が悪くな
り、高過ぎると希釈剤への溶解性や作業性が悪くなる恐
れがある。また、軟化点が低過ぎると本発明の組成物を
塗布し乾燥した後に粘着性が残るため、露光の際ネジフ
ィルムに組成物が付着したり、硬化皮膜表面に光沢ムラ
が生ずる恐れがあり、一方、高過ぎると紫外線硬化性が
悪くなる恐れがある。更に、酸価が低過ぎると希アルカ
リ水溶液による本皮膜の除去性が悪くなり、一方、高過
ぎると硬化皮膜の電気特性や加湿特性が悪くなる傾向が
ある。
り、高過ぎると希釈剤への溶解性や作業性が悪くなる恐
れがある。また、軟化点が低過ぎると本発明の組成物を
塗布し乾燥した後に粘着性が残るため、露光の際ネジフ
ィルムに組成物が付着したり、硬化皮膜表面に光沢ムラ
が生ずる恐れがあり、一方、高過ぎると紫外線硬化性が
悪くなる恐れがある。更に、酸価が低過ぎると希アルカ
リ水溶液による本皮膜の除去性が悪くなり、一方、高過
ぎると硬化皮膜の電気特性や加湿特性が悪くなる傾向が
ある。
本発明組成物に使用される反応性希釈剤は沸点（常圧
下）が100℃以上で、且つアクリロイル基又はメタクリ
ロイル基を少くとも２個以上有する不飽和化合物が好ま
しく、この代表物質としてはエチレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジメタクリレート、グリセリントリアクリレート、グ
リセリントリメタクリレート、プロピレンジアクリレー
ト、プロピレンジメタクリレート、1,2,4−ブタントリ
オールトリアクリレート、1,2,4−ブタントリオールト
リメタクリレート、1,4−ベンゼンジオールジアクリレ
ート、1,4−ベンゼンジメタクリレート、分子量200〜50
0のポリエチレングリコールのビスアクリレート及びビ
スメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サメタクリレート等、メラミンアクリレート、エポキシ
アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルア
クリレート等のオリゴマー、メチレンビスアクリルアミ
ド、メチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリア
ミドトリアクリルアミドビス（メタクリルアミドプロポ
キシ）エタン、ジエチレントリアミントリメタクリルア
ミドビス（メタクリルアミドプロポキシ）エタン、ビス
メタクリルアミドエチルメタクリレート−Ｎ−〔（β−
ヒドロキシエチルオキシ）エチル〕アクリルアミド、ト
リアクリルイソシアネート、トリメタクリルイソシアネ
ート等があり、これらは本発明組成物を塗布し易くする
ために、必要に応じてエチレングリコールモノアルキル
エーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエ
チレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリ
コールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレン
グリコールモノアルキルアセテート類、シクロヘキサノ
ン、テトラヒドロナフタリン、石油ナフサ等の有機溶媒
と混合、使用することができる。
下）が100℃以上で、且つアクリロイル基又はメタクリ
ロイル基を少くとも２個以上有する不飽和化合物が好ま
しく、この代表物質としてはエチレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジメタクリレート、グリセリントリアクリレート、グ
リセリントリメタクリレート、プロピレンジアクリレー
ト、プロピレンジメタクリレート、1,2,4−ブタントリ
オールトリアクリレート、1,2,4−ブタントリオールト
リメタクリレート、1,4−ベンゼンジオールジアクリレ
ート、1,4−ベンゼンジメタクリレート、分子量200〜50
0のポリエチレングリコールのビスアクリレート及びビ
スメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サメタクリレート等、メラミンアクリレート、エポキシ
アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルア
クリレート等のオリゴマー、メチレンビスアクリルアミ
ド、メチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリア
ミドトリアクリルアミドビス（メタクリルアミドプロポ
キシ）エタン、ジエチレントリアミントリメタクリルア
ミドビス（メタクリルアミドプロポキシ）エタン、ビス
メタクリルアミドエチルメタクリレート−Ｎ−〔（β−
ヒドロキシエチルオキシ）エチル〕アクリルアミド、ト
リアクリルイソシアネート、トリメタクリルイソシアネ
ート等があり、これらは本発明組成物を塗布し易くする
ために、必要に応じてエチレングリコールモノアルキル
エーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエ
チレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリ
コールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレン
グリコールモノアルキルアセテート類、シクロヘキサノ
ン、テトラヒドロナフタリン、石油ナフサ等の有機溶媒
と混合、使用することができる。
本発明組成物に使用される増感剤は特に制限はない
が、中でも２−メチル〔４−（メチルチオ）フェニル〕
−２−モルフォリノ−１−プロパン又は／及び２−ベン
ジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフ
ェニル）−ブタノン−１を主成分とし、その他の増感剤
の１種類あるいは２種類を組み合わせて使用すると、特
に優れた紫外線硬化性が得られる。前記組み合わせに用
いる増感剤としては、ｐ−フェニルベンゾフェノン、ベ
ンジルジメチルケタール、2,4−ジメチルチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンイソブチルエーテル、4,4′−ジエチルアミノベンゾ
フェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル
などがあげられる。
が、中でも２−メチル〔４−（メチルチオ）フェニル〕
−２−モルフォリノ−１−プロパン又は／及び２−ベン
ジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフ
ェニル）−ブタノン−１を主成分とし、その他の増感剤
の１種類あるいは２種類を組み合わせて使用すると、特
に優れた紫外線硬化性が得られる。前記組み合わせに用
いる増感剤としては、ｐ−フェニルベンゾフェノン、ベ
ンジルジメチルケタール、2,4−ジメチルチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンイソブチルエーテル、4,4′−ジエチルアミノベンゾ
フェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル
などがあげられる。
本発明の感光性樹脂組成物は上記の通り、ベースポリ
マー（ａ）、反応性希釈剤（ｂ）及び増感剤（ｃ）成分
からなり、その配合割合は（ａ）：（ｂ）が30:70〜70:
30重量部で、（ａ）＋（ｂ）100重量部に対して（ｃ）
の増感剤が１〜10重量部となるようにするのが好まし
く、さらに必要に応じて種々の添加剤、例えばシリカ、
タルク、アルミナ、炭酸カルシウム、クレー、アエロジ
ルなどの体質顔料、クロムフタロイエロー、シアニング
リーンなどの着色顔料、シリコーン及びフッ素系の消泡
剤、レベリング剤、酸化防止剤などを添加することがで
きる。なお、硬化皮膜の耐熱性向上の目的で熱硬化成分
としてエポキシ樹脂又はフェノール樹脂を併用してもよ
いが、この場合は得られる組成物の安定性に注意する必
要がある。
マー（ａ）、反応性希釈剤（ｂ）及び増感剤（ｃ）成分
からなり、その配合割合は（ａ）：（ｂ）が30:70〜70:
30重量部で、（ａ）＋（ｂ）100重量部に対して（ｃ）
の増感剤が１〜10重量部となるようにするのが好まし
く、さらに必要に応じて種々の添加剤、例えばシリカ、
タルク、アルミナ、炭酸カルシウム、クレー、アエロジ
ルなどの体質顔料、クロムフタロイエロー、シアニング
リーンなどの着色顔料、シリコーン及びフッ素系の消泡
剤、レベリング剤、酸化防止剤などを添加することがで
きる。なお、硬化皮膜の耐熱性向上の目的で熱硬化成分
としてエポキシ樹脂又はフェノール樹脂を併用してもよ
いが、この場合は得られる組成物の安定性に注意する必
要がある。
以上述べた本発明の感光性樹脂組成物は基板に所望の
厚さで塗布した後、60〜80℃で15〜60分間加熱して有機
溶剤を揮散させた後、像部分が透明な所望のパターンを
コンタクト（接触）の状態にして基板の塗膜上に置き、
紫外線を照射して所望のパターンを選択的に露光する。
これにより塗膜の露光領域の組成物は交互結合を生じて
不溶性となる。次に非露光領域を希アルカリ水溶液で除
去することにより塗膜が現像される。こゝで用いられる
希アルカリ水溶液としては0.5〜５重量％の炭酸ナトリ
ウム溶液が一般的であるが、勿論他のアルカリも使用可
能である。このようにして得られたパターンは後に耐熱
性を向上させるために紫外線または100〜200℃の熱また
は遠赤外線を加えて反応（二次硬化）させることが望ま
しい。
厚さで塗布した後、60〜80℃で15〜60分間加熱して有機
溶剤を揮散させた後、像部分が透明な所望のパターンを
コンタクト（接触）の状態にして基板の塗膜上に置き、
紫外線を照射して所望のパターンを選択的に露光する。
これにより塗膜の露光領域の組成物は交互結合を生じて
不溶性となる。次に非露光領域を希アルカリ水溶液で除
去することにより塗膜が現像される。こゝで用いられる
希アルカリ水溶液としては0.5〜５重量％の炭酸ナトリ
ウム溶液が一般的であるが、勿論他のアルカリも使用可
能である。このようにして得られたパターンは後に耐熱
性を向上させるために紫外線または100〜200℃の熱また
は遠赤外線を加えて反応（二次硬化）させることが望ま
しい。
以下に本発明で用いられるベースポリマーの製造例並
びに本発明の実施例を示すが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
びに本発明の実施例を示すが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
ベースポリマーの製造例 メタクリル酸、Ｎ−フェニルマレイミド、メチルメタ
クリレート及びエチルメタクリレートをそれぞれモル％
で50:15:20:15に混合し、これに溶媒としてエチルセロ
ソルブを60重量％となるように混合し、触媒としてアゾ
イソブチロニトリルの存在下に窒素ガス雰囲気中、80℃
で溶液重合を行った。その後グリシジルメタクリレート
を、得られた共重合体中の各化合物の合計量100に対し3
0モル％付加させた。得られたベースポリマーの分析結
果は重量平均分子量が31,500、軟化点が72℃，酸価が10
0であった。
クリレート及びエチルメタクリレートをそれぞれモル％
で50:15:20:15に混合し、これに溶媒としてエチルセロ
ソルブを60重量％となるように混合し、触媒としてアゾ
イソブチロニトリルの存在下に窒素ガス雰囲気中、80℃
で溶液重合を行った。その後グリシジルメタクリレート
を、得られた共重合体中の各化合物の合計量100に対し3
0モル％付加させた。得られたベースポリマーの分析結
果は重量平均分子量が31,500、軟化点が72℃，酸価が10
0であった。
実施例 製造例で製造したベースポリマー60重量部、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート25重量部、２−メチル
〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−
１−プロパン３重量部、ジエチルアミノベンゾフェノン
0.5重量部、シリカ５重量部、タルク５重量部、シアニ
ングリーン0.5重量部、KS−66〔信越化学工業（株）
製、シリコーン消泡剤〕１重量部をロールミルで混練し
て感光性樹脂組成物を得た。
ロールプロパントリアクリレート25重量部、２−メチル
〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−
１−プロパン３重量部、ジエチルアミノベンゾフェノン
0.5重量部、シリカ５重量部、タルク５重量部、シアニ
ングリーン0.5重量部、KS−66〔信越化学工業（株）
製、シリコーン消泡剤〕１重量部をロールミルで混練し
て感光性樹脂組成物を得た。
この実施例で得られた本発明の感光性樹脂組成物の効
果は下記の通りである。
果は下記の通りである。
感光性樹脂組成物を、予め面処理済パターンを形成し
た銅張積層板全面にスクリーン印刷により30μｍ厚に塗
布した。その後70℃の熱風循環式乾燥機で20分間乾燥さ
せ、これに所望のパターンのネガフィルムを密着させ、
その上から主波長365nmでの強度が25mW/cm2の紫外線を2
0秒間照射露光した後、１％炭酸ナトリウム水溶液で60
秒間現像し、次いで150℃の熱風循環式乾燥機で30分間
乾燥させた。
た銅張積層板全面にスクリーン印刷により30μｍ厚に塗
布した。その後70℃の熱風循環式乾燥機で20分間乾燥さ
せ、これに所望のパターンのネガフィルムを密着させ、
その上から主波長365nmでの強度が25mW/cm2の紫外線を2
0秒間照射露光した後、１％炭酸ナトリウム水溶液で60
秒間現像し、次いで150℃の熱風循環式乾燥機で30分間
乾燥させた。
本実施例の組成物には乾燥後の粘着性はなく、このた
めネガフルムに相応する完全に現像された精密なパター
ンが得られた。この乾燥塗膜強度は5Hで可撓性、密着
性、耐塩化メチレン性、耐塩酸性共に良好であり、また
260℃のハンダ槽に30秒浸漬するサイクルを３回繰返し
た後も塗膜に何の変化も認められず、液状ソルダーレジ
ストとしての基本特性を十分満足することが判った。
めネガフルムに相応する完全に現像された精密なパター
ンが得られた。この乾燥塗膜強度は5Hで可撓性、密着
性、耐塩化メチレン性、耐塩酸性共に良好であり、また
260℃のハンダ槽に30秒浸漬するサイクルを３回繰返し
た後も塗膜に何の変化も認められず、液状ソルダーレジ
ストとしての基本特性を十分満足することが判った。
本発明の感光性樹脂組成物はベースポリマーとして以
上のような特定のエポキシ含有感光性樹脂を含有させた
ので、光硬化性、耐熱性、耐薬品性、可撓性、密着性、
塗膜硬度、電気特性等に優れ、しかも安全性や溶媒の問
題もない一液型液状フォトソルダーレジストとして使用
できるばかりでなく、塗料、感光性接着剤、プラスチッ
クレリーフ材料、印刷板用材料等の幅広い用途に使用で
きる極めて有用な組成物である。
上のような特定のエポキシ含有感光性樹脂を含有させた
ので、光硬化性、耐熱性、耐薬品性、可撓性、密着性、
塗膜硬度、電気特性等に優れ、しかも安全性や溶媒の問
題もない一液型液状フォトソルダーレジストとして使用
できるばかりでなく、塗料、感光性接着剤、プラスチッ
クレリーフ材料、印刷板用材料等の幅広い用途に使用で
きる極めて有用な組成物である。
Claims (3)
- 【請求項１】一般式〔Ｉ〕 （式中R1は水素原子又はメチル基を示す） で表わされる化合物30〜70モル％と一般式〔II〕 （式中R2は水素原子、炭素数１〜４個のアルキル基、シ
クロヘキシル基、アリール基又は低級アルキル基置換ア
リール基を示す） で表わされる化合物５〜20モル％とを共重合成分として
含む共重合体のカルボキシル基の一部に一般式〔III〕 （式中R1は前記と同一意義を有し、R3は炭素数１〜12個
の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を示す） で表わされる化合物を共重合体の化合物全量に対し10〜
50モル％付加させて得られる平均分子量20,000〜70,00
0、軟化点35〜130℃、酸価50〜150のベースポリマー、
反応性希釈剤及び増感剤を含むことを特徴とする感光性
樹脂組成物。 - 【請求項２】反応性希釈剤が沸点100℃以上で、且つメ
タクリロイル基又はアクリロイル基を少なくとも２個有
する不飽和化合物である請求項１記載の感光性樹脂組成
物。 - 【請求項３】ベースポリマーと反応性希釈剤の割合が重
量比で30:70〜70:30であり、且つ反応生成物と反応性希
釈剤との合計量100重量部に対し増感剤を１〜10重量部
含む請求項１記載の感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2091752A JP2547883B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2091752A JP2547883B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03289655A JPH03289655A (ja) | 1991-12-19 |
| JP2547883B2 true JP2547883B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=14035272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2091752A Expired - Fee Related JP2547883B2 (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2547883B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7371783B2 (en) | 2001-09-25 | 2008-05-13 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Alkali-soluble maleimide copolymer and liquid crystal display comprising the same |
| US6645689B2 (en) | 2002-03-13 | 2003-11-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Solvent resistant polymers with improved bakeability features |
| JP4548058B2 (ja) * | 2004-09-16 | 2010-09-22 | Ｄｉｃ株式会社 | アルカリ現像型感光性樹脂組成物、レジストインキ及びプリント配線基板。 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06828B2 (ja) * | 1986-10-15 | 1994-01-05 | 宇部興産株式会社 | 光硬化性組成物 |
| JPS63314205A (ja) * | 1987-06-16 | 1988-12-22 | Ube Ind Ltd | 光硬化性組成物 |
| JPH02289857A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-29 | Mitsubishi Kasei Corp | フォトソルダーレジスト |
-
1990
- 1990-04-06 JP JP2091752A patent/JP2547883B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03289655A (ja) | 1991-12-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4081217B2 (ja) | 紫外線硬化性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク、予備乾燥被膜、基板及びプリント配線板 | |
| JP3254572B2 (ja) | 光重合性熱硬化性樹脂組成物 | |
| JP2718007B2 (ja) | アルカリ現像可能な一液型フォトソルダーレジスト組成物及びそれを用いたプリント配線板の製造方法 | |
| JP4328645B2 (ja) | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板 | |
| JPH0823695B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| KR100325670B1 (ko) | 수지조성물 | |
| JP4847670B2 (ja) | 紫外線硬化性樹脂組成物および同組成物を含むフォトソルダーレジストインク | |
| JP3672414B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH08335768A (ja) | アルカリ現像可能な一液型ソルダーレジスト組成物及びそれから得られるソルダーレジスト皮膜 | |
| JPH06138659A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2002014466A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2547884B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2547883B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2802801B2 (ja) | 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法 | |
| JPH0792603B2 (ja) | ソルダーマスク用感光性樹脂組成物 | |
| JP3673967B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板 | |
| JP4181329B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク、プリント配線板、フレキシブルプリント配線板及びドライフィルム | |
| JP2004264773A (ja) | 感光性樹脂組成物、その硬化物及びプリント配線板 | |
| JP4351463B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型アルカリ可溶性樹脂、活性エネルギー線硬化型アルカリ可溶性樹脂組成物、ソルダーレジスト用組成物、ドライフィルムおよびプリント配線板 | |
| JPH11228640A (ja) | セルロース誘導体系化合物及び感光性組成物並びにフォトレジストインク | |
| JP4316093B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| US5723261A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JP4532724B2 (ja) | 紫外線硬化性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク、予備乾燥被膜、基板、プリント配線板及びドライフィルム | |
| JP2005258460A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
| JPH0619134A (ja) | 感光性樹脂組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |