JPS62286944A - トリクロロメチル置換フエニルエ−テル類の製造法 - Google Patents
トリクロロメチル置換フエニルエ−テル類の製造法Info
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は、トリクロロメチルft!フェニルエーテル類
の製造法に関する。更に具体的に言えば、メチル置換フ
ェニルエーテル類を光塩素化することによつ℃トリクロ
ロメチル置換フェニルエーテルを製造する方法に関する
ものである。
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ェニルエーテル類を光塩素化することによつ℃トリクロ
ロメチル置換フェニルエーテルを製造する方法に関する
ものである。
産業上の利用分野
トリクーロメチル置換フェニルエーテル類ハ、それ自体
、医薬、農薬及びその中間体として利用される。また各
種カルボン酸、カルボン酸ハロゲン化物及びエステルな
どに誘導され、ポリマー原料として利用される。これら
原料から誘導されるポリマーとして、ポリエステル、ポ
リアミド、ボ1フイミドなどが挙げられるが、殊(71
7レートや全芳香族ポリアミド、全芳香族ポリイミドな
ど瓢度、耐熱性などに優れた特性を持つポリマーの原料
として利用される。
、医薬、農薬及びその中間体として利用される。また各
種カルボン酸、カルボン酸ハロゲン化物及びエステルな
どに誘導され、ポリマー原料として利用される。これら
原料から誘導されるポリマーとして、ポリエステル、ポ
リアミド、ボ1フイミドなどが挙げられるが、殊(71
7レートや全芳香族ポリアミド、全芳香族ポリイミドな
ど瓢度、耐熱性などに優れた特性を持つポリマーの原料
として利用される。
従来技術
芳香族炭化水素類の光塩素化反応によってトリクcIC
Iメチル置換芳香族を製造する方法、特にキシレンを光
塩素化するヘキサクロロキシレン類の製造方法について
は数多くの提案がなされている。通常紫外線照射下遊離
塩素を用いてメチル置換基を塩素化しようとする場合、
次の二つの副反応が起こる。一つは樹脂状物の発生であ
り、他の一つは核置換塩素化物の発生である。これらの
副反応の生起は収′4な下げるのみならず、反応液の着
色による反−乙の停止、目的製dA純度の低下等、工業
的製造を内扇ならしめるものである。樹脂状物の発生を
抑制するために光塩素化安定剤として尿素類(特開昭5
O−129525号公報)、ホスホル7ミド類(特開昭
51−8221号公報)、ラクタム(¥f開昭57−9
82254公報)、カルバミン酸エステル−導体(特開
昭58−135826号公報)等が提案され1いる。又
、核置換塩素化物の発生を抑制するために塩化鉄(特開
昭53−77022号公報)が有効であることが示され
ている。
Iメチル置換芳香族を製造する方法、特にキシレンを光
塩素化するヘキサクロロキシレン類の製造方法について
は数多くの提案がなされている。通常紫外線照射下遊離
塩素を用いてメチル置換基を塩素化しようとする場合、
次の二つの副反応が起こる。一つは樹脂状物の発生であ
り、他の一つは核置換塩素化物の発生である。これらの
副反応の生起は収′4な下げるのみならず、反応液の着
色による反−乙の停止、目的製dA純度の低下等、工業
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抑制するために光塩素化安定剤として尿素類(特開昭5
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51−8221号公報)、ラクタム(¥f開昭57−9
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昭58−135826号公報)等が提案され1いる。又
、核置換塩素化物の発生を抑制するために塩化鉄(特開
昭53−77022号公報)が有効であることが示され
ている。
発明の目的
本発明の目的は、分子内に酸素を有する芳香族化合物、
殊にジフェニルエーテル骨格を有する化合物に置換され
たメチル基を光塩素化して、対応するトリクロロメチル
化合物を得る方法を提供することにある。
殊にジフェニルエーテル骨格を有する化合物に置換され
たメチル基を光塩素化して、対応するトリクロロメチル
化合物を得る方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、上記塩素化を容易且つ選択的に行
う方法を提供すること°にある。
う方法を提供すること°にある。
本発明の更に他の目的は、トリククロメチル置換フェニ
ルエーテルの工業的製造法を提供することにある。
ルエーテルの工業的製造法を提供することにある。
本発明のj!に他の目的は、クレゾールとクロcy)ル
エン或いはジクO0ベンゼンからジメチル置換フェニル
エーテルを得、これを塩素化し1トリクロロメチル!換
7二二ルエーテルヲ得る一連の製造方法を提供すること
にある。
エン或いはジクO0ベンゼンからジメチル置換フェニル
エーテルを得、これを塩素化し1トリクロロメチル!換
7二二ルエーテルヲ得る一連の製造方法を提供すること
にある。
発明の構成
本発明者の研究によれば、前記本発明の目的は、下記一
般式(1) で表わされるメチル置換フェニルエーテル類ヲ光塩素化
せしめることを特徴とする下記一般式1但し式中n及び
各ベンゼン環における結合1で表わされるトリクーロメ
チル置換フェニルエーテル類の製造法によって達成され
ることがわかった。
般式(1) で表わされるメチル置換フェニルエーテル類ヲ光塩素化
せしめることを特徴とする下記一般式1但し式中n及び
各ベンゼン環における結合1で表わされるトリクーロメ
チル置換フェニルエーテル類の製造法によって達成され
ることがわかった。
一般に光塩素化反応は、遊離塩素は紫外線照射によって
クロロラディヵルを発生し、クロロラディカルは芳香族
核のメチル基を攻撃し、その水素原子が塩素原子に置換
されトリクoaメチル基に変換される。本発明による如
く、フェニルエーテルのような酸素を分子内に有する芳
香族化合物であってもその酸素原子が共役系に隣接する
化合物が同等支障な(威る条件下で置換メチル基が極め
て容易に且つ選択的に光塩素化されることは極めて興味
深いことである。
クロロラディヵルを発生し、クロロラディカルは芳香族
核のメチル基を攻撃し、その水素原子が塩素原子に置換
されトリクoaメチル基に変換される。本発明による如
く、フェニルエーテルのような酸素を分子内に有する芳
香族化合物であってもその酸素原子が共役系に隣接する
化合物が同等支障な(威る条件下で置換メチル基が極め
て容易に且つ選択的に光塩素化されることは極めて興味
深いことである。
本発明の方法は上記一般式(I)で表わされる、メチル
置換フェニルエーテルを液体即ち溶融状態もしくは溶液
状態で、紫外線含有光照射下に塩素ガスな導入すること
により行なわれる。溶媒を用いる場合、その溶媒は、光
塩素化反応に不活性な塩素化炭化水素が好ましく、その
例としては例えば、りoaホルム、四塩化炭素、ジクク
ロエタン、トリクcIロエタン、テトラクロクエタンな
どの塩素化パラフィン類や、クールベンゼンのような塩
素化芳香族化合物が好ましい。メチル置換フェニルエー
テルの濃度は1薫で5%以上が好ましい。
置換フェニルエーテルを液体即ち溶融状態もしくは溶液
状態で、紫外線含有光照射下に塩素ガスな導入すること
により行なわれる。溶媒を用いる場合、その溶媒は、光
塩素化反応に不活性な塩素化炭化水素が好ましく、その
例としては例えば、りoaホルム、四塩化炭素、ジクク
ロエタン、トリクcIロエタン、テトラクロクエタンな
どの塩素化パラフィン類や、クールベンゼンのような塩
素化芳香族化合物が好ましい。メチル置換フェニルエー
テルの濃度は1薫で5%以上が好ましい。
紫外線含有光は塩素を活性化する狭長の光であれば良(
、例えば、・日光、放電灯、臼熱灯などが使用でき、特
にインジウム灯、低圧水銀灯。
、例えば、・日光、放電灯、臼熱灯などが使用でき、特
にインジウム灯、低圧水銀灯。
高圧水銀灯、超高圧水銀灯などは工業的に有利である。
反応温度は50℃〜150℃の範囲の温度が好ましい。
50℃を下まわる温度では反工6速度が非常VCm<、
又塩素の溶存量が多(なるため一旦反応が始まると突沸
する場合がある。溶媒の沸点以下の温度が好ましく、1
50℃を越える温度では副反応が増加し著しい収率の低
下が見られる。
又塩素の溶存量が多(なるため一旦反応が始まると突沸
する場合がある。溶媒の沸点以下の温度が好ましく、1
50℃を越える温度では副反応が増加し著しい収率の低
下が見られる。
反応時間は10分ないし100時間、通常は1ないし8
時間程度である。反応開始と同時に原料は減少し始める
が、モノクロロ誘導体が先ず生成する。次いでジクac
sts導体、トリクロp騎導体が順次生成し消滅して、
目的とするパークロル誘導体即ちトリクロロメチルt*
7二二ルエーテル類が最後に生成する。置換された水素
が塩素と結合して発生した塩化水素の発生が止むまで反
応は進行する。
時間程度である。反応開始と同時に原料は減少し始める
が、モノクロロ誘導体が先ず生成する。次いでジクac
sts導体、トリクロp騎導体が順次生成し消滅して、
目的とするパークロル誘導体即ちトリクロロメチルt*
7二二ルエーテル類が最後に生成する。置換された水素
が塩素と結合して発生した塩化水素の発生が止むまで反
応は進行する。
副反応を抑制するために前記の光塩素化安定剤や核塩素
化防止剤を用いることは、しはしは好ましい結果をもた
らすことがある。
化防止剤を用いることは、しはしは好ましい結果をもた
らすことがある。
使用する塩素ガスはボンベに充填した液化塩素ガス及び
電解工場で発生した塩素を直接反応器に導入して使用す
ることもできるが、通常工業的に用いられている塩素ガ
スを使用することができる。塩素ガスを導入する童は、
原料に対して白鷺以上であれば良いが、当量の2倍を越
えると経済的に不利になるだけでなく、副反応が増加し
て収率の低下と目的とするトリクーロメチル置換フェニ
ルエーテル類の純度の低下をもたらすので、当量の1.
05倍ないし1.5倍の範囲が好ましい。
電解工場で発生した塩素を直接反応器に導入して使用す
ることもできるが、通常工業的に用いられている塩素ガ
スを使用することができる。塩素ガスを導入する童は、
原料に対して白鷺以上であれば良いが、当量の2倍を越
えると経済的に不利になるだけでなく、副反応が増加し
て収率の低下と目的とするトリクーロメチル置換フェニ
ルエーテル類の純度の低下をもたらすので、当量の1.
05倍ないし1.5倍の範囲が好ましい。
得られた反応終了液から常法により溶存塩素。
塩化水素などを退い出したのち、会費に応じてAi/J
、晶析して目的物を回収、n製する。或いは反応終了液
から目的物を回収、晶析することな(、七のまま次反応
工程に使用してもよい。
、晶析して目的物を回収、n製する。或いは反応終了液
から目的物を回収、晶析することな(、七のまま次反応
工程に使用してもよい。
晶析精製する場合にはヘキサン類やヘプタン類のような
パラフィン類や芳香族炭化水素EJi fg、に塩素化
芳香族炭化水素類が用いられる。
パラフィン類や芳香族炭化水素EJi fg、に塩素化
芳香族炭化水素類が用いられる。
本発・明者の研究によれば、前記一般式(f)で表わさ
れるメチル置換フェニルエーテル類は、m−クレゾール
又はp−クレゾールのアルカリ金属塩と、p−りcyロ
トルエン、p−ジクロロベンゼン又はm−ジクI:IC
Iベンゼンとを銅触媒の存在下に反応せしめることによ
って収率よく容易に得られることがわかった。
れるメチル置換フェニルエーテル類は、m−クレゾール
又はp−クレゾールのアルカリ金属塩と、p−りcyロ
トルエン、p−ジクロロベンゼン又はm−ジクI:IC
Iベンゼンとを銅触媒の存在下に反応せしめることによ
って収率よく容易に得られることがわかった。
以下このメチル置換フェニルエーテル類の製造法につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
前記クレゾールのアルカリ金属塩としては、ナトリウム
、カリウムまたはリチウムの塩を使用し得るが、とりわ
けカリウム塩であるのが好ましい。反応は一般に130
〜210″Cの範囲の温度で行なわれる。反応は例えば
下記のようにして一般的に行なわれる。
、カリウムまたはリチウムの塩を使用し得るが、とりわ
けカリウム塩であるのが好ましい。反応は一般に130
〜210″Cの範囲の温度で行なわれる。反応は例えば
下記のようにして一般的に行なわれる。
反応は、m−クレゾール又はp−クレゾール。
p−クロロトルエン、p−ジクロロベンゼン又はm−ジ
クロロベンゼン及びアルカリ金属水酸化物を後述するよ
うな所定割合で反応容器に仕込み、攪拌しつ〜昇温する
。100’CKなったら生成した水分を除去するために
、ガスを反応混合物11当つ0.01〜51/分の速さ
で反応容器中へ導入する。導入するガス中に酸素を含む
と反応は停止し、また水素ガスである場合には、脱塩素
化の如き副反応が@繁に起るので好ましくない。従って
、窒素、アルゴン、ヘリウ”ムの如き不活性ガス、殊に
窒素を導入して水分を除去するのが好ましい。
クロロベンゼン及びアルカリ金属水酸化物を後述するよ
うな所定割合で反応容器に仕込み、攪拌しつ〜昇温する
。100’CKなったら生成した水分を除去するために
、ガスを反応混合物11当つ0.01〜51/分の速さ
で反応容器中へ導入する。導入するガス中に酸素を含む
と反応は停止し、また水素ガスである場合には、脱塩素
化の如き副反応が@繁に起るので好ましくない。従って
、窒素、アルゴン、ヘリウ”ムの如き不活性ガス、殊に
窒素を導入して水分を除去するのが好ましい。
ガスの導入速度が0.0117分より少ないと水分除去
効果が小さく、一方51/分を越えると原料の塩化物の
逃散を防ぐことが困難であるばかりでな(、p−ジクc
lc7ベンゼンのように100℃以下の温度で固化する
ものの場合VCは閉基が頻発し反応操作が困難となるこ
とがあるので望ましくない。反応は引続き徐々に昇温し
、130〜160℃の温度で発生した水分を除去するた
めに、この範囲の温度を維持する。塩化物としてp−ク
ロートルエンを用いた場合には150℃マチ、p−又は
m−ジクロロベンゼンを用いた場合には160’Cまで
の温度が好ましい。これらの温度よりも高いとJ水分解
の如き副反応が起ったり、また塩化物の還流温度以上に
なるので好ましくない。
効果が小さく、一方51/分を越えると原料の塩化物の
逃散を防ぐことが困難であるばかりでな(、p−ジクc
lc7ベンゼンのように100℃以下の温度で固化する
ものの場合VCは閉基が頻発し反応操作が困難となるこ
とがあるので望ましくない。反応は引続き徐々に昇温し
、130〜160℃の温度で発生した水分を除去するた
めに、この範囲の温度を維持する。塩化物としてp−ク
ロートルエンを用いた場合には150℃マチ、p−又は
m−ジクロロベンゼンを用いた場合には160’Cまで
の温度が好ましい。これらの温度よりも高いとJ水分解
の如き副反応が起ったり、また塩化物の還流温度以上に
なるので好ましくない。
かくして前記@度で反応によって発生する埋#itの水
の多くとも75%、好ましくは4o〜60%を除去する
。発生する殆んどの水分を除去してしまうと、反応系内
が固化し、銅屓媒を添加した時に局部的に反応が暴走す
ることがある。
の多くとも75%、好ましくは4o〜60%を除去する
。発生する殆んどの水分を除去してしまうと、反応系内
が固化し、銅屓媒を添加した時に局部的に反応が暴走す
ることがある。
前記した割合で水分が除去された後、温度な12Ll〜
150″Cの範囲とし、銅figを卯える。
150″Cの範囲とし、銅figを卯える。
その後文に昇温し、m−又はp−クレゾールの沸点以下
のは度、好ましくは170〜200”Cの温度で1時間
以上、好ましくは2時間以上保持する。なお、上記昇温
中に水分の発生が終了した時点でガスの導入は停止し又
もよい。
のは度、好ましくは170〜200”Cの温度で1時間
以上、好ましくは2時間以上保持する。なお、上記昇温
中に水分の発生が終了した時点でガスの導入は停止し又
もよい。
使用される銅触媒としては、金8i銅、酸化鋼。
ハロゲン化鋼、硝酸鋼、硫酸銅、酢酸銅、炭酸銅など1
価又は2価のいずれであってもよく、また2種以上の混
合物であり℃もよい。殊に、m−又はp−クンゾール9
1213℃以上の温度において可溶性のものが好ましく
、その例としては、ハロゲン化鋼、酢!Rm、炭酸鋼が
挙げられる。
価又は2価のいずれであってもよく、また2種以上の混
合物であり℃もよい。殊に、m−又はp−クンゾール9
1213℃以上の温度において可溶性のものが好ましく
、その例としては、ハロゲン化鋼、酢!Rm、炭酸鋼が
挙げられる。
か−る銅触媒はm−又はp−クレゾールに対して重量で
0.01〜10%、好ましくは0.05〜5%の範囲使
用するのが好ましい。
0.01〜10%、好ましくは0.05〜5%の範囲使
用するのが好ましい。
反応原料の使用割合は、塩化物(p−ククロトルエン、
p−叉はm−ジクロロベンゼン)1モル当り、アルカリ
金属水酸化物は、0.95〜1.2モル、好ましくは1
.0〜1.1モルの範囲、m−又はp−クレゾールは、
1.3〜2.0モル、好ましくは1.5〜】、8モルの
範囲が通歯である。
p−叉はm−ジクロロベンゼン)1モル当り、アルカリ
金属水酸化物は、0.95〜1.2モル、好ましくは1
.0〜1.1モルの範囲、m−又はp−クレゾールは、
1.3〜2.0モル、好ましくは1.5〜】、8モルの
範囲が通歯である。
反応終了後、常法に従って目的生成物及び未反応原料を
分離する。例えばアルカリ性水浴液を投入して有機相と
水相に分けて、触媒をf別し、水相からクレゾール類を
、有機相から塩化物を目的物であるメチル置換フェニル
エーテル類を蒸留、晶析などの手段によって回収、精製
することができる。
分離する。例えばアルカリ性水浴液を投入して有機相と
水相に分けて、触媒をf別し、水相からクレゾール類を
、有機相から塩化物を目的物であるメチル置換フェニル
エーテル類を蒸留、晶析などの手段によって回収、精製
することができる。
か(シてメチル置換フェニルエーテル類を、極めて容易
に且つ高純度で得ることがでさ、次の光塩素化にそのま
〜使用することが可能となる。
に且つ高純度で得ることがでさ、次の光塩素化にそのま
〜使用することが可能となる。
以下実施例を掲げて本発明方法を詳述する。
延施例1
ディーラスタック。攪拌機、温度計、ガス導入管を備え
た11容ガラス製四ツロフラスコにメタクレゾール52
59 (4,85モル)、パラクロルトルエン400
Ji(3,16モル) 、 KOH250iSI(純度
85%で3.79モル)を入れ、5Qid/mの速さで
窒素ガスを吹き込み、攪拌し乍も昇温した。130℃付
近から徐々にデイーンスタックに水がたまり出すが、1
40℃〜145℃にまで井温し、水分を1出さす。4O
Nの水が1出した時点で、反応温度を10℃下げ、11
′i:rll銅2& (0,01モル)を投入シタ後、
余々に昇温し180℃で2時間保持して反応を終了した
。約80℃になるまで放冷してから、反応混合物を10
%NaOH水溶液500jlljK投入し、これをOF
して不溶性のものを除いた後、四塩化炭素計500dで
有機物を抽出する。残余の水層は塩酸で中和し、pH約
3になるように調節した後、これも又四塩化炭素5oo
a/で有機物を抽出する。各々の四塩化炭素溶液から溶
媒を溜去した後、原料のメタクレゾール267,2、!
T’ (2,47モル)とパラクロルトルエン105.
91 (0,84モル)を回収した後目的とする3、4
′−ンメチルジフエニルエーテル428.4.9(2,
16−fニル) ヲ112℃/ 1 fiQ テ得た。
た11容ガラス製四ツロフラスコにメタクレゾール52
59 (4,85モル)、パラクロルトルエン400
Ji(3,16モル) 、 KOH250iSI(純度
85%で3.79モル)を入れ、5Qid/mの速さで
窒素ガスを吹き込み、攪拌し乍も昇温した。130℃付
近から徐々にデイーンスタックに水がたまり出すが、1
40℃〜145℃にまで井温し、水分を1出さす。4O
Nの水が1出した時点で、反応温度を10℃下げ、11
′i:rll銅2& (0,01モル)を投入シタ後、
余々に昇温し180℃で2時間保持して反応を終了した
。約80℃になるまで放冷してから、反応混合物を10
%NaOH水溶液500jlljK投入し、これをOF
して不溶性のものを除いた後、四塩化炭素計500dで
有機物を抽出する。残余の水層は塩酸で中和し、pH約
3になるように調節した後、これも又四塩化炭素5oo
a/で有機物を抽出する。各々の四塩化炭素溶液から溶
媒を溜去した後、原料のメタクレゾール267,2、!
T’ (2,47モル)とパラクロルトルエン105.
91 (0,84モル)を回収した後目的とする3、4
′−ンメチルジフエニルエーテル428.4.9(2,
16−fニル) ヲ112℃/ 1 fiQ テ得た。
これは、メタクレゾール基準で91%、パラクールトル
エン基準で93%であった。結果を第1表に示す。
エン基準で93%であった。結果を第1表に示す。
% ラレタ3 * 4’−ジメチルジフェニルエーテル
501 (0,25モル)、四塩化炭素400m1を光
反応用750d五径フラスコに入れ、冷却器。
501 (0,25モル)、四塩化炭素400m1を光
反応用750d五径フラスコに入れ、冷却器。
攪拌機、塩素吹込管、温度計、A圧水銀灯(ウシオ電機
■製UM−102fi)及びランプ冷却器を付し、オイ
ルバスにて内@70℃に昇温し光を照射して塩素を吹き
込んだ。塩素ガスの吹込み速度は154R1/Mで、反
応時間は4時間であった。反応終了後四塩化炭素を溜去
し微褐色のアメ状の担体108&を得た。ガスクロ分析
疋よりこのものの純度は91.2%であり、3.4′−
ビス(トリクローメチル)ジフェニルエーテルの収率は
97.3%であった。尚これを205℃/ 5 vx吋
で蒸溜したものの純度は99.1%、n−へキサンから
両結晶したもののf[lWは98.8%であった。結果
を第2表に示す。
■製UM−102fi)及びランプ冷却器を付し、オイ
ルバスにて内@70℃に昇温し光を照射して塩素を吹き
込んだ。塩素ガスの吹込み速度は154R1/Mで、反
応時間は4時間であった。反応終了後四塩化炭素を溜去
し微褐色のアメ状の担体108&を得た。ガスクロ分析
疋よりこのものの純度は91.2%であり、3.4′−
ビス(トリクローメチル)ジフェニルエーテルの収率は
97.3%であった。尚これを205℃/ 5 vx吋
で蒸溜したものの純度は99.1%、n−へキサンから
両結晶したもののf[lWは98.8%であった。結果
を第2表に示す。
実施例2〜3
クレゾール類およびクロクベンゼン類を第1表の如(変
えた以外は実施例1と全< 1eiJ様に行なった。得
られた生成物を第1表に合わせ1示した。
えた以外は実施例1と全< 1eiJ様に行なった。得
られた生成物を第1表に合わせ1示した。
更に得られたメチル置換フェニルエーテル類を反応条件
を第2表の如く変えた以外は、実施例1と全< F1様
に行なった。結果を第2表に合せ℃示した。
を第2表の如く変えた以外は、実施例1と全< F1様
に行なった。結果を第2表に合せ℃示した。
第2表
手 続 補 正 書
昭和61年8月6日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
〕 [但し式中nは0又は1を示し、0のとき は結合手を表わす。またそれぞれのベン ゼン環における2つの結合手は、ベンゼ ン環において互いにオルソ位に位置する ことはない。] で表わされるメチル置換フエニルエーテル類を光塩素化
せしめることを特徴とする下記一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔II〕 [但し式中n及び各ベンゼン環における結 合手の位置の定義は前記一般式〔 I 〕と同 じである。] で表わされるトリクロロメチル置換フエニルエーテル類
の製造法。 2、該塩素化を塩素化炭化水素溶媒中で行なう第1項記
載の方法。 3、該塩素化を50℃〜150℃の範囲の温度で行なう
第1項記載の方法。 4、m−又はp−クレゾールのアルカリ金属塩とp−ク
ロロトルエン、p−ジクロロベンゼン又はm−ジクロロ
ベンゼンとを銅触媒の存在下に反応せしめて下記一般式
〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
〕 [但し式中nは0又は1を示し、0のとき は結合手を表わす。またそれぞれのベン ゼン環における2つの結合手は、ベンゼ ン環において互いにオルソ位に位置する ことはない。] で表わされるメチル置換フエニルエーテル類を得、次い
でこれを光塩素化せしめることを特徴とする下記一般式
〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔II〕 [但し式中n及び各ベンゼン環における結 合手の位置の定義は前記一般式〔 I 〕と同 じである。] で表わされるトリクロロメチル置換フエニルエーテル類
の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61127980A JPH062697B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | トリクロロメチル置換フエニルエ−テル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61127980A JPH062697B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | トリクロロメチル置換フエニルエ−テル類の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62286944A true JPS62286944A (ja) | 1987-12-12 |
JPH062697B2 JPH062697B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=14973457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61127980A Expired - Fee Related JPH062697B2 (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | トリクロロメチル置換フエニルエ−テル類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH062697B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01261342A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-18 | Daiso Co Ltd | ビス(トリクロロメチル)ジフェニルエーテルの製法 |
JPH01261343A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-18 | Daiso Co Ltd | ビス(トリクロロメチル)ジフェニルエーテルの製法 |
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JPS543023A (en) * | 1977-06-04 | 1979-01-11 | Croda Synthetic Chem Ltd | Diarylether |
JPS5533490A (en) * | 1978-08-28 | 1980-03-08 | Bayer Ag | Manufacture of 44fluoroo33phenoxyytoluene |
JPS57165335A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-12 | Hooker Chemicals Plastics Corp | Manufacture of p-phenoxybenztrichloride |
-
1986
- 1986-06-04 JP JP61127980A patent/JPH062697B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01261342A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-18 | Daiso Co Ltd | ビス(トリクロロメチル)ジフェニルエーテルの製法 |
JPH01261343A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-18 | Daiso Co Ltd | ビス(トリクロロメチル)ジフェニルエーテルの製法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH062697B2 (ja) | 1994-01-12 |
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