JPS62270790A - 電気分解用陽極 - Google Patents
電気分解用陽極Info
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- JPS62270790A JPS62270790A JP62100196A JP10019687A JPS62270790A JP S62270790 A JPS62270790 A JP S62270790A JP 62100196 A JP62100196 A JP 62100196A JP 10019687 A JP10019687 A JP 10019687A JP S62270790 A JPS62270790 A JP S62270790A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
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- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
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-
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- C25B11/03—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by shape or form perforated or foraminous
- C25B11/031—Porous electrodes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電解質と電気分解生成物に対して耐性の支持
体、その支持体に強固に結合した、チタンを含有する多
孔質の基層及び基層の孔の中に分散した電気化学的に活
性な物質からなる水性電気分解用陽極に関する。
体、その支持体に強固に結合した、チタンを含有する多
孔質の基層及び基層の孔の中に分散した電気化学的に活
性な物質からなる水性電気分解用陽極に関する。
塩素アルカリ電解と水性電解質を用いる他の電気分解に
際して、長い間、本質的に、不動態化しうる金属からな
り、その上に一種もしくは二種以上の電気化学的に活性
な物質を固着せしめた支持体もしくは基板が使用されて
きた0通常、可撓性と比較的低価格の故に、チタン酸の
支持体が用いられているが、これは電解質と電気分解生
成物に対し安定である。好ましい電気化学的に活性な物
質は、単独又は他の金属酸化物と混合した白金族全屈類
、スピネル、ペロヴスキート(Perowskite)
及び他の混合酸化物類である。特別の電気分解用には、
白金族金属酸化物類を含まない皮膜もまた公知である0
層状構造陽極の寿命は木質的に中傷ll−堂肯し!妊←
トか右1aの#9畦じt4プう江9されるが、これは、
物質の種類と電気分解の条件、金属支持体の上への吸着
、そして、水銀電池における塩素アルカリ電解の場合は
また、水銀と接触する際の安定性にも関係する。陽極の
寿命を伸ばすために、短絡(ショート)による損傷に対
して活性物質を保護し、チタン支持体への固着を改善し
、最終的にはできるだけ多量の電気化学的活性物質を供
給せんとする、多くの提案がなされてきている。これら
の提案は、共通して、しっかりと支持体に強固に結合し
そして電気化学的に活性な物質を取り込んだ多孔質の担
体もしくは基体である。多孔質の基体は多かれ少なかれ
平滑な支持体の表面よりもよりもすぐれた付着基板であ
り、これは、ショートの際に活性な物質を保護し、取り
込み能力は、広範囲に亘る基質の空孔率と厚さにわたっ
て、電気分解の要求に適応せしめることができる。
際して、長い間、本質的に、不動態化しうる金属からな
り、その上に一種もしくは二種以上の電気化学的に活性
な物質を固着せしめた支持体もしくは基板が使用されて
きた0通常、可撓性と比較的低価格の故に、チタン酸の
支持体が用いられているが、これは電解質と電気分解生
成物に対し安定である。好ましい電気化学的に活性な物
質は、単独又は他の金属酸化物と混合した白金族全屈類
、スピネル、ペロヴスキート(Perowskite)
及び他の混合酸化物類である。特別の電気分解用には、
白金族金属酸化物類を含まない皮膜もまた公知である0
層状構造陽極の寿命は木質的に中傷ll−堂肯し!妊←
トか右1aの#9畦じt4プう江9されるが、これは、
物質の種類と電気分解の条件、金属支持体の上への吸着
、そして、水銀電池における塩素アルカリ電解の場合は
また、水銀と接触する際の安定性にも関係する。陽極の
寿命を伸ばすために、短絡(ショート)による損傷に対
して活性物質を保護し、チタン支持体への固着を改善し
、最終的にはできるだけ多量の電気化学的活性物質を供
給せんとする、多くの提案がなされてきている。これら
の提案は、共通して、しっかりと支持体に強固に結合し
そして電気化学的に活性な物質を取り込んだ多孔質の担
体もしくは基体である。多孔質の基体は多かれ少なかれ
平滑な支持体の表面よりもよりもすぐれた付着基板であ
り、これは、ショートの際に活性な物質を保護し、取り
込み能力は、広範囲に亘る基質の空孔率と厚さにわたっ
て、電気分解の要求に適応せしめることができる。
基体は、DE−PS 23 00 422によれば、
種々のチタン酸化物からなるが、これは火炎もしくはプ
ラズマ噴射により100〜6000g/rn’の量で陽
極基板に塗布される。特に好ましくは、酸化物は組成T
i O2−!を有しており、ここで、0.1>x)O
である。この多孔性の基層には、白金族金属の塩を含む
溶液を浸みこませ、その溶液は溶媒蒸発させた後熱分解
される。
種々のチタン酸化物からなるが、これは火炎もしくはプ
ラズマ噴射により100〜6000g/rn’の量で陽
極基板に塗布される。特に好ましくは、酸化物は組成T
i O2−!を有しており、ここで、0.1>x)O
である。この多孔性の基層には、白金族金属の塩を含む
溶液を浸みこませ、その溶液は溶媒蒸発させた後熱分解
される。
電気化学的物質は、一般的に、不動態化しうる金属の群
からなる金属の酸化物、窒化物、燐化物、硼化物または
炭化物、特に酸化チタンと共に陽極支持体の表面に一工
程で塗布されるということも知られている(EP−O3
O058832)、他の陽極は、チタン酸化物以外に、
酸化ニオビウム又は酸化ニッケルのような他の卑金属の
酸化物を含有する基体を有する(DE−O532088
35)、火炎噴射によって積層された基体には少くとも
白金族元素の化合物が添加される。最後に、TiOxな
る組成[0,25<x<1.50(DE−OS 24
12 828)]からなる敢化チタンからなる焼結層か
らなる基体が知られている。DE−OS20 35 2
12によって公知となり支持体上で焼結された多孔質の
基体は金属チタンからなっている。
からなる金属の酸化物、窒化物、燐化物、硼化物または
炭化物、特に酸化チタンと共に陽極支持体の表面に一工
程で塗布されるということも知られている(EP−O3
O058832)、他の陽極は、チタン酸化物以外に、
酸化ニオビウム又は酸化ニッケルのような他の卑金属の
酸化物を含有する基体を有する(DE−O532088
35)、火炎噴射によって積層された基体には少くとも
白金族元素の化合物が添加される。最後に、TiOxな
る組成[0,25<x<1.50(DE−OS 24
12 828)]からなる敢化チタンからなる焼結層か
らなる基体が知られている。DE−OS20 35 2
12によって公知となり支持体上で焼結された多孔質の
基体は金属チタンからなっている。
すべての基体層は、電気分解の際に、一般的に金属チタ
ンからなる支持体と基層の基底との間の境界面で絶縁性
の酸化物を生じ、これは、作業時間と共に増大する陽極
の不動態化及び、場合により、さらに、基体層の剥離を
生じる。不動態化皮膜は、最終的には、不動態化陽極を
再活性化する前に、すべての基層を除去しなければなら
ず、これにより貴金属が失われる原因となる。不動態化
を防止するために、金属製の支持体と電気化学的活性な
物質を含む基層との間に特別な中間層を組み込むことが
提案されているが、この中間層は、原子価4及び3を有
する混合酸化物と、酸化物中に分散した白金から成って
いる(DE−O32936033)、これらの陽極は比
較的長寿命をもっているが、しかし、その技術的に費用
のかかる製造法は不利である。
ンからなる支持体と基層の基底との間の境界面で絶縁性
の酸化物を生じ、これは、作業時間と共に増大する陽極
の不動態化及び、場合により、さらに、基体層の剥離を
生じる。不動態化皮膜は、最終的には、不動態化陽極を
再活性化する前に、すべての基層を除去しなければなら
ず、これにより貴金属が失われる原因となる。不動態化
を防止するために、金属製の支持体と電気化学的活性な
物質を含む基層との間に特別な中間層を組み込むことが
提案されているが、この中間層は、原子価4及び3を有
する混合酸化物と、酸化物中に分散した白金から成って
いる(DE−O32936033)、これらの陽極は比
較的長寿命をもっているが、しかし、その技術的に費用
のかかる製造法は不利である。
電気化学的活性物質を受容するための簡単に製なり、短
絡に対して該物質を保護し、酸素発生陽極として使用す
る際に不動態化層の形成を著しく遅延させ、かつ、わず
かの費用で再活性化ができるようなものの開発が要望さ
れている。
絡に対して該物質を保護し、酸素発生陽極として使用す
る際に不動態化層の形成を著しく遅延させ、かつ、わず
かの費用で再活性化ができるようなものの開発が要望さ
れている。
本発明の対象は、電解質と電気分解生成物に対し安定な
支持体、支持体に結合した、チタンを含む多孔性の基層
及び該基層の孔中に分散した、電気化学的に活性な物質
からなる、水性電気分解用の陽極であって、多孔質のチ
タン含有基層がクロム、ニッケルの群から選ばれる金属
を包含していることを特徴とするものである。
支持体、支持体に結合した、チタンを含む多孔性の基層
及び該基層の孔中に分散した、電気化学的に活性な物質
からなる、水性電気分解用の陽極であって、多孔質のチ
タン含有基層がクロム、ニッケルの群から選ばれる金属
を包含していることを特徴とするものである。
本発明は、クロム及び/又はニッケルを包含したチタン
は、たとえ、電気化学的活性物質を含有しない場合であ
っても、水性電解条件下で電流を陽極方向に運ぶという
驚くべき知見に基づいている。その不動態化は、チタン
もしくは他の不動態化しうる金属ないしは弁金属(Ve
ntilmetallen)に比べて、著しく少なくな
る。陽極金属の分解ないし溶解は実際には観察されない
0本発明の居ないしは皮Ilσの性質は貴金属のそれに
匹敵十る。
は、たとえ、電気化学的活性物質を含有しない場合であ
っても、水性電解条件下で電流を陽極方向に運ぶという
驚くべき知見に基づいている。その不動態化は、チタン
もしくは他の不動態化しうる金属ないしは弁金属(Ve
ntilmetallen)に比べて、著しく少なくな
る。陽極金属の分解ないし溶解は実際には観察されない
0本発明の居ないしは皮Ilσの性質は貴金属のそれに
匹敵十る。
チタンに添加された被包含元素の割合は、例えば、0.
5〜40重量%であり、好ましくは、2〜20重量%、
特に2〜10重量%である。約2%以下では、添加効果
は少なく、20%以上では、酸素発生陽極の条件下で、
包含された金属の一部溶解が起こりうる。金属を包含し
た基層を製造するためには、例えば粉末状チタンとクロ
ム及び/又はニッケルの微細な粉末を混合し、該混合物
を火炎噴射によって支持体上に塗布することができる。
5〜40重量%であり、好ましくは、2〜20重量%、
特に2〜10重量%である。約2%以下では、添加効果
は少なく、20%以上では、酸素発生陽極の条件下で、
包含された金属の一部溶解が起こりうる。金属を包含し
た基層を製造するためには、例えば粉末状チタンとクロ
ム及び/又はニッケルの微細な粉末を混合し、該混合物
を火炎噴射によって支持体上に塗布することができる。
この条件下では、チタンと被包含金属から境界を有する
混晶が形成されるのみである。別の方法によれば、一時
的な結合剤を加えた粉状混合物を支持体上に噴射又は塗
布し、不活性雰囲気下で加熱することによって支持体に
強固に結合した焼結層を形成することができる。焼結に
よって、多量の混晶を形成せしめうる“が、これは室温
では熱力学的に不安定であり、それ故冷却すると分解す
る。金属を組み込んだ基層の機能は、実際上、その種々
の調製法とは無関係である。
混晶が形成されるのみである。別の方法によれば、一時
的な結合剤を加えた粉状混合物を支持体上に噴射又は塗
布し、不活性雰囲気下で加熱することによって支持体に
強固に結合した焼結層を形成することができる。焼結に
よって、多量の混晶を形成せしめうる“が、これは室温
では熱力学的に不安定であり、それ故冷却すると分解す
る。金属を組み込んだ基層の機能は、実際上、その種々
の調製法とは無関係である。
基層の厚さは好ましくは0.2〜lamである。
空孔率は、例えば、20〜60容量%であり、好ましく
は、30〜50容量%である。約40容量%の平均空孔
率を有する場合、基層は、公知の水性電解に適した電気
化学的活性物質の取り込み能を有する。活性物質を包含
せしめるには、基層にこれらの物質を含む溶液又は懸濁
液を浸み込ませる。使用する電気化学的活性物質の種類
は、周知の方法により、電気分解条件によって決定され
る。なかでも、白金族金属、白金族金属の酸化物、スピ
ネル、ペロヴスキート(Perowskite)、β−
二酸化マンガンを単独又は混合物として使用するのが適
している。
は、30〜50容量%である。約40容量%の平均空孔
率を有する場合、基層は、公知の水性電解に適した電気
化学的活性物質の取り込み能を有する。活性物質を包含
せしめるには、基層にこれらの物質を含む溶液又は懸濁
液を浸み込ませる。使用する電気化学的活性物質の種類
は、周知の方法により、電気分解条件によって決定され
る。なかでも、白金族金属、白金族金属の酸化物、スピ
ネル、ペロヴスキート(Perowskite)、β−
二酸化マンガンを単独又は混合物として使用するのが適
している。
本発明の陽極は、特に、塩素アルカリ電解及び陽極の酸
素が発生する電解に適している。陽極は長い寿命を有し
、そして、その再活性化は特に簡単である。というのは
、電気分解に際しては、明らかに、電流を通さない酸化
物が形成されないからである。陽極は、例えば上記吹き
付けによる生成の後、多孔質の基層の中に電気化学的活
性物質を包含せしめることによって再活性化される。
素が発生する電解に適している。陽極は長い寿命を有し
、そして、その再活性化は特に簡単である。というのは
、電気分解に際しては、明らかに、電流を通さない酸化
物が形成されないからである。陽極は、例えば上記吹き
付けによる生成の後、多孔質の基層の中に電気化学的活
性物質を包含せしめることによって再活性化される。
本発明を次に示す実施例によって説明する。
裏庭1ユ
チタン金属板を脱脂し、砂を吹き付け、そして、チタン
とクロム粉からなる微細な粉状混合物を層状にのせる。
とクロム粉からなる微細な粉状混合物を層状にのせる。
この混合物は、9重量%のクロムと91重量%のチタン
(最大粒径0 、1 am)を含み、チローゼ水溶液と
共に練って噴射しやすいペーストとする。スプレーガン
でもって金属板の上に0.5■の厚さの皮膜を塗布し、
室温で乾燥し、そして、アルゴン中で1200℃に加熱
することによって、金属板上に強固に付着したその空孔
率が約25容量の多孔質の基層を形成する。
(最大粒径0 、1 am)を含み、チローゼ水溶液と
共に練って噴射しやすいペーストとする。スプレーガン
でもって金属板の上に0.5■の厚さの皮膜を塗布し、
室温で乾燥し、そして、アルゴン中で1200℃に加熱
することによって、金属板上に強固に付着したその空孔
率が約25容量の多孔質の基層を形成する。
この金属板を50X100腸層の大きさの切片に切断し
、そして、基層に、次のようにして、電気化学的活性物
質を浸み込ませる。
、そして、基層に、次のようにして、電気化学的活性物
質を浸み込ませる。
a)硝酸マンガン(II)の40%水溶液を多孔質の基
層上に塗布し、そして、その陽極を乾燥した後、その塩
が分解するまで300℃に加熱する(滞留時間10分)
、5回の反復の後、陽極は約300 g/m’のβ−M
n O2を含有する。
層上に塗布し、そして、その陽極を乾燥した後、その塩
が分解するまで300℃に加熱する(滞留時間10分)
、5回の反復の後、陽極は約300 g/m’のβ−M
n O2を含有する。
b)基層に、48.17mgの1(2I rcua 。
37.27mgのTa0文5と278.2mgのエタノ
ールを含有する溶液を浸み込ませ、そしてその塩の分解
のために550℃に加熱する(滞留時間10分)、上記
の操作を4回繰り返すと、この基層は23g/rrlの
IrO2と2g/rrfのTaO2を含んでいる。
ールを含有する溶液を浸み込ませ、そしてその塩の分解
のために550℃に加熱する(滞留時間10分)、上記
の操作を4回繰り返すと、この基層は23g/rrlの
IrO2と2g/rrfのTaO2を含んでいる。
C)基層に1.93gのRuCl3.7.23gのチタ
ン酸ブチル、1.43gの塩酸と7.31gのブタノー
ルを含む溶液を浸み込ませる。陽極を乾燥して、520
℃に熱し、そして、この操作を3回繰り返した。かくし
て、陽極はその基層に分散された11.8g / m”
(7) Ru 02及び21 、3 g/m”c7)
T i 02を含んでいる。
ン酸ブチル、1.43gの塩酸と7.31gのブタノー
ルを含む溶液を浸み込ませる。陽極を乾燥して、520
℃に熱し、そして、この操作を3回繰り返した。かくし
て、陽極はその基層に分散された11.8g / m”
(7) Ru 02及び21 、3 g/m”c7)
T i 02を含んでいる。
比較の為に、基層なしのチタン板と多孔性の焼結チタン
からなる、金属を組込まない基体層に同じ量の電気化学
的活性物質を塗布し、同じ条件下で20%の硫酸中室温
で陽極の寿命を測定した。
からなる、金属を組込まない基体層に同じ量の電気化学
的活性物質を塗布し、同じ条件下で20%の硫酸中室温
で陽極の寿命を測定した。
a 2 8h 550h 17
28hb 10 1074h 2701
h 4000hc 2 113h
210h 501h医」01ヱ チタン板の上に、9重量%のニッケルと91重量%のチ
タン粉を含有する混合物を火炎噴射によって、約0.4
mg+の厚さのチタンを包含した基層を塗布すZ、粉体
の粒子の大きさは0.05mmより小さい、実施例1に
記載されたと同様にして、基層にa、 b及びCの溶
液を浸み込ませ、そして同じ量の電気化学的活性物質を
含むが、しかし基層なしかもしくは金属を組み込まない
基層を含んだ陽極と比較試験を行う。
28hb 10 1074h 2701
h 4000hc 2 113h
210h 501h医」01ヱ チタン板の上に、9重量%のニッケルと91重量%のチ
タン粉を含有する混合物を火炎噴射によって、約0.4
mg+の厚さのチタンを包含した基層を塗布すZ、粉体
の粒子の大きさは0.05mmより小さい、実施例1に
記載されたと同様にして、基層にa、 b及びCの溶
液を浸み込ませ、そして同じ量の電気化学的活性物質を
含むが、しかし基層なしかもしくは金属を組み込まない
基層を含んだ陽極と比較試験を行う。
a 2 8h 550h 9
08hb 10 1G74h 27
01h 3807hc 2 413
h 210h 358h支嵐劃] 電気化学的に活性な物質を有する皮膜をもたない種々の
陽極の不動態化速度を室温で20%硫酸中、0 、2K
A/rn’の電流密度で測定した。不動態化の指標はI
OVにおける電圧の上昇である。
08hb 10 1G74h 27
01h 3807hc 2 413
h 210h 358h支嵐劃] 電気化学的に活性な物質を有する皮膜をもたない種々の
陽極の不動態化速度を室温で20%硫酸中、0 、2K
A/rn’の電流密度で測定した。不動態化の指標はI
OVにおける電圧の上昇である。
表−J
陽 極 不
ワ指?1基層なしのチタン板
0.03金属を組み込まない基層を有するチ
タン板 0.182%のクロムを組み込んだ
基層を有するチタン板 30210%の
〃410 50%の 〃328本 2%のニッケルを組み込んだ基層を有するチタン板 5
00本クロム分解による腐食
ワ指?1基層なしのチタン板
0.03金属を組み込まない基層を有するチ
タン板 0.182%のクロムを組み込んだ
基層を有するチタン板 30210%の
〃410 50%の 〃328本 2%のニッケルを組み込んだ基層を有するチタン板 5
00本クロム分解による腐食
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、電解質及び電気分解生成物に対して耐性の支持体、
その支持体に結合したチタンを含む多孔質の基層及びこ
の基層の孔の中に分散された電気化学的に活性な物質か
らなる、水性の電気分解用陽極であって、チタンを含有
する多孔質の基層がクロム及びニッケルからなる群から
選ばれる金属を組み込んでいることを特徴とする陽極。 2、組み込まれた元素の割合が2〜20重量%である特
許請求の範囲第1項記載の陽極。 3、多孔質の基層の厚さが0.2〜1.0mmである特
許請求の範囲第1項又は第2項記載の陽極。 4、基層の空孔率が20〜60%である特許請求の範囲
第1項ないし第3項のいずれか1項に記載の陽極。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863613997 DE3613997A1 (de) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | Anode fuer elektrolytische prozesse |
DE3613997.1 | 1986-04-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62270790A true JPS62270790A (ja) | 1987-11-25 |
Family
ID=6299502
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62100196A Pending JPS62270790A (ja) | 1986-04-25 | 1987-04-24 | 電気分解用陽極 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4849085A (ja) |
EP (1) | EP0245201B1 (ja) |
JP (1) | JPS62270790A (ja) |
DE (2) | DE3613997A1 (ja) |
NO (1) | NO166496C (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009534538A (ja) * | 2006-04-26 | 2009-09-24 | テクニカル ユニヴァーシティー オブ デンマーク | 多層コーティング |
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---|---|---|---|---|
US5314601A (en) * | 1989-06-30 | 1994-05-24 | Eltech Systems Corporation | Electrodes of improved service life |
US5324407A (en) * | 1989-06-30 | 1994-06-28 | Eltech Systems Corporation | Substrate of improved plasma sprayed surface morphology and its use as an electrode in an electrolytic cell |
US5879817A (en) * | 1994-02-15 | 1999-03-09 | Eltech Systems Corporation | Reinforced concrete structure |
US5964993A (en) * | 1996-12-19 | 1999-10-12 | Implanted Biosystems Inc. | Glucose sensor |
US5914026A (en) * | 1997-01-06 | 1999-06-22 | Implanted Biosystems Inc. | Implantable sensor employing an auxiliary electrode |
US20030010649A1 (en) * | 2001-07-16 | 2003-01-16 | Waite Michael D. | Inert anode for electrochemical process |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE338440B (ja) * | 1967-08-16 | 1971-09-06 | Contimet Gmbh | |
DE1812522A1 (de) * | 1968-12-04 | 1970-06-18 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Anoden fuer die Chloralkalielektrolyse |
US3926773A (en) * | 1970-07-16 | 1975-12-16 | Conradty Fa C | Metal anode for electrochemical processes and method of making same |
DE2035212C2 (de) * | 1970-07-16 | 1987-11-12 | Conradty GmbH & Co Metallelektroden KG, 8505 Röthenbach | Metallanode für elektrolytische Prozesse |
DE2300422C3 (de) * | 1973-01-05 | 1981-10-15 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung einer Elektrode |
IT978528B (it) * | 1973-01-26 | 1974-09-20 | Oronzio De Nora Impianti | Elettrodi metallici e procedimen to per la loro attivazione |
DE2305175A1 (de) * | 1973-02-02 | 1974-08-08 | Sigri Elektrographit Gmbh | Elektrode fuer elektrochemische prozesse |
US4013525A (en) * | 1973-09-24 | 1977-03-22 | Imperial Chemical Industries Limited | Electrolytic cells |
US4138510A (en) * | 1973-09-27 | 1979-02-06 | Firma C. Conradty | Metal anode for electrochemical processing and method of making same |
DE2405010C3 (de) * | 1974-02-02 | 1982-08-05 | Sigri Elektrographit Gmbh, 8901 Meitingen | Sinter-Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zum Herstellen der Elektrode |
DD137365A5 (de) * | 1976-03-31 | 1979-08-29 | Diamond Shamrock Techn | Elektrode |
US4140615A (en) * | 1977-03-28 | 1979-02-20 | Olin Corporation | Cell and process for electrolyzing aqueous solutions using a porous anode separator |
JPS5544514A (en) * | 1978-09-22 | 1980-03-28 | Permelec Electrode Ltd | Electrode for electrolysis and production thereof |
DE3106587C2 (de) * | 1981-02-21 | 1987-01-02 | Heraeus Elektroden GmbH, 6450 Hanau | Elektrode und deren Verwendung |
JPS6017834B2 (ja) * | 1981-03-11 | 1985-05-07 | 昭和電工株式会社 | 不溶性電極をそなえた電気化学的装置 |
-
1986
- 1986-04-25 DE DE19863613997 patent/DE3613997A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-04-22 EP EP87810254A patent/EP0245201B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-04-22 US US07/041,888 patent/US4849085A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-04-22 DE DE8787810254T patent/DE3770193D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-04-24 JP JP62100196A patent/JPS62270790A/ja active Pending
- 1987-04-24 NO NO871717A patent/NO166496C/no unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009534538A (ja) * | 2006-04-26 | 2009-09-24 | テクニカル ユニヴァーシティー オブ デンマーク | 多層コーティング |
US8859116B2 (en) | 2006-04-26 | 2014-10-14 | Technical University Of Denmark | Multi-layer coating |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0245201B1 (de) | 1991-05-22 |
DE3613997A1 (de) | 1987-10-29 |
NO166496C (no) | 1991-07-31 |
DE3770193D1 (de) | 1991-06-27 |
NO871717L (no) | 1987-10-26 |
EP0245201A1 (de) | 1987-11-11 |
NO166496B (no) | 1991-04-22 |
US4849085A (en) | 1989-07-18 |
NO871717D0 (no) | 1987-04-24 |
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