JPS6226610A

JPS6226610A - 磁気ヘツドコア

Info

Publication number: JPS6226610A
Application number: JP16720885A
Authority: JP
Inventors: Takafumi Kori; 郡　孝文
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1985-07-29
Filing date: 1985-07-29
Publication date: 1987-02-04

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】「技術分野」本発明は、金属磁性材料からなる一対のハーフコアの接
合強度に優れた磁気ヘッドコアに関する。

「従来技術およびその問題点」磁気ヘッドの一種として、センダスト、パーマ　。

ロイ等の金属磁性材料を磁気コア（ハーフコア）として
用い、両者の突き合わせ面に、５ｉ０２等の酸化物セラ
ミックスからなるギャップ形成材料を介在させるタイプ
が知られている。このタイプの磁気ヘッドでは、スパッ
タ法のような比較的高い接着強度を得られる方法を用い
ても、ヘッド製造上必要とされる強度で金属と非金属を
接合することが困難であるため、従来はろう付けや、低
融点ガラスによる補強を行なっていた。しかしながら、
最近の高密度記録分野では、ギャップ長を０．１〜０．
３ｗ厘に管理することが要求されておリ、上記従来品で
は、この要求に応えることが困難であった・「発明の目的」本発明は、金属材料からなるハーフコアと、酸化物セラ
ミックスからなるギャップ形成材料との接合性の高い磁
気ヘッド構造を提案して上記従来品の問題点を解決する
ことを目的とする。

「発明の概要」本発明は、ハーフコアと、酸化物セラミックスからなる
ギャップ形成材料との接合性を高めるため、両者の間に
、両者に対する接合性に優れた中間層を介在させるとい
う着想の下に、接合性に優れた中間層を種々研究の結果
、ハーフコア自体を酸化させて形成した酸化膜が有効で
あることを見出して完成されたものである。金属磁性材
料からなるハーフコアの突き合わせ面に酸化膜を形成す
ると、この酸化膜と、この上に積層する酸化物セラミッ
クスからなるギャップ形成材料との間で酸素拡散が起こ
り、その結果、ギャップ形成材料と酸化膜、つまりハー
フコアが強固に結合される。

「発明の実施例」以下図示実施例について本発明を説明する。第１図は本
発明による磁気ヘッド構造の模式図であル、一対のハー
フコア１、■は、センダスト、パーマロイ等の金属磁性
材料からなるもので、一方のハーフコア１には、ギャッ
プ深さ規制溝２が形成されている。ハーフコア１、ｌの
突き合わせ面には、　５ｉ０２等の酸化物セラミックス
からなるギャップ形成材料層３が介在している。そして
本発明は、このギャップ形成材料層３とハーフコア１と
の間に、中間層としてそれぞれ酸化膜４ａ、４ｂを介在
させたことを特徴としている。

この酸化膜４ａ、４ｂは、ハーフコア１を酸化処理する
ことによって形成する。酸化処理は、加熱処理、プラズ
マ酸化、あるいは化学酸化のいずれによってもよい、加
熱処理の場合、例えば８００℃前後で、１０時間程度大
気中で加熱する。加熱雰囲気は、酸素含有量を抑制した
混合ガス中でもよい。

プラズマ酸化は、プラズマをハーフコアブロック１０と
２０に照射してその表面を酸化するもので、この場合は
結晶粒界にある不純物を除去するため、なるべく高パワ
ー（例えば８００〜２０００Ｍ）でＢθ分程度酸化処理
を行なうことが望ましい。

この酸化膜４ａ、４ｂの膜厚は５０〜１００人程度とす
る。そしてこの酸化１１４ａ、４ｂの上にギャップ形成
材料層３をスパッタ法等の周知の手段により積層形成し
、次にこのようにして酸化膜４ａ、４ｂおよびギャップ
形成材料層３を積層形成さ・せたハーフコア１．１とう
しを接合して第１図の磁気コアチップを完成させる。こ
のようにして接合されたハーフコア１，１とギャップ形
成材料層３は、ハーフコア１の酸化膜４ａ、４ｂと酸化
物セラミックスからなるギャップ形成材料層３との間で
酸素拡散が起こるため、酸化１１１４ａ、’　　４ｂ、
つまりハーフコア１．ｌとギャップ形成材料層３が強固
に接合され、最近の高密度記録分野に要求される０、１
〜０．３　ｇ　ｒａのギャップ長を安定して得ることが
できる。その後この磁気＝７チツプにコイル巻線を施し
、磁気テープ摺接面を研磨した後、ケース内に収納固定
して磁気ヘッドを完成する。

ハーフコア１．１は、その酸化膜４ａ、４ｂ上にＳｉＯ
□等の酸化物セラミックスを積層した後、焼鈍すると、
酸素拡散が促進されるため、より強固に接合することが
できる。

なお酸化１ｉ４ａ、４ｂは、その膜厚が最大でも１００
人程度で、ギャップ形成材料３と相互拡散するため、磁
気的にはギャップとして働く。よって酸化１１４ａ、４
ｂが磁気特性に悪影響を与えることはない。

第２図、第３図は本発明の磁気ヘッドを発展させた実施
例で、ハーフコア１．１の接合強度をさらに高めるため
、第２図の例では磁気ギャップ深さ規制溝２および補強
溝５に銀ろう６等を付着させている。またＩ８３図の例
は、磁気ギャップの幅立を切欠溝７ａ、７ｂによって規
制するタイプの磁気ヘッドに本発明を適用したものであ
る。切欠溝７ａ、７ｂには、非磁性接合材料（一般に低
融点ガラス）８が充填され、ハーフコアｌ、１の接合強
度をさらに高めている。このようにハーフコア１、■の
接合強度を他の手段と併用して高めることにより、特性
やテープタッチの面から要求される極薄のチップコアを
得ることができる。この第３図の例では、切欠溝７ａ、
７ｂの表面にも、酸化膜を形成し、ハーフコアｌ、ｔと
非磁性接合材料８との接合強度を高めることが望ましい
。

次に第３図の切欠溝７ａ、７ｂを有する磁気ヘッドコア
の製造工程の例を第４図について説明する。１Ｏ１２０
は、それぞれセンダスト、パーマロイ等の結晶化金属磁
性体からなるハーフコアブロックを示す、ハーフコアブ
ロック１０には、ハーフコアブロック２０との突き合わ
せ面ｌｌに、磁気ギャップ幅を規制する。一定間隔で形
成した切欠溝７ａと、コアブロックの長手方向に連続す
る接合強化溝１３が形成される。

これに対しハーフコアブロック２０には、ハーフコアブ
ロック１０との突き合わせ面２１に、切欠溝７ａに対向
する切欠溝７ｂと、上記接合強化溝１３と対向する接合
強化溝２３と、この接合強化溝２３と平行で切欠溝７ｂ
を横切る磁気ギャップ深さ規制溝２とが形成される。

以上の溝加工が施されたハーフ・コアブロック１０．２
０は、次に酸化処理され、その表面全体に酸化［１５，
２５が形成される。すなわちこの酸化膜１５は、切欠溝
７ａと接合強化溝１４内面に、同酸化膜２５は、切欠溝
７ｂ、接合強化溝　。

２３および磁気ギャップ深さ規制溝２内面に同時に形成
される。

以上の処理の終了したハーフコアブロック１０と２０に
は、次にそれぞれその切欠溝７ａと接合強化溝１３、・
および切欠溝７ｂ、接合強化溝２３および磁気ギャップ
深さ規制溝２の一部に、低融点ガラス等の接合ガラス材
料１７　（８）、２７（８）を溶融軟化状態で流入させ
る。すると、接合ガラス材料１７．２７は酸化膜１５．
２５と相互拡散して強固に一体化される。

次にこのハーフコアブロックｔｏ、２０を、第４図（ｄ
）に切断線Ｃ−Ｃで示すように、突き合わせ面１１．２
１表面の酸化膜１５．２５を除去する深さ迄切断除去し
、新たな突き合わせ面１８．２８を形成する。この新突
き合わせ面１Ｂ、２８は、突き合わせ面１１．２１表面
の酸化膜１５．２５、およびこの酸化１ｌｉ１５．２５
から突出している接合ガラス材料１７．２７を削り、新
たな平滑な突き合わせ面を形成するものである。

ハーフコアブロック１０．２０のこの新突き合わせ面１
８．２８には、これを研磨した後１次に本発明の特徴と
する酸化１１１４ａ、４ｂを形成する。この酸化膜４ａ
、４ｂの形成方法は前述の通りである。そしてこの酸化
膜４ａ、４ｂには、少なくともその一方に、酸化物セラ
ミックスからなるギャップ形成材料層３を積層形成する
。すると酸化膜４ａ、４ｂとギャプ形成材料層３とが酸
素拡散し、ハーフコアブロック１０．２０にギャップ形
成材料層３が強固に結合される。

以上の処理の終了したハーフコアブロック１０．２０は
、切欠溝７ａと７ｂの位置を合わせ、突き合わせ面１８
と２８を突き合わせて、加熱される。するとこの加熱に
よって、酸化物セラミックスであるギャップ形成材料層
３と酸化膜４ａ、４ｂが相互拡散して一体化され、また
接合ガラス材料１６と２６が軟化して一体化されるため
、ハーフコアブロックｌＯと２０が強固に結合される。

以上の工程を経て接合された接合ブロック３０は１次に
接合強化溝１３と接合強化溝２３の下方の不要部分を切
断線Ｄ−Ｄで示すように切断除去し、さらに接合された
切欠溝７ａと７ｂの幅方向の中央部を切断線Ｅ−Ｅで示
すように、順次切断　゛して完成される。

上記実施例では、一対のハーフコアブロック１０と２０
にそれぞれ、互いに対向する接合強化溝１３と２３を形
成しているため、両ブロックをより強固に接合すること
ができる。しかしこの接合強化溝１３と２３は、ハーフ
コアブロック１０．２０の接合強度を高めるための補助
的作用をするもので、この接合強化溝を形成しない場合
にも、本発明によって、両ブロックは強固に結合される
。

「発明の効果Ｊ以上のように本発明の磁気ヘッドコアは、金属材料から
なるハーフコアと、酸化物セラミックスからなるギャッ
プ形成材料層とを接合するため、ハーフコアの突き合わ
せ面に酸化膜を形成したものであるから、この酸化膜と
酸化物セラミックスとの酸素拡散現象により、両者を強
固に結合することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気ヘッドコアの実施例を示す一部を
拡大して示す斜視図、第２図、第３図は本発明の他の実
施例を示す同様の斜視図、第４図（ａ）ないしくｅ）は
第３図の磁気ヘッドコアを製造するための製造工程の一
例を示す模式的斜視図である。 ■・・・ハーフコア、２・・・磁気ギャップ深さ規制溝
、３・・・ギャップ形成材料層、４ａ、４ｂ・・・酸化
膜、１０．２０・・・ハーフコアブロック、１１．２１
・・・突き合わせ面、７ａ、７ｂ川切欠溝、１３．２３
・・・接合強化溝、１５．２５；・・酸化膜、１６．２
６・・・酸化膜、１７．２７・・・接合ガラス材料、１
８．２８・・・新突き合わせ面。特許出願人　　アルプス電気株式会社同代理人　　　　三　浦　邦　夫同　　　松井　茂

Claims

【特許請求の範囲】

（１）金属材料からなる一対のハーフコアの突き合わせ
面に、酸化物セラミックスからなるギャップ形成材料層
を介在させて磁気ギャップを形成する磁気ヘッドにおい
て、上記ハーフコアとギャップ形成材料層との間に、上
記ハーフコアを酸化させて形成した酸化膜を介在させた
ことを特徴とする磁気ヘッドコア。
（２）特許請求の範囲第１項において、一対のハーフコ
アの突き合わせ面には、さらに磁気ギャップ幅を規制し
、内部に非磁性接合材料が充填される、互いに対向する
切欠溝が形成されており、この切欠溝表面にも酸化膜が
形成されている磁気ヘッドコア。
（３）特許請求の範囲第１項または第２項において、ハ
ーフコアは、その酸化膜上にこのギャップ形成材料を積
層付着させて後、焼鈍されている磁気ヘッドコア。