JPS6226172B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6226172B2 JPS6226172B2 JP53074115A JP7411578A JPS6226172B2 JP S6226172 B2 JPS6226172 B2 JP S6226172B2 JP 53074115 A JP53074115 A JP 53074115A JP 7411578 A JP7411578 A JP 7411578A JP S6226172 B2 JPS6226172 B2 JP S6226172B2
- Authority
- JP
- Japan
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- sample stage
- sample
- signal
- positional
- deflection
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- Expired
Links
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 22
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 9
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 claims 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 13
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、被露光材料あるいはそれを載せる
試料台の位置決めの誤差を補正するようにした電
子ビーム露光装置に関する。
試料台の位置決めの誤差を補正するようにした電
子ビーム露光装置に関する。
電子ビーム露光装置のようにミクロン以下の高
い精度の加工精度を要求される装置に於いては、
機械的な移動制御のみによつて要求される範囲の
位置決め精度を得るのは困難である。
い精度の加工精度を要求される装置に於いては、
機械的な移動制御のみによつて要求される範囲の
位置決め精度を得るのは困難である。
そこで、一般に機械的に補正し得ない誤差分を
電子ビームの偏向系にフイードバツクすることに
より、所定の位置決め精度を得るという方式が採
用されている。これを実現する手段として第１図
に示すような回路方式が従来用いられて来た。即
ち、描画偏向信号発生用積分器１出力は、増幅器
２で適当な信号レベルに調整され、加算増幅器６
に入力されて、電子ビーム偏向手段１０へ送られ
る。一方、試料台の機械的な移動が完了した後、
計算機（或いはそれに準ずるもの）が試料台の位
置情報を測定するレーザ干渉計からなる測長系か
ら現在位置を読み取り、これと希望位置との差を
求めた後で、この差をプリセツタブル可逆カウン
タ３に設定してやる。この可逆カウンタ３に誤差
分が設定された後、試料台が位置変動を起こした
場合、測長系から得られるパルスが可逆カウンタ
に入力され、この積算結果がDA変換器４でアナ
ログ信号に変換される。この後、増幅器５で増幅
され、アナログ加算器６の加算要素となる。
電子ビームの偏向系にフイードバツクすることに
より、所定の位置決め精度を得るという方式が採
用されている。これを実現する手段として第１図
に示すような回路方式が従来用いられて来た。即
ち、描画偏向信号発生用積分器１出力は、増幅器
２で適当な信号レベルに調整され、加算増幅器６
に入力されて、電子ビーム偏向手段１０へ送られ
る。一方、試料台の機械的な移動が完了した後、
計算機（或いはそれに準ずるもの）が試料台の位
置情報を測定するレーザ干渉計からなる測長系か
ら現在位置を読み取り、これと希望位置との差を
求めた後で、この差をプリセツタブル可逆カウン
タ３に設定してやる。この可逆カウンタ３に誤差
分が設定された後、試料台が位置変動を起こした
場合、測長系から得られるパルスが可逆カウンタ
に入力され、この積算結果がDA変換器４でアナ
ログ信号に変換される。この後、増幅器５で増幅
され、アナログ加算器６の加算要素となる。
この結果描画偏向信号にはステージの動的変動
分を示す補正信号が重畳され、位置補正が実時間
で行える。
分を示す補正信号が重畳され、位置補正が実時間
で行える。
以上従来装置には次の問題点を含んでいる。こ
の問題点を第２図を参照して説明する。
の問題点を第２図を参照して説明する。
即ち描画領域ＡからＢへと順次描画する際試料
台をＸ方向に移動して行う訳であるが、その試料
台の移動を機械的に行う為に試料台が希望位置a1
に静止せず、Δｘ分だけずれたa2の位置に静止し
てしまう。そこで上記したように試料台の機械的
な移動がほぼ完了した後、試料台の現在位置a2を
測長系で測定し、その位置情報を計算機で読み取
り、これと予め設定された試料台の希望位置（基
準値）a1との差（誤差分）Δx1を可逆カウンタ３
に設定する。さらにΔx1を可逆カウンタ３に設定
後に起こる試料台の位置変動Δx3は、測定系から
のパルスの数を可逆カウンタ３でカウントして設
定する。そして先のΔx1の設定値とパルスの数で
カウントした設定値（Δx3分）とを加算して、そ
の加算結果を描画偏向信号として偏向系にフイー
ドバツクして位置補正を行う。しかしながらこの
位置補正において、Δx1を計算機で処理している
間、即ち計算機で位置情報２を読み取つた時点か
ら誤差分Δx1を計算してプリセツタブル可逆カウ
ンタ３に設定する迄の間の試料台の位置変動分Δ
x2を無視して行つている。所謂る上記従来の装置
では実際試料台の位置がa3があつてもa2であるこ
としか測定できず、その変動分Δx2の補正を行う
ことができない。従つて従来装置で補正系を正常
に動作させるためには、試料台の機械的移動が完
全に静止するまで待つ必要がある。この待ち時間
は機械的移動が発生するたびに要求されるから全
体として描画速度の低下を招くことになる。又適
当な待ち時間を設けても試料台が完全に静止する
ことはあり得ないから補正系は不完全にしか機能
しない。最後にプリセツタブル可逆カウンタ３に
誤差分Δx3を設定するとき、同時に測長系からカ
ウント入力のパルスが来る可能性が有り、この時
誤差分の設定が正しく行えない危険性がある。
台をＸ方向に移動して行う訳であるが、その試料
台の移動を機械的に行う為に試料台が希望位置a1
に静止せず、Δｘ分だけずれたa2の位置に静止し
てしまう。そこで上記したように試料台の機械的
な移動がほぼ完了した後、試料台の現在位置a2を
測長系で測定し、その位置情報を計算機で読み取
り、これと予め設定された試料台の希望位置（基
準値）a1との差（誤差分）Δx1を可逆カウンタ３
に設定する。さらにΔx1を可逆カウンタ３に設定
後に起こる試料台の位置変動Δx3は、測定系から
のパルスの数を可逆カウンタ３でカウントして設
定する。そして先のΔx1の設定値とパルスの数で
カウントした設定値（Δx3分）とを加算して、そ
の加算結果を描画偏向信号として偏向系にフイー
ドバツクして位置補正を行う。しかしながらこの
位置補正において、Δx1を計算機で処理している
間、即ち計算機で位置情報２を読み取つた時点か
ら誤差分Δx1を計算してプリセツタブル可逆カウ
ンタ３に設定する迄の間の試料台の位置変動分Δ
x2を無視して行つている。所謂る上記従来の装置
では実際試料台の位置がa3があつてもa2であるこ
としか測定できず、その変動分Δx2の補正を行う
ことができない。従つて従来装置で補正系を正常
に動作させるためには、試料台の機械的移動が完
全に静止するまで待つ必要がある。この待ち時間
は機械的移動が発生するたびに要求されるから全
体として描画速度の低下を招くことになる。又適
当な待ち時間を設けても試料台が完全に静止する
ことはあり得ないから補正系は不完全にしか機能
しない。最後にプリセツタブル可逆カウンタ３に
誤差分Δx3を設定するとき、同時に測長系からカ
ウント入力のパルスが来る可能性が有り、この時
誤差分の設定が正しく行えない危険性がある。
本発明はこのような欠点を除去した電子ビーム
露光装置を提供することを目的としている。
露光装置を提供することを目的としている。
以下本発明を第３図に示す一実施例を参照して
説明する。
説明する。
図において、１０は偏向器、１１は電子銃、１
２は被露光材料、３は試料台、１４は測長系であ
る。描画偏向信号発生用積分器１及び増幅器２を
備えていることは従来方式と変わらない。３ａは
計算機１５から設定された誤差分（第２図のΔ
x1）を記憶するレジスタである。位置補正信号
（第１の位置補正信号）を発生するレジスタ３ａ
出力はDA変換器４でアナログ信号に変換された
後増幅器５で増幅され、アナログ加算器９の加算
入力となる。この信号（第１の位置補正信号）は
計算機が測長系１４から位置情報を読み取つた時
刻での試料台１３の位置決め誤差（第２図のΔ
x1）を補正するものである。そしてこの位置情報
（第２図のa1）を計算機読み取つた時刻からの試料
台１３の位置変動分（第２図のΔx2）はもう一つ
の補正系で行う。即ち、６は可逆式カウンタであ
り、測長系１４からのパルスを受けて、そのパル
スの数で試料台１３の位置変動を記録する。この
可逆式カウンタ６は計算機１５が測長系１４から
位置情報を読み取るのと同時にイニシアライズさ
れる。このような方式により、位置情報を読み取
つた時刻から誤差分をレジスタ３ａに設定する時
刻までの期間に発生した所謂る従来方式で無視し
ていた機械的変動分（第２図でΔx2）は、可逆カ
ウンタ６に時々刻々と記録されることになる。こ
の可逆カウンタ６出力即ちパルスの数に応じて発
生する信号出力はDA変換器７でアナログ信号に
変換された後、増幅器８で適当にゲインを調節さ
れ、アナログ加算器９で加算される。そして加算
器９出力は、描画偏向信号を実時間で位置補正す
る偏向信号となつて電子ビームの偏向器１０に印
加される。尚第２図におけるΔx3の補正はΔx2の
補正後、従来と同様常時行う。
２は被露光材料、３は試料台、１４は測長系であ
る。描画偏向信号発生用積分器１及び増幅器２を
備えていることは従来方式と変わらない。３ａは
計算機１５から設定された誤差分（第２図のΔ
x1）を記憶するレジスタである。位置補正信号
（第１の位置補正信号）を発生するレジスタ３ａ
出力はDA変換器４でアナログ信号に変換された
後増幅器５で増幅され、アナログ加算器９の加算
入力となる。この信号（第１の位置補正信号）は
計算機が測長系１４から位置情報を読み取つた時
刻での試料台１３の位置決め誤差（第２図のΔ
x1）を補正するものである。そしてこの位置情報
（第２図のa1）を計算機読み取つた時刻からの試料
台１３の位置変動分（第２図のΔx2）はもう一つ
の補正系で行う。即ち、６は可逆式カウンタであ
り、測長系１４からのパルスを受けて、そのパル
スの数で試料台１３の位置変動を記録する。この
可逆式カウンタ６は計算機１５が測長系１４から
位置情報を読み取るのと同時にイニシアライズさ
れる。このような方式により、位置情報を読み取
つた時刻から誤差分をレジスタ３ａに設定する時
刻までの期間に発生した所謂る従来方式で無視し
ていた機械的変動分（第２図でΔx2）は、可逆カ
ウンタ６に時々刻々と記録されることになる。こ
の可逆カウンタ６出力即ちパルスの数に応じて発
生する信号出力はDA変換器７でアナログ信号に
変換された後、増幅器８で適当にゲインを調節さ
れ、アナログ加算器９で加算される。そして加算
器９出力は、描画偏向信号を実時間で位置補正す
る偏向信号となつて電子ビームの偏向器１０に印
加される。尚第２図におけるΔx3の補正はΔx2の
補正後、従来と同様常時行う。
上述の実施例では描画偏向信号とレジスタ３ａ
出力信号とカウンタ６出力信号とをアナログ的に
加算して同一の偏向器に印加する方式について述
べたが、これらを例えば描画偏向信号をある偏向
器に、レジスタ３ａ出力信号とカウンタ６出力信
号との加算結果をもう別の偏向器に印加するとい
うように、複数の偏向器を用いたり、或いは静電
偏向器と電磁偏向器といつた異種の偏向器を使用
するという方式でも同様な効果が得られる。
出力信号とカウンタ６出力信号とをアナログ的に
加算して同一の偏向器に印加する方式について述
べたが、これらを例えば描画偏向信号をある偏向
器に、レジスタ３ａ出力信号とカウンタ６出力信
号との加算結果をもう別の偏向器に印加するとい
うように、複数の偏向器を用いたり、或いは静電
偏向器と電磁偏向器といつた異種の偏向器を使用
するという方式でも同様な効果が得られる。
以上述べた本発明によれば位置情報を読み取み
とつてから補正系にフイードバツクする迄の経過
時間中の試料台の変動が完全に補正できるため、
試料台が移動を完了したあと完全に静止するまで
待つ必要がないばかりかカウンタ６がオーバフロ
ー若しくはアンダーフローを起こさない範囲でな
ら移動が完了する前に位置補正を実行して、次の
描画処理に移ることもでき、描画の精度とスルー
プツト向上に大いに寄与することができる。
とつてから補正系にフイードバツクする迄の経過
時間中の試料台の変動が完全に補正できるため、
試料台が移動を完了したあと完全に静止するまで
待つ必要がないばかりかカウンタ６がオーバフロ
ー若しくはアンダーフローを起こさない範囲でな
ら移動が完了する前に位置補正を実行して、次の
描画処理に移ることもでき、描画の精度とスルー
プツト向上に大いに寄与することができる。
また第１図に示した従来装置でΔx1とΔx2を同
時に補正しようとした場合、DA変換器４として
ビツト数が大きく且つ応答速度の高いものを必要
とするが、一般にDA変換器はビツト数が多くな
れば応答速度が遅くなつてしまうので、上述した
如くそのDA変換器で情膜処理している期間中に
発生する試料台の変動を結果的無視したことにな
る。しかるに上記した本願発明のように補正系
を、Δx1を補正するためのDA変換器４と、その
DA変換器で情報処理している期間中に発生する
試料台の変動を情膜処理するためのDA変換器７
（ビツト数の少ない高速のもの）とに分割して、
DA変換器４で情報処理している期間時々刻々と
可逆カウンタ６でカウントしDA変換器７で情報
処理すれば、DA変換器４で情報処理している期
間中に発生する試料台の変動Δx2を確実に測定で
き、その分を確実に補正可能となる。
時に補正しようとした場合、DA変換器４として
ビツト数が大きく且つ応答速度の高いものを必要
とするが、一般にDA変換器はビツト数が多くな
れば応答速度が遅くなつてしまうので、上述した
如くそのDA変換器で情膜処理している期間中に
発生する試料台の変動を結果的無視したことにな
る。しかるに上記した本願発明のように補正系
を、Δx1を補正するためのDA変換器４と、その
DA変換器で情報処理している期間中に発生する
試料台の変動を情膜処理するためのDA変換器７
（ビツト数の少ない高速のもの）とに分割して、
DA変換器４で情報処理している期間時々刻々と
可逆カウンタ６でカウントしDA変換器７で情報
処理すれば、DA変換器４で情報処理している期
間中に発生する試料台の変動Δx2を確実に測定で
き、その分を確実に補正可能となる。
第１図は従来の電子ビーム露光装置の偏向制御
系の一例を示すブロツク図、第２図は第１図の装
置の問題点を説明するための図、第３図は本発明
の一実施例における偏向制御系を示すブロツク図
である。 １……描画偏向用積分器、２……増幅器、３ａ
……レジスタ、４……DA変換器、５……増幅
器、３，６……可逆カウンタ、７……DA変換
器、８……増幅器、９……加算増幅器。
系の一例を示すブロツク図、第２図は第１図の装
置の問題点を説明するための図、第３図は本発明
の一実施例における偏向制御系を示すブロツク図
である。 １……描画偏向用積分器、２……増幅器、３ａ
……レジスタ、４……DA変換器、５……増幅
器、３，６……可逆カウンタ、７……DA変換
器、８……増幅器、９……加算増幅器。
Claims (1)
- １ 試料台に被露光材料を一体的に設け、その試
料台を移動する手段と、前記被露光材料に照射さ
れる電子ビームを偏向する偏向手段と、前記試料
台の移動位置を測長する測長系と、前記被露光材
料上に電子ビームを走査させる偏向信号を発生さ
せる描画偏向信号発生手段と、前記測長系で測定
した前記試料台の第１の移動位置を読み取り、そ
の読み取つた試料台の位置情報値と予め設定され
た試料台の移動位置との差を求め、試料台の第１
の位置変動分を求める計算機と、該計算機で求め
た第１の位置変動分値を記憶し、その第１の移動
変動分値に応じた信号を、第１の位置補正信号と
して発生させる第１の位置補正発生手段と、前記
計算機で試料台の第１の移動位置を読み取つた時
点から前記第１の位置補正発生手段で第１の位置
変動分を記憶する時点迄の間に変動した前記試料
台の第２の位置変動分を、前記試料台の第１の移
動位置時点から発生する測長系のパルス数で読み
取り、その読み取つたパルス数に応じて第２の位
置補正信号として発生する第２の位置補正発生手
段と、前記偏向信号に前記第１の位置補正信号及
び第２の位置補正信号を加算して前記偏向手段に
供給する手段とを備えたことを特徴とする電子ビ
ーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7411578A JPS553603A (en) | 1978-06-21 | 1978-06-21 | Electron beam exposure device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7411578A JPS553603A (en) | 1978-06-21 | 1978-06-21 | Electron beam exposure device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS553603A JPS553603A (en) | 1980-01-11 |
| JPS6226172B2 true JPS6226172B2 (ja) | 1987-06-08 |
Family
ID=13537872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7411578A Granted JPS553603A (en) | 1978-06-21 | 1978-06-21 | Electron beam exposure device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS553603A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50145865A (ja) * | 1974-04-18 | 1975-11-22 | ||
| JPS51118968A (en) * | 1975-04-11 | 1976-10-19 | Toshiba Corp | Electron beam exposure device |
| JPS52139381A (en) * | 1976-05-18 | 1977-11-21 | Toshiba Corp | Electron beam exposure apparatus |
-
1978
- 1978-06-21 JP JP7411578A patent/JPS553603A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50145865A (ja) * | 1974-04-18 | 1975-11-22 | ||
| JPS51118968A (en) * | 1975-04-11 | 1976-10-19 | Toshiba Corp | Electron beam exposure device |
| JPS52139381A (en) * | 1976-05-18 | 1977-11-21 | Toshiba Corp | Electron beam exposure apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS553603A (en) | 1980-01-11 |
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