JPS62260808A - オルト位に置換基を有するフエニルアセチレン重合体 - Google Patents
オルト位に置換基を有するフエニルアセチレン重合体Info
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- JPS62260808A JPS62260808A JP10365686A JP10365686A JPS62260808A JP S62260808 A JPS62260808 A JP S62260808A JP 10365686 A JP10365686 A JP 10365686A JP 10365686 A JP10365686 A JP 10365686A JP S62260808 A JPS62260808 A JP S62260808A
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、従来存在しなかった重合体に係り、更に詳し
くは、オルト位に置換基を有するフェニルアセチレン類
を単量体とする新規な重量平均分子量1万以上の高重合
度の重合体(単独重合体及び/又は共重合体)に関する
ものである。
くは、オルト位に置換基を有するフェニルアセチレン類
を単量体とする新規な重量平均分子量1万以上の高重合
度の重合体(単独重合体及び/又は共重合体)に関する
ものである。
(従来の技術)
本発明者らはさきに、六・・ロゲン化タングステンや五
ノ・ロゲン化モリブデンを主体とする触媒を用いて1−
アルキルアセチレン類の重合を行った。アルキル基がか
さ高いほど高分子量のポリマーが得られ、t−ブチル基
のようなかさ高い置換基をもつ化合物から得られるポリ
マーは、膜形成能を有し、酸素富化膜として有望である
ことが分かった。
ノ・ロゲン化モリブデンを主体とする触媒を用いて1−
アルキルアセチレン類の重合を行った。アルキル基がか
さ高いほど高分子量のポリマーが得られ、t−ブチル基
のようなかさ高い置換基をもつ化合物から得られるポリ
マーは、膜形成能を有し、酸素富化膜として有望である
ことが分かった。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、1−フェニルアセチレンやl−ナフチル
アセチレンは、重合はするが、さほどの高分子量体は得
られず、膜形成能を有するものは得られていない、とい
う間頂点がちった5゜本発明は、1−フェニルアセチレ
ンのフェニル基のオルト位に置換式を導入することてよ
り、上記の従来の問題点を解決しうる新規なオルト置換
フェニルアセチレン類の高重合度の重合体の提供を目的
とする。
アセチレンは、重合はするが、さほどの高分子量体は得
られず、膜形成能を有するものは得られていない、とい
う間頂点がちった5゜本発明は、1−フェニルアセチレ
ンのフェニル基のオルト位に置換式を導入することてよ
り、上記の従来の問題点を解決しうる新規なオルト置換
フェニルアセチレン類の高重合度の重合体の提供を目的
とする。
(問題点を解決するだめの手段)
本発明者らは、かかる目的を達成すべく鋭意研究を進め
た結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、一般
式CI)及びCI)(式中R1は炭素数1〜8のアルキ
ル基を示し、Xは水素原子又は炭素数1〜8のアルキル
基を示し、lはθ〜4の整数を示し、R2は水素原子又
は塩素原子を示しR3はアルキル基、アリール基又はト
リアルキルシリル基を示し、またmは2以上の整数を示
し、nはO又は自然数を示す。)からなる構造式で表わ
される重量平均分子量1万以上のオルト位に置換基を有
するフェニルアセチレン重合体を要旨とするものである
。
た結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、一般
式CI)及びCI)(式中R1は炭素数1〜8のアルキ
ル基を示し、Xは水素原子又は炭素数1〜8のアルキル
基を示し、lはθ〜4の整数を示し、R2は水素原子又
は塩素原子を示しR3はアルキル基、アリール基又はト
リアルキルシリル基を示し、またmは2以上の整数を示
し、nはO又は自然数を示す。)からなる構造式で表わ
される重量平均分子量1万以上のオルト位に置換基を有
するフェニルアセチレン重合体を要旨とするものである
。
本発明における主成分に用いられる原料モノマーである
オルト位に置換基を有するフェニルアセチレン類は、下
記一般式CI) (式中R1は炭素数1〜8のアルキル基を示し、該アル
キル基の水素原子の1個以上かへテロ基で置換されてい
てもよく、Xは水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基
を示し、eはO〜4の整数を示す。)で表わされる化合
物である。そしてこれらの化合物の具体例としては、オ
ルトメチルフェニルアセチレン、オルトエチルフェニル
アセチレン、オル) −t −ブチルフェニルアセチレ
ン、オルト−n−オクチルフェニルアセチレン、メシチ
ルアセチレン、2,4.6−1−リメチルフェニルアセ
チレン、2,3,4.5−テトラメチルフェニルアセチ
レン、2,3,5.6−テトラメチルフェニルアセチレ
ン等を挙げることができる。
オルト位に置換基を有するフェニルアセチレン類は、下
記一般式CI) (式中R1は炭素数1〜8のアルキル基を示し、該アル
キル基の水素原子の1個以上かへテロ基で置換されてい
てもよく、Xは水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基
を示し、eはO〜4の整数を示す。)で表わされる化合
物である。そしてこれらの化合物の具体例としては、オ
ルトメチルフェニルアセチレン、オルトエチルフェニル
アセチレン、オル) −t −ブチルフェニルアセチレ
ン、オルト−n−オクチルフェニルアセチレン、メシチ
ルアセチレン、2,4.6−1−リメチルフェニルアセ
チレン、2,3,4.5−テトラメチルフェニルアセチ
レン、2,3,5.6−テトラメチルフェニルアセチレ
ン等を挙げることができる。
共重合体の場合、他の成分に用いられるモノマーとして
は、一般式CIV) R2−C三C−R3・・・・・・・・・ CIV)で表
わされる化合物が用いられる。ここにR2は水素原子、
アルキル基又は塩素原ギを示し、R3はアルキル基、ア
リール基又はトリアルキルシリル基を示す。このアルキ
ル 数が1〜12のアルキル基であり、直鎖状であっても分
岐状であってもよく、さらにヘテロ基で置換されていて
もよい。アリール基はgTh で表わされ、Yはアル
キル基、アリール基、アラルキル基、アルコキ・ン基、
アラルキル基、ニトロ基、アミン基などの置換基を示し
、kはO〜5の整数を示す。又、トリアルキルシリル基
はSiR′R″R′/lで表わされ、R′、R“、R″
′ は同一でも異なっていてもよく、いずれもアルキ
ル基を示す。かかる具体的な化合物としては、t−ブチ
ルアセチレン、フェニルアセチレン、1−クロロ−2−
フェニルアセチレン、2−オクチン、2−デ゛ンン,ト
リメチルシリルアセチレン、トリメチルシリルプロピン
等が挙げられる。
は、一般式CIV) R2−C三C−R3・・・・・・・・・ CIV)で表
わされる化合物が用いられる。ここにR2は水素原子、
アルキル基又は塩素原ギを示し、R3はアルキル基、ア
リール基又はトリアルキルシリル基を示す。このアルキ
ル 数が1〜12のアルキル基であり、直鎖状であっても分
岐状であってもよく、さらにヘテロ基で置換されていて
もよい。アリール基はgTh で表わされ、Yはアル
キル基、アリール基、アラルキル基、アルコキ・ン基、
アラルキル基、ニトロ基、アミン基などの置換基を示し
、kはO〜5の整数を示す。又、トリアルキルシリル基
はSiR′R″R′/lで表わされ、R′、R“、R″
′ は同一でも異なっていてもよく、いずれもアルキ
ル基を示す。かかる具体的な化合物としては、t−ブチ
ルアセチレン、フェニルアセチレン、1−クロロ−2−
フェニルアセチレン、2−オクチン、2−デ゛ンン,ト
リメチルシリルアセチレン、トリメチルシリルプロピン
等が挙げられる。
本発明のオルト位に置換基を有するフェニルアセチレン
の重合体を製造する方法としては、例えば次の方法が挙
げられる。
の重合体を製造する方法としては、例えば次の方法が挙
げられる。
重合開始剤としては、遷移金属のMo, W, Nb。
Ta等を使用できるが、とくにMo,W化合物の使用が
望ましく、かかる方法としては次の三つが挙げられる。
望ましく、かかる方法としては次の三つが挙げられる。
(イ) M o C J s + Mo B r s
、 W C 71a 等のハロゲン化モリブデ/,ハロ
ゲン化タングステンを使用する方法。
、 W C 71a 等のハロゲン化モリブデ/,ハロ
ゲン化タングステンを使用する方法。
(口)ハロゲン化モリブデン、ハロゲン化タングステン
を主触媒とし還元剤を第二成分とする開始剤を使用する
方法。この場合、主成分の・・ロゲン化モリブデンとし
てはMoCJ,、が好ましく、ハロゲン化タングステン
としてはWCl2が好ましい。第二成分の還元剤には有
機金属化合物が用いられ、アルミニウム、ホウ素,ケイ
素,スズ、アンチモン、ビスマス、リチウム等を含むも
のが挙げられる。
を主触媒とし還元剤を第二成分とする開始剤を使用する
方法。この場合、主成分の・・ロゲン化モリブデンとし
てはMoCJ,、が好ましく、ハロゲン化タングステン
としてはWCl2が好ましい。第二成分の還元剤には有
機金属化合物が用いられ、アルミニウム、ホウ素,ケイ
素,スズ、アンチモン、ビスマス、リチウム等を含むも
のが挙げられる。
(ハ) %開昭57−36106号公報記載の方法で用
いた開始剤、すなわち、Mo (Co)6− CCl4
−hν、w(co)6−ccg4−hνを用いる方法。
いた開始剤、すなわち、Mo (Co)6− CCl4
−hν、w(co)6−ccg4−hνを用いる方法。
上記(イ)及び(ロ)の方法における重合主触媒の使用
量は、通常、モノマーに対して0.1〜5モル係が適当
である。また、上記(ロ)の方法における還元剤の使用
量は、還元剤対主触媒のモル比で0、3〜3の範囲が好
ましい。
量は、通常、モノマーに対して0.1〜5モル係が適当
である。また、上記(ロ)の方法における還元剤の使用
量は、還元剤対主触媒のモル比で0、3〜3の範囲が好
ましい。
これらの方法の重合反応は溶媒中で行うのがよく、かか
る溶媒としてはトルエンなどの芳香族炭化水素、シクロ
ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、四塩化炭素、二塩化エ
チレン等のハロゲン化炭化水素、アニソール、ジブチル
エーテル、ジオキサン等のエーテル、アセト/、アセト
フェノンなどのケト/、酢酸エチルなどのエステルなど
が挙げられる。
る溶媒としてはトルエンなどの芳香族炭化水素、シクロ
ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、四塩化炭素、二塩化エ
チレン等のハロゲン化炭化水素、アニソール、ジブチル
エーテル、ジオキサン等のエーテル、アセト/、アセト
フェノンなどのケト/、酢酸エチルなどのエステルなど
が挙げられる。
重合反応温度は一30〜+100℃の範囲が好ましく、
特に0〜70°Cが好ましい。
特に0〜70°Cが好ましい。
重合時間は0.5〜24時間が好ましい。また、重合は
乾燥窒素雰囲気下で行うのがよい。
乾燥窒素雰囲気下で行うのがよい。
共重合を行う場合、主成分に用いられるオルト置換フェ
ニルアセチレン類と他の成分に用いられる置換アセチレ
ン類との比は、どのような比率であってもよい。
ニルアセチレン類と他の成分に用いられる置換アセチレ
ン類との比は、どのような比率であってもよい。
かくして製造される本発明の新規な重合体は、重量平均
分子量(光散乱法による)1万以上の高重合度の重合体
である。しかも、これらの生成重合体は、側鎖として置
換基が存在するため、ポリアセチレンとは異なり、空気
に対し安定であり、かさ高い置換基の存在により耐熱材
料として期待できる。また、ハロゲン化炭化水素、エー
テル、ケトン等の有機溶媒に可溶性であって、多くは優
れた膜形成能を有する。更には、共役二重結合の存在に
より、半導体材料、レジスト材料等にも利用可能である
。
分子量(光散乱法による)1万以上の高重合度の重合体
である。しかも、これらの生成重合体は、側鎖として置
換基が存在するため、ポリアセチレンとは異なり、空気
に対し安定であり、かさ高い置換基の存在により耐熱材
料として期待できる。また、ハロゲン化炭化水素、エー
テル、ケトン等の有機溶媒に可溶性であって、多くは優
れた膜形成能を有する。更には、共役二重結合の存在に
より、半導体材料、レジスト材料等にも利用可能である
。
(実施例)
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、下記の実施例において、分子量は重量平均分子量
(Mw )であり、光散乱法により求めたものである。
(Mw )であり、光散乱法により求めたものである。
又、「慢」は、とくに断らない限り、「重量係」である
。
。
実施例1
充分に精製したトルエン1!中に、乾燥窒素雰囲気下、
よく攪拌しなから五塩化モリブデン20ミリモルとテト
ラ−n−ブチルスズ20ミリモルを加え30°Cで溶解
した。この溶液に1、0モルのオルトメチルフェニルア
セチレンを添加し、30℃で重合を進行させた。24時
間後、反応混合物を大量のメタノール中に投入して生成
重合体を沈殿させ、炉別、乾燥した。重合体の収率は9
0係であり、その分子量は20万であった。
よく攪拌しなから五塩化モリブデン20ミリモルとテト
ラ−n−ブチルスズ20ミリモルを加え30°Cで溶解
した。この溶液に1、0モルのオルトメチルフェニルア
セチレンを添加し、30℃で重合を進行させた。24時
間後、反応混合物を大量のメタノール中に投入して生成
重合体を沈殿させ、炉別、乾燥した。重合体の収率は9
0係であり、その分子量は20万であった。
得られた重合体は、赤褐色粉末であり、ジクロルエタン
等の・・ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル、アセトフェノン等のケトンなどの有機溶媒に可
溶であった。
等の・・ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル、アセトフェノン等のケトンなどの有機溶媒に可
溶であった。
生成重合体のスペクトルデーターを添付図面の第1図(
IR)及び第2図(13CNMR)に示す。
IR)及び第2図(13CNMR)に示す。
実施例2
実施例1の五塩化モリブデンとテトラ−n −ブチルス
ズの代わりに六塩化タングステンを用いた以外は、実施
例1と同様に行ったところ、収率は86係で分子量41
万の赤褐色粉末の重合体が得られた。
ズの代わりに六塩化タングステンを用いた以外は、実施
例1と同様に行ったところ、収率は86係で分子量41
万の赤褐色粉末の重合体が得られた。
実施例3
開始剤としてタングステンカルボニルを用い、溶媒に四
塩化炭素を用いて、光を照射しながら24時間重合反応
を行ったところ、収率は100チで分子量107万の赤
褐色粉末が得られた。
塩化炭素を用いて、光を照射しながら24時間重合反応
を行ったところ、収率は100チで分子量107万の赤
褐色粉末が得られた。
実施例4
モノマーとしてオルトメチルフェニルアセチレン0.7
モルとフェニルアセチレン0.3モルを用いた以外は、
実施例1と同様にして重合を行ったところ、重合体の収
率は80%であり、その分子量は15万であった。
モルとフェニルアセチレン0.3モルを用いた以外は、
実施例1と同様にして重合を行ったところ、重合体の収
率は80%であり、その分子量は15万であった。
実施例5
実施例1の重合温度を0℃にした以外は、実施例1と同
様にして重合を行ったところ、収率100係で分子量2
6万の赤褐色ポリマーが得られた。
様にして重合を行ったところ、収率100係で分子量2
6万の赤褐色ポリマーが得られた。
実施例6
実施例1でトルエン溶媒の代わりに1.4−ジオキサン
を用いた以外は、実施例1と同様にして重合を行ったと
ころ、収率100%で分子量23万のポリマーが得られ
た。
を用いた以外は、実施例1と同様にして重合を行ったと
ころ、収率100%で分子量23万のポリマーが得られ
た。
(発明の効果)
以上の結果から明らかなように、本発明のオルト位に置
換基を有するフェニルアセチレン重合体は、重量平均分
子量が1万以上、その多くは10万以上の高重合度を示
す全く新規な高重合体であるばかりでなく、従来のポリ
アセチレンとは異なり空気に対し安定であり、ジクロル
エタンのようなハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、アニソール等のエーテル、アセトフェ
ノンのようなケトン等に可溶で、かつその多くは優れた
膜形成能を有する、などという工業的価値ある顕著な効
果を奏ゝるものである。したがって、分離漢、吸着材、
レジスト材、半導体材料、記憶材料等への応用が可能で
ある。
換基を有するフェニルアセチレン重合体は、重量平均分
子量が1万以上、その多くは10万以上の高重合度を示
す全く新規な高重合体であるばかりでなく、従来のポリ
アセチレンとは異なり空気に対し安定であり、ジクロル
エタンのようなハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、アニソール等のエーテル、アセトフェ
ノンのようなケトン等に可溶で、かつその多くは優れた
膜形成能を有する、などという工業的価値ある顕著な効
果を奏ゝるものである。したがって、分離漢、吸着材、
レジスト材、半導体材料、記憶材料等への応用が可能で
ある。
第1図及び第2図は実施例1で得られた本発明の重合体
の一例のIR及び13CNIVIRスペクトルを示す図
である。
の一例のIR及び13CNIVIRスペクトルを示す図
である。
Claims (1)
- (1)一般式〔 I 〕及び〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕▲数
式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 (式中、R^1は炭素数1〜8のアルキル基を示し、X
は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示し、lは
0〜4の整数を示し、R^2は水素原子又は塩素原子を
示し、R^3はアルキル基、アリール基又はトリアルキ
ルシリル基を示し、またmは2以上の整数を示し、nは
0又は自然数を示す。)からなる構造式で表わされる重
量平均分子量1万以上のオルト位に置換基を有するフェ
ニルアセチレン重合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10365686A JPH0617414B2 (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | オルト位に置換基を有するフエニルアセチレン重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10365686A JPH0617414B2 (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | オルト位に置換基を有するフエニルアセチレン重合体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62260808A true JPS62260808A (ja) | 1987-11-13 |
JPH0617414B2 JPH0617414B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=14359822
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10365686A Expired - Lifetime JPH0617414B2 (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | オルト位に置換基を有するフエニルアセチレン重合体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0617414B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1000434C2 (nl) * | 1994-05-24 | 1995-11-24 | Bend Research | Acetyleencopolymeren en membranen daarvan. |
JP2005319389A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Hokkaido Univ | 分子吸着材、その製造方法及びガス貯蔵装置 |
JP2008127438A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Canon Inc | 置換ポリアセチレン膜の製造方法 |
WO2009028728A1 (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | ブロックポリマーおよびデバイス |
JP2011195390A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Kuraray Co Ltd | 水素吸着材、吸蔵材および水素吸蔵方法 |
-
1986
- 1986-05-06 JP JP10365686A patent/JPH0617414B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1000434C2 (nl) * | 1994-05-24 | 1995-11-24 | Bend Research | Acetyleencopolymeren en membranen daarvan. |
JP2005319389A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Hokkaido Univ | 分子吸着材、その製造方法及びガス貯蔵装置 |
JP2008127438A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Canon Inc | 置換ポリアセチレン膜の製造方法 |
WO2009028728A1 (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | ブロックポリマーおよびデバイス |
US7786235B2 (en) | 2007-08-31 | 2010-08-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Block polymer and device |
US8349978B2 (en) | 2007-08-31 | 2013-01-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Block polymer and device |
JP2011195390A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Kuraray Co Ltd | 水素吸着材、吸蔵材および水素吸蔵方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0617414B2 (ja) | 1994-03-09 |
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