JPS58206611A - トリアルキルシリルアセチレン類の重合方法 - Google Patents
トリアルキルシリルアセチレン類の重合方法Info
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- JPS58206611A JPS58206611A JP8891582A JP8891582A JPS58206611A JP S58206611 A JPS58206611 A JP S58206611A JP 8891582 A JP8891582 A JP 8891582A JP 8891582 A JP8891582 A JP 8891582A JP S58206611 A JPS58206611 A JP S58206611A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- polymerization
- component
- trialkylsilylacetylene
- catalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はトリアルキルシリルアセチレン類の重合方法に
関するものであって、本発明の目的ハ、トリアルキルシ
リルアセチレン類の電合体を高い収率で製造する方法を
提供することにある。
関するものであって、本発明の目的ハ、トリアルキルシ
リルアセチレン類の電合体を高い収率で製造する方法を
提供することにある。
しかして、この目的は、本発明に従い、一般式
(式中、R゛、ilmおよびR″はアルキル基を示す)
で表わされるトリアルキルシリルアセチレンを、(イ)
六塩化タングステンと、 (ロ) テトラアルキル錫又は有機ケイ素化合物とを組
合せてなる触媒の存在下で重合させることによって達成
される。
で表わされるトリアルキルシリルアセチレンを、(イ)
六塩化タングステンと、 (ロ) テトラアルキル錫又は有機ケイ素化合物とを組
合せてなる触媒の存在下で重合させることによって達成
される。
以下、本発明の詳細な説明する。
るトリアルキルシリルアセチレン類において、式中R1
,R1およびRsは、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基等のアルキル基であり、このアルキル基は更
に置換基を有していてもよい。そのIf置換基してはア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子などが挙げられる。
,R1およびRsは、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基等のアルキル基であり、このアルキル基は更
に置換基を有していてもよい。そのIf置換基してはア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子などが挙げられる。
本発明方法における重合触媒は;六塩化タングステン(
”Iol@ ) を主触媒とし、これに第二成分とし
て、テトラアルキル錫又は有機ケイ素化合物とを組合せ
たものである。
”Iol@ ) を主触媒とし、これに第二成分とし
て、テトラアルキル錫又は有機ケイ素化合物とを組合せ
たものである。
テトラアルキル錫としては、一般式
において、R4、R’、 R@およびR?が、メチル基
、エチル基、プロピル、基、ブチル基、ペンチ゛ル基等
のアルキル基である化合物が挙げられる。
、エチル基、プロピル、基、ブチル基、ペンチ゛ル基等
のアルキル基である化合物が挙げられる。
有機ケイ素化合物としては、一般式
において、R”、R”、 R・・、R・・;よびR・・
が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基等の了り
−ル基又はシクロヘキシル基等のシクロアルキル基であ
るような化合物が挙げられる。
が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基等の了り
−ル基又はシクロヘキシル基等のシクロアルキル基であ
るような化合物が挙げられる。
単量体であるトリアルキルシリルアセチレン類と主触媒
である六塩化タングステンとの割合は、モル比で、前者
100に対し後者j〜a、コの範囲が適当であり、第二
成分であるテトラアルキル錫ま次は有機ケイ素化合物対
生触媒の割合はモル比で12.3〜3の範囲が好ましい
。触媒は溶液状で用いられ、主触媒と第二成分を溶媒(
後記の車台反応溶媒と同様のものが用いられる)に溶解
し、J O−A 0℃で10−40分間放置した後に用
いるのがよい。
である六塩化タングステンとの割合は、モル比で、前者
100に対し後者j〜a、コの範囲が適当であり、第二
成分であるテトラアルキル錫ま次は有機ケイ素化合物対
生触媒の割合はモル比で12.3〜3の範囲が好ましい
。触媒は溶液状で用いられ、主触媒と第二成分を溶媒(
後記の車台反応溶媒と同様のものが用いられる)に溶解
し、J O−A 0℃で10−40分間放置した後に用
いるのがよい。
車台反応の溶媒としては、炭化水素、ハロゲン化炭化水
素、エーテルなどを用いるのが好ましい。特に、ベンゼ
ン、トルエン、シクロヘキセン、テトラリン、四塩化炭
素などが入手の谷易さ、および重合において^い収率が
達成される点などから好適である。電合反応における単
量体の(l11度は0. /〜Sモル/lの範囲が好ま
しい。車台反応の一度は通常0−A 0℃、反応時間は
数十分〜数十時間の範囲から選択される。
素、エーテルなどを用いるのが好ましい。特に、ベンゼ
ン、トルエン、シクロヘキセン、テトラリン、四塩化炭
素などが入手の谷易さ、および重合において^い収率が
達成される点などから好適である。電合反応における単
量体の(l11度は0. /〜Sモル/lの範囲が好ま
しい。車台反応の一度は通常0−A 0℃、反応時間は
数十分〜数十時間の範囲から選択される。
反応終了後、反応系を、反応に用いた溶媒で希釈し次の
ち、大量のメタノール中に投入すると生成重合体が沈澱
するので、これをr別、乾燥する。
ち、大量のメタノール中に投入すると生成重合体が沈澱
するので、これをr別、乾燥する。
本発明によるときは、トリアルキルシリルアセチレン類
から新規の鎖状重合体を高収率で得ることができる。生
成重合体Fizooθ〜zooo。
から新規の鎖状重合体を高収率で得ることができる。生
成重合体Fizooθ〜zooo。
の分子量を有するうえに、トルエン、ベンゼン、四塩化
炭素、ノルマルヘキサン等の極性の低い溶媒にある程度
可溶である。かくして得られた重合体は半導体、ガス吸
着体、分離膜、フォトレジストなどへの応用が可能であ
る。
炭素、ノルマルヘキサン等の極性の低い溶媒にある程度
可溶である。かくして得られた重合体は半導体、ガス吸
着体、分離膜、フォトレジストなどへの応用が可能であ
る。
次に実施例により本発明をさらに詳しく説明する。
実施例1
rt+ )リメチルシリルアセチレンのa14製トリ
メチルシリルクロライドとナトリウムアセチリドとから
!i4製した。沸点はj4’、4℃、純度は、ガスクロ
マトグラフィー、’HNMRなどによれば9ブチ以上で
あつ九。
メチルシリルクロライドとナトリウムアセチリドとから
!i4製した。沸点はj4’、4℃、純度は、ガスクロ
マトグラフィー、’HNMRなどによれば9ブチ以上で
あつ九。
(2) 重 合
乾燥窒素雰囲気下で充分精製し次トルエンll中に、六
塩化タングステンコOミリモルによびテトラブチル錫コ
Oミリモルを加え、30℃で約7S分間熟成させた。
塩化タングステンコOミリモルによびテトラブチル錫コ
Oミリモルを加え、30℃で約7S分間熟成させた。
得られた触媒溶液にトリメチルシリルアセチレン1.0
モルを添加し、30℃でコダ時間重合させた。
モルを添加し、30℃でコダ時間重合させた。
反応終了後、混合物を大量のメタノール中に投入して生
成重合体を沈澱させ、r別乾燥した。メタノール不溶性
重合体の生成量は、トリメチルシリルアセチレンの仕込
み量に対して77%であった。
成重合体を沈澱させ、r別乾燥した。メタノール不溶性
重合体の生成量は、トリメチルシリルアセチレンの仕込
み量に対して77%であった。
生成重合体のトルエン可溶部の数平均分子膳゛は蒸気圧
平衡法によれば8000であった。
平衡法によれば8000であった。
生成重合体は黄色の粉末であり、極性の高い溶媒に不浴
、トルエン、ベンゼン−四塩化炭素、ノルマルヘキサン
等の極性の低い溶媒にある程度可溶であつ7’C(これ
らの溶媒にもかなりの不溶部が存在する。)。
、トルエン、ベンゼン−四塩化炭素、ノルマルヘキサン
等の極性の低い溶媒にある程度可溶であつ7’C(これ
らの溶媒にもかなりの不溶部が存在する。)。
生成重合体の分析値は次の通りである。
元素分析値((OsHseSi)n として〕;計算
値、H/ 0.ハ、4,047./$1実側値、H/
0./ 4憾、040.参/−赤外吸収スベクトル;/
jl)cm″亀にC−0に基づく吸収、lコSO備−寡
に0−Hに基づく吸収、t J !;CFn″″1に0
−81に基づく吸収がみられる。
値、H/ 0.ハ、4,047./$1実側値、H/
0./ 4憾、040.参/−赤外吸収スベクトル;/
jl)cm″亀にC−0に基づく吸収、lコSO備−寡
に0−Hに基づく吸収、t J !;CFn″″1に0
−81に基づく吸収がみられる。
以上から、生成重合体は、次の構造を有するものと推定
される。
される。
(−OH=O−)−
5i(aH,)。
実施例コ〜よ
実施例1において、テトラブチル錫のかわりに、17表
のオニ成分を用いるほかは、実施例/と同様にして重合
をおこなった。実施例1と同様の重合体が得られ、その
収率な牙1表に下す。6 牙 l 表 実施例6〜10 実施例1において、溶媒のトルエンを11表のものにか
えた外は、実施例/と同様にして重合をおこなった。実
施例1と同様な重合体が、12表の収率で得られた。
のオニ成分を用いるほかは、実施例/と同様にして重合
をおこなった。実施例1と同様の重合体が得られ、その
収率な牙1表に下す。6 牙 l 表 実施例6〜10 実施例1において、溶媒のトルエンを11表のものにか
えた外は、実施例/と同様にして重合をおこなった。実
施例1と同様な重合体が、12表の収率で得られた。
牙 コ 表
実施例11〜/j
実施例3において、溶媒のトルエンな牙3表のものにか
えた外は、実施例1と同様にして1合をおこなった。実
施例1と同様な重合体が、J−j表の収率で得られた。
えた外は、実施例1と同様にして1合をおこなった。実
施例1と同様な重合体が、J−j表の収率で得られた。
】・ 3 表
以上説明し、実施例に挙げたところは本発明の理解を助
けるための代表的例示に係わるものであり、本発明はこ
れら例示に制限されることなく、発明の要旨内でその他
の変更例をとることができるものである。
けるための代表的例示に係わるものであり、本発明はこ
れら例示に制限されることなく、発明の要旨内でその他
の変更例をとることができるものである。
Claims (1)
- (1) 一般式 %式% (式中、R1%R″およびR1は゛rアルキル基示す)
で表わされるトリアルキルシリルアセチレノを、 (イ) 六塩化タングステンと、 (olf)ラアルキル錫又は有機ケイ素化合物とを組合
わせてなる融媒の存在下で重合させることを%徴とする
トリアルキルシリルアセチレン類の重合方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8891582A JPS58206611A (ja) | 1982-05-27 | 1982-05-27 | トリアルキルシリルアセチレン類の重合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8891582A JPS58206611A (ja) | 1982-05-27 | 1982-05-27 | トリアルキルシリルアセチレン類の重合方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58206611A true JPS58206611A (ja) | 1983-12-01 |
JPH0224284B2 JPH0224284B2 (ja) | 1990-05-29 |
Family
ID=13956221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8891582A Granted JPS58206611A (ja) | 1982-05-27 | 1982-05-27 | トリアルキルシリルアセチレン類の重合方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58206611A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5922912A (ja) * | 1982-06-28 | 1984-02-06 | Tdk Corp | 帯電防止膜付き物品の製造方法 |
EP0136901A2 (en) * | 1983-09-30 | 1985-04-10 | Toray Industries, Inc. | Membranes for liquid separations |
JPS60155256A (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光安定化置換ポリアセチレン組成物 |
EP0344799A2 (en) * | 1988-06-03 | 1989-12-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Selectively permeable film and process for producing the same |
US5091488A (en) * | 1984-11-30 | 1992-02-25 | Director-General Of Agency Of Industrial Science And Technology | Polyethylacetylene derivative and process for preparation thereof |
US5162478A (en) * | 1990-09-17 | 1992-11-10 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Poly(silylene)vinylenes from ethynylhydridosilanes |
-
1982
- 1982-05-27 JP JP8891582A patent/JPS58206611A/ja active Granted
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5922912A (ja) * | 1982-06-28 | 1984-02-06 | Tdk Corp | 帯電防止膜付き物品の製造方法 |
JPH0149167B2 (ja) * | 1982-06-28 | 1989-10-23 | Tdk Electronics Co Ltd | |
EP0136901A2 (en) * | 1983-09-30 | 1985-04-10 | Toray Industries, Inc. | Membranes for liquid separations |
US4591440A (en) * | 1983-09-30 | 1986-05-27 | Toray Industries, Incorporated | Membranes for liquid separations |
JPS60155256A (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光安定化置換ポリアセチレン組成物 |
US5091488A (en) * | 1984-11-30 | 1992-02-25 | Director-General Of Agency Of Industrial Science And Technology | Polyethylacetylene derivative and process for preparation thereof |
EP0344799A2 (en) * | 1988-06-03 | 1989-12-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Selectively permeable film and process for producing the same |
US5162478A (en) * | 1990-09-17 | 1992-11-10 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Poly(silylene)vinylenes from ethynylhydridosilanes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0224284B2 (ja) | 1990-05-29 |
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