JPS62260712A - シリカ粒子の製造法 - Google Patents

シリカ粒子の製造法

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JPS62260712A
JPS62260712A JP10109286A JP10109286A JPS62260712A JP S62260712 A JPS62260712 A JP S62260712A JP 10109286 A JP10109286 A JP 10109286A JP 10109286 A JP10109286 A JP 10109286A JP S62260712 A JPS62260712 A JP S62260712A
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silica particles
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Takehisa Inoue
井上 武久
Kuniyuki Tada
多田 国之
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Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、均一粒径の球状シリカ粒子を製造する方法に
関する。
〔従来の技術〕
アルコール溶媒中で、アルキルシリケートをアンモニア
および水と接触させて0.o5μ〜2μmのシリカ微粒
子を製造する方法が、W、5t6ber等により開示さ
れている[J、Co11oid & Interrac
eSci、、  26. 62  (1968)  ]
 。
さらに、金属アルコキシドを有線溶剤に溶解して得た溶
液と水および分散剤からなる溶液とを混合し、金属アル
コキシドを加水分解してrH細なセラミック粉末を製造
する方法も知られている(特1m昭60−166203
M公報)。またエタノール、アンモニア水、ケイ酸エチ
ルを加えて反応条件と、シリカ球成長の経過を粒径分布
をともに観測した報告もなされている〈[粉体および粉
末冶金J第23巻第4号第137〜142頁)、。
(発明が解決しようとする問題点) 従来のアルコール溶媒−アルキルシリケート−アンモニ
ア−水のシリカ粒子製造法においては粒径と粒径分布の
コントロールが容易でなく、また粒子の二次、的な凝集
も起り易いので、粒径の揃った粒子を工業的に製造する
のが困ガであった。
また、特開昭60−166203号公報の方法では、加
水分解によって生成した粒子の凝集を抑υ1するために
・分散剤を使用する。しかし、この方法は極めて微mな
シリカ粒子の合成を目的とじたもので、比較的粒径の大
きい、粒径の揃ったシリカ粒子の合成には不適当である
また、従来知られている一工程によるシリカ粒子の製法
では希望する粒径、特に比較的大きい粒径のシリカ粒子
を得るには長時間を要し、しかも粒径の均一性に欠ける
という問題があった。
本発明者らは先ず常法により咳となるシリカ粒子を生成
させ、次いでこの粒子をゆっくり成長させると均一粒径
のシリカ粒子が短時間で得られることを見出し本発明に
到達した。
すなわち本発明の目的は、均一な粒径の球上シリカ粒子
を1りることにある。
本発明の他の目的は、反応効率良く高純度の球状シリカ
粒子を得ることにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明はアルコール溶媒中でアルキルシリケートを水お
よびアンモニアで加水分解しシリカ粒子を[1する方法
において、■シリカ粒子核を生成させ、ついで■粒子核
の成長と整粒を行わせる2工程からなる方法である。
本発明で使用されるアルキルシリケートは、オルトケイ
Fa (HS i O4)のアルキルエステルで一般式
S i (OR) a  (R:アルキル基)で表わさ
れ、通常アルキル基Rの炭素数は1〜5程度であるが、
アルキルシリケートの反応性、工業規模での入手の容易
さなどから特に炭素数2〜3のアルキルシリケート、す
なわちエチルシリケート、プロピルシリケート’Jとが
好ましい。
本発明で使用されるアルコールとしてはアルキルシリケ
ートを溶解するものであれば良く、種々の液状アルコー
ルが使用できるが、炭素数が多過ぎると粒径分布がブロ
ードになり好ましくない。
通常は炭素数1〜6のアルキルアルコールが使用しうる
が、特に好ましいのは炭素数1〜3のアルキルアルコー
ル、すなわちメタノール、エタノール、プロパツールな
どである。
本発明の第1段階工程であるシリカ粒子核の生成は、ア
ルコール溶媒中でアルキルシリケートを水とアンモニア
を用いて加水分解することによって行なうことができる
。加水分解の条件は目的の粒子径によって変りうるが、
アルキルシリケートに対するアルコール溶媒の使用mは
重量比で1〜50倍、特に好ましくは2〜20である。
アルキルシリケートを加水分解するために添加する水の
藩はアルキルシリケートに対しモル比で4倍以上を必要
とするが、通常は5〜100倍程度である。またアンモ
ニア量は使用するアルキルシリケートの種類、目的粒径
などによって変りうるがフルキルシリケートに対しモル
比で1〜20倍程度である。
本発明のシリカ粒子核は、上記の如くアルコール溶媒中
でアルキルシリケート、アンモニア、水を10〜100
℃、5分〜数時間撹拌、混合して調製される。
本発明の粒子核の成長と整粒を行なう工程は、例えば第
1工程で得られたシリカ粒子核を含む溶液にアルコール
、アンモニアを添加混合し、次いでアルキルシリケート
を添加し、シリカ粒子核の成長を行なわせることによっ
てできる。
第2工程で使用するアンモニアとアルキルシリケートG
は目的粒径によって変りうるが、第1工程で使用した量
に対し、各々1〜30倍、特に好ましくは2〜20倍で
ある。目的粒子径が比較的大きい場合は、追加するアン
モニア、アルキルシリケート間を多くする必要があるが
、この様な場合にはこれらの試薬をアルコール溶媒で希
釈して添加することが望ましい。
第2工程の加水分解条件は10〜100’C11〜10
時間程度である。
なお、本発明においては粒子の凝集を防止する目的で、
アルコールに炭化水素を混合することができる。
この炭化水素は、アルコールと相容性があるものであれ
ば特に限定されるものではない、溶媒回収の容易さ、炭
化水素の価格などから炭素数5〜12の脂肪族、脂環族
、芳香族炭化水素が好ましく、特に炭素数6〜9が好ま
しい。特に好ましい炭化水素の例として、n−ヘキサン
、n−へブタン、シクロヘキサン、メチル−シクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどがある。
〔実 施 例〕
以下、本発明を実施例をもって説明する。
実施例1 エタノール120g、エチルシリケート59を500C
Cのフラスコに仕込み、50℃300 rl)1の条件
で濃アンモニア水40dを添加し、シリカ粒子核を生成
させた。(平均粒子計0.5μm)。
次いで、エタノール30g、n−ヘキサン20り、エチ
ルシリケート15gの混合溶液を同一条件下15分間で
ゆっくりと滴下させ、さらに30分B撹拌を継続し、シ
リカ粒子を調製した(平均粒子径0.8μm)。
第1図は得られたシリカ微粒子の粒子構造の走査!!2
電子顕微鏡写真である。
さらに生成した粒子核および粒子の粒径、粒径分布は遠
心式自動粒子!1測定装置(堀場製作所、CAPA−5
00)により測定した。
粒子核およびシリカ粒子の粒径分布を第4図および第5
図に各々示す。
第4図および第5図から、第1工程のシリカ粒子核生成
時には、シリカ粒子核の粒度が不均一であったにもかか
わらず、第2工程の粒子調製工程を軽ると、シリカ粒子
の粒度が極めて均一になることが判明した。
実施例2 エタノール120g、およびエチルシリケート10gを
11フラスコに仕込み、20℃、300rpmの条件で
濃アンモニア水20gを添加しシリカ粒子核を生成させ
た(平均粒子径0.8μm>、。
次いでエタノール240g、n−ヘキサン40り、アン
モニア水150gをフラスコに添加し、エタノール10
09、エチルシリケート1007の混合mflを60分
間でゆっくり滴下し、さらに60分間撹拌を継続し、シ
リカ微粒子を調製した(平均粒子径2.1μm)。第4
図は得られたシリカ微粒子の粒子構造の走査型電子顕微
鏡写真である。さらに粒子核およびシリカ粒子の粒径分
布を実施例1と同様に謂定した結果を第6図および第7
図に示す。
第6図および第7図から明らかなように、第1工程のシ
リカ粒子核生成時にはシリカ粒子核の粒度が不均一であ
ったにもかかわらず、第2工程の粒子aliV工程を経
るとシリカ粒子の粒度が極めて均一になった。
比較例1 エタノール160gと淵アンモニア水40gを500a
27ラスコニ仕込み、30℃、300 rpmエチルシ
リケート20gを20分周でゆっくり滴下させ、さらに
30分間撹拌を継続し、シリカ粒子を調製した。第3図
は得られたシリカ粒子構造の走査型電子顕微鏡写真であ
る。得られたシリカ粒子の粒度分布を第8図に示した。
〔発明の効果〕
従来から知られているアルコール−アンモニア−水素の
アルキルシリケート加水分解で球状のシリカ粒子が青ら
れるが、第3図に示される様に粒子の形状が悪く、粒径
の均一性に欠ける。
ところが、本発明の方法では第1図および第2図から明
らかなように、形状および粒径の各均一性ともに優れた
シリカ粒子が容易に得られる。
本発明で(りられるシリカ粒子は、セラミックス、触媒
用素材あるいは顔料、塗料、合成樹脂、合成IIHの充
填剤として使用される。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明方法により得られたシリカ
粒子の粒子構造の走査型電子顕微鏡写真、第3図は従来
方法により得られたシリカ粒子の粒子構造の走査型電子
顕微鏡写真であり、第1I図および第6図はシリカ粒子
核の粒度分布、ならびに第5図、第7図および第8図は
シリカ粒子の粒度分布を示す図である。 特許出願人    東  し  株  式  会  社
′〕うW杭 ′7j・ ・・幻 ?、2イ 71m       粒仔 μm/m/リカ
ン了杉          /1ツカ粒子−第1図  
     第5Vj 1)1.5     :うOf)      15  
 30粒仔 lnn        f:L 4−f/
””/リカfマノ〒+b           /リカ
粒子−第1; ’、7:              
   第7ノj0      1.0     2.0
粒径ltm 第8図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 アルコール溶媒中でアルキルシリケートを水およびアン
    モニアで加水分解しシリカ粒子を製造する方法において
    、 (1)シリカ粒子核を生成させる工程と (2)粒子核の成長と整粒を行なわせる工程の2工程か
    ら成ることを特徴とするシリカ粒子の製造法。
JP10109286A 1986-05-02 1986-05-02 シリカ粒子の製造法 Granted JPS62260712A (ja)

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Cited By (2)

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JPS63103812A (ja) * 1986-10-20 1988-05-09 Toshiba Silicone Co Ltd 真球状シリカ粉末の製造方法
JP2009538816A (ja) * 2006-06-02 2009-11-12 デグサ ノヴァラ テクノロジー ソチエタ ペル アツィオーニ ペレット化シリカ

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