JPS62256867A - オキシチタニウムフタロシアニンの製造方法 - Google Patents
オキシチタニウムフタロシアニンの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はオキシチタニウムフタロシアニンの製造方法に
係わるものでちゃ、更に詳しくは、特定の結晶型を有す
るオキシチタニウムフタロシアニンの製造方法に関する
ものである。
係わるものでちゃ、更に詳しくは、特定の結晶型を有す
るオキシチタニウムフタロシアニンの製造方法に関する
ものである。
(従来の技術)
フタロシアニン類は、塗料・印刷インキ・樹脂の着色或
は電子材料として有用な化合物であシ、殊に電子写真感
光体用材料として盛んに用いられるようになつ念。
は電子材料として有用な化合物であシ、殊に電子写真感
光体用材料として盛んに用いられるようになつ念。
本発明者らは、オキシチタニウムフタロシアニンの製造
方法について詳細に検討した結果、製造条件の微妙な差
によって3aIの結晶型(以下穴々「A型」、「B型」
及び「C型」という)が存在することを確認し念。夫々
の粉末X線回折図を図−/、図−λ及び図−3に示す。
方法について詳細に検討した結果、製造条件の微妙な差
によって3aIの結晶型(以下穴々「A型」、「B型」
及び「C型」という)が存在することを確認し念。夫々
の粉末X線回折図を図−/、図−λ及び図−3に示す。
A型は回折角(2θ)2.3°、26.3°に、B型は
7.6°、2 /、 6’に、C型は7.0°、/j、
6°に夫々特徴的な強い回折ピークを有する。
7.6°、2 /、 6’に、C型は7.0°、/j、
6°に夫々特徴的な強い回折ピークを有する。
上記3f!1の結晶は通常混合物として祷られることが
多いが、夫々の物性が異なる九めに、混合物のまま用い
ると物性の不安定性に由来するトラブルが起こシ易い。
多いが、夫々の物性が異なる九めに、混合物のまま用い
ると物性の不安定性に由来するトラブルが起こシ易い。
従って、その製造に際しては純粋な結晶型のオキシチタ
ニウムフタロシアニンを取得するのが望ましいことは言
′)までもない。
ニウムフタロシアニンを取得するのが望ましいことは言
′)までもない。
洞見ば、オキシテタニウムフメロシアニ/は、その使用
形態として各種のポリマーや溶W、等に分散嘔せ九後、
塗布、乾燥を経て製品化する場合が多い。
形態として各種のポリマーや溶W、等に分散嘔せ九後、
塗布、乾燥を経て製品化する場合が多い。
(発明が解決しようとする問題点)
併しながら、その結晶型の相異によってポリマーや溶媒
等との相互作用が異なるために、結晶型の異なったもの
の混合物を用いると、分散性が阻害されたり、物性が不
安定になることが多い。このような欠点を排除するため
には、純粋な結晶型のオキシチタニウムフタロシアニン
を製造する必要があり、その製造法の開発が強く望まれ
ている所以である。
等との相互作用が異なるために、結晶型の異なったもの
の混合物を用いると、分散性が阻害されたり、物性が不
安定になることが多い。このような欠点を排除するため
には、純粋な結晶型のオキシチタニウムフタロシアニン
を製造する必要があり、その製造法の開発が強く望まれ
ている所以である。
上記3種の結晶型のうち、B型結晶は特に電子写真感光
体の電荷発生材料として有用である。
体の電荷発生材料として有用である。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、純粋なり型結晶を苅るべく鋭意検討を重
ねた結果、成る特定の条件下ではオキシチタニウムフタ
ロシアニンのB型結晶のみが選択的に生成することを見
出し、本発明に到達し念。
ねた結果、成る特定の条件下ではオキシチタニウムフタ
ロシアニンのB型結晶のみが選択的に生成することを見
出し、本発明に到達し念。
すなわち、本発明の要旨は、有機溶媒中、170〜30
0℃の温度で0−フタロジニトリルと四塩化チタンを縮
合し、次いで加水分解してオキシチタニウムフタロシア
ニンを製造スる方法において、縮合時に100℃から1
70℃までに昇温する時間な一8!時間以上にすること
ヲ特徴とするオキシチタニウムフタロシアニンの製造方
法に存する。
0℃の温度で0−フタロジニトリルと四塩化チタンを縮
合し、次いで加水分解してオキシチタニウムフタロシア
ニンを製造スる方法において、縮合時に100℃から1
70℃までに昇温する時間な一8!時間以上にすること
ヲ特徴とするオキシチタニウムフタロシアニンの製造方
法に存する。
一般的に、オキシチタニウムフタロシアニンは、有機溶
媒中720〜300℃の温度で、O−フタロジニトリル
と四塩化チタンとの縮合反応によって生成するジクロロ
チタニウムフタロシアニンを熱時P別し、次いで加水分
解することによって製造される。
媒中720〜300℃の温度で、O−フタロジニトリル
と四塩化チタンとの縮合反応によって生成するジクロロ
チタニウムフタロシアニンを熱時P別し、次いで加水分
解することによって製造される。
本発明者らは、上記縮合反応時の所定の反応温度に到達
するまでの昇温時間に着目し、詳細な検討を行った。そ
の結果、有機溶媒と0−7タロジニトリル及び四塩化チ
タンを反応容器に仕込み、所定の反応m度に昇温させる
過程で、100℃から77θ℃までの昇温時間の長短が
、オキシチタニウムフタロシアニンの結晶型を決定する
重要な因子であることを見出した。
するまでの昇温時間に着目し、詳細な検討を行った。そ
の結果、有機溶媒と0−7タロジニトリル及び四塩化チ
タンを反応容器に仕込み、所定の反応m度に昇温させる
過程で、100℃から77θ℃までの昇温時間の長短が
、オキシチタニウムフタロシアニンの結晶型を決定する
重要な因子であることを見出した。
即ち、100℃から170℃までの昇温時間を2.5時
間以上に制御することにより、純粋なり型結晶が選択的
且つ容易に得られることを見出した。該昇温時間が2.
!時間以下の場合は、A型又はA型とB型の混合物が得
られ、本発明の目的は達せられない。
間以上に制御することにより、純粋なり型結晶が選択的
且つ容易に得られることを見出した。該昇温時間が2.
!時間以下の場合は、A型又はA型とB型の混合物が得
られ、本発明の目的は達せられない。
100℃から/70℃゛までの昇温時間は2.5時間以
上であれば任意に選択でき、再現性よく純粋なりTA結
晶を製造することができる。この際、原料仕込時から1
00′Cまでの昇温時間の長短は、得られるオキシチタ
ニウムフタロシアニンの結晶型に同等影響を与えない。
上であれば任意に選択でき、再現性よく純粋なりTA結
晶を製造することができる。この際、原料仕込時から1
00′Cまでの昇温時間の長短は、得られるオキシチタ
ニウムフタロシアニンの結晶型に同等影響を与えない。
縮合反応温度)家17θ〜、1oor、の範囲であれば
任意に選択できるが、好寸しくは170〜450℃の範
囲である。反応温度が低過き゛ると反応に長時間を要す
るので実用的でない。又、反応温度が高過き゛ると、反
応溶媒や生成物が分解する恐れがあるので、300℃以
上の反応温度は避けるのが望ましい。
任意に選択できるが、好寸しくは170〜450℃の範
囲である。反応温度が低過き゛ると反応に長時間を要す
るので実用的でない。又、反応温度が高過き゛ると、反
応溶媒や生成物が分解する恐れがあるので、300℃以
上の反応温度は避けるのが望ましい。
0−フタロジニトリルと四塩化チタンの仕込そル比は任
意に選択できるが、り:/の仕込モル比が好適である。
意に選択できるが、り:/の仕込モル比が好適である。
り:/以外の仕込モル比でも本発明の目的は達せられる
が、収率の低下、未反応原料の回収等不利な面が多くな
るので避けるのが望ましい。
が、収率の低下、未反応原料の回収等不利な面が多くな
るので避けるのが望ましい。
縮合反応に用いられる有機溶媒は任意に選択できるが、
沸点は170℃以上のものから選ぶのが好ましい。例え
ばα−クロロナフタレン1、β−クロロナフタレン、α
−フ皐モモナフタレンα−メチルナフタレン、α−メト
キシナフタレン等のナフタレン類、ジフェニルエーテル
、乞り′−ジクロロジフェニルエーテル1.i、J−ジ
メチルジフェニルエーテル等のジフェニルエーテル類;
ジフェニルメタン、4tμ′−ジメチルジフェニルメタ
ン、i、3’−ジクロロジフェニルメタン等のジフェニ
ルメタン類等が挙げられる。
沸点は170℃以上のものから選ぶのが好ましい。例え
ばα−クロロナフタレン1、β−クロロナフタレン、α
−フ皐モモナフタレンα−メチルナフタレン、α−メト
キシナフタレン等のナフタレン類、ジフェニルエーテル
、乞り′−ジクロロジフェニルエーテル1.i、J−ジ
メチルジフェニルエーテル等のジフェニルエーテル類;
ジフェニルメタン、4tμ′−ジメチルジフェニルメタ
ン、i、3’−ジクロロジフェニルメタン等のジフェニ
ルメタン類等が挙げられる。
沸点が/70C以下の溶媒、聞えはトルエン、クロロベ
ンゼン、エチルベンゼン等ヲ用イルこともできるが、こ
の場合は加圧下で反応する必要があり、反応装置や操作
等が煩雑になるので、上記のよう々沸点が77θ℃以上
の有機溶媒が好ましい。
ンゼン、エチルベンゼン等ヲ用イルこともできるが、こ
の場合は加圧下で反応する必要があり、反応装置や操作
等が煩雑になるので、上記のよう々沸点が77θ℃以上
の有機溶媒が好ましい。
有機溶媒の使用量は、O−フタロジニトリルに対して2
〜71倍量、好ましくは5〜70倍量から選ばれる。こ
の範囲より少ないと反応液が粘稠Cζなシ、均一々混合
攪拌が困難になる。
〜71倍量、好ましくは5〜70倍量から選ばれる。こ
の範囲より少ないと反応液が粘稠Cζなシ、均一々混合
攪拌が困難になる。
又、この範囲よフ多くても反応は順調に進行するが、単
位容積当りの収量が少なくなるので経済的でない。
位容積当りの収量が少なくなるので経済的でない。
ジクロロチタニウムフタロシアニンの加水分解は常法C
ζ従い、過剰量の水を用いて熱水処理によって行う、熱
水処理はpHj〜7Iζなるまで繰返えして行うことが
望ましい。更lこ好ましくは、熱水処理後キノリン、α
−クロロナフタレン、N−メチルピロリドン等の有機溶
剤中で加熱処理する。この処理は、オキシチタニウムフ
タロシアニンの結晶化度を高める効果があり、物性の向
上にも役立つ。
ζ従い、過剰量の水を用いて熱水処理によって行う、熱
水処理はpHj〜7Iζなるまで繰返えして行うことが
望ましい。更lこ好ましくは、熱水処理後キノリン、α
−クロロナフタレン、N−メチルピロリドン等の有機溶
剤中で加熱処理する。この処理は、オキシチタニウムフ
タロシアニンの結晶化度を高める効果があり、物性の向
上にも役立つ。
熱水処理温ごは任意に選ぶことができるが、好ましくは
50℃以上、更に好ましくは70〜100℃の範囲から
選ばれる。50℃以下では加水分解速度が小さく、反応
の完結に要する時間が長くなる。又、オキシチタニウム
フタロシアニンと水との親和性を高めるために、01〜
C4の低級アルコールを少量添加するのも有効である。
50℃以上、更に好ましくは70〜100℃の範囲から
選ばれる。50℃以下では加水分解速度が小さく、反応
の完結に要する時間が長くなる。又、オキシチタニウム
フタロシアニンと水との親和性を高めるために、01〜
C4の低級アルコールを少量添加するのも有効である。
(実施例)
以下に実施例、比較例、応用例を挙げて本発明を更に具
体的に説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り
以下の実施例によって限定でれるものではない。
体的に説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り
以下の実施例によって限定でれるものではない。
実施例/
温夏計、攪拌器、還流冷却器を備え之/lの反応フラス
コに、α−クロロナフタレン600m1.O−フタロジ
ニトリルタ22(θ、77′♂モル)及び四塩化チタン
20 sJ (0,7rJ、モル)を仕込み、攪拌下拙
浴上で二00℃まで昇I!する。この昇温過程で、10
0℃から170℃に到達するまでの昇温時間を2.5時
間とした。
コに、α−クロロナフタレン600m1.O−フタロジ
ニトリルタ22(θ、77′♂モル)及び四塩化チタン
20 sJ (0,7rJ、モル)を仕込み、攪拌下拙
浴上で二00℃まで昇I!する。この昇温過程で、10
0℃から170℃に到達するまでの昇温時間を2.5時
間とした。
20θ℃で5時間加熱攪拌した後、iio℃まで冷却し
てFJする。得られ六ジクロロチタニウムフタロシアニ
ンの湿ケーキを130℃に加温したα−クロロナフタレ
ンaooILtで洗浄し、次いでメタノールt00dを
加えて攪拌下60℃で2時間懸洗し、ケーキを戸別する
。更に脱イオン水?00dを加えて攪拌下λ時間懸洗後
、ケーキを戸別して(この操作を2回繰返、tt)、オ
キシチタニウムフタロシアニンの湿ケーキを得る。次い
でこの湿ケーキにN−メチルピロリドン1004を加え
て、攪拌下/よ0℃でj時間懸洗した後、ケーキを戸別
する(この操作を2回繰返えす)、得られた湿ケーキに
メタノールzoowを加えて、攪拌下60℃で2時間懸
洗した後ケーキを戸別し、乾燥しf/:、結果、精オキ
シチタニウムフタロシアニン769をイ0比(収率7ダ
%)。このものの粉末X線回折パターンは図−7に一致
し、B型結晶でらることが確認され九。又、元素分析値
は次の通りであつ六。
てFJする。得られ六ジクロロチタニウムフタロシアニ
ンの湿ケーキを130℃に加温したα−クロロナフタレ
ンaooILtで洗浄し、次いでメタノールt00dを
加えて攪拌下60℃で2時間懸洗し、ケーキを戸別する
。更に脱イオン水?00dを加えて攪拌下λ時間懸洗後
、ケーキを戸別して(この操作を2回繰返、tt)、オ
キシチタニウムフタロシアニンの湿ケーキを得る。次い
でこの湿ケーキにN−メチルピロリドン1004を加え
て、攪拌下/よ0℃でj時間懸洗した後、ケーキを戸別
する(この操作を2回繰返えす)、得られた湿ケーキに
メタノールzoowを加えて、攪拌下60℃で2時間懸
洗した後ケーキを戸別し、乾燥しf/:、結果、精オキ
シチタニウムフタロシアニン769をイ0比(収率7ダ
%)。このものの粉末X線回折パターンは図−7に一致
し、B型結晶でらることが確認され九。又、元素分析値
は次の通りであつ六。
CH)■ 01
F!7n@ (%) tt、tl a、ro
/’p、y’t 。
/’p、y’t 。
実測値(%)≦6,71 J7≦ /り3 o、イ
0実施@λ〜グ 縮合反応時の昇温条件及び反応溶媒を変え±以外は、実
施例/と同様に実、@シた結果を次表に示す。
0実施@λ〜グ 縮合反応時の昇温条件及び反応溶媒を変え±以外は、実
施例/と同様に実、@シた結果を次表に示す。
比較例
7縮合反応時に/・20℃から170℃までの昇温時間
を2.2時間にし穴以外は、実施例/と同様にしてオキ
シチタニウムフタロシアニンヲ製造し九。収量は7!?
、結晶型はA型とB型の混合物であった。このものの粉
末X線回折図を図−ダに示す。
を2.2時間にし穴以外は、実施例/と同様にしてオキ
シチタニウムフタロシアニンヲ製造し九。収量は7!?
、結晶型はA型とB型の混合物であった。このものの粉
末X線回折図を図−ダに示す。
応用例(電子写真感光体)
実施例/で製造したオキシチタニウムフタロシアニンの
B型結晶0.り?とポリビニルブチラール0.22なり
−メトキシーダーメチルーーーベンタノン30?と共に
サンドグラインダーで分散し、この分散液をポリエステ
ルフィルム上に蒸着し九アルミ蒸着履の上にフィルムア
プリケーターCζよシ塗布、乾燥して電荷発生層を形成
した。塗布膜厚は0.J fArXである。
B型結晶0.り?とポリビニルブチラール0.22なり
−メトキシーダーメチルーーーベンタノン30?と共に
サンドグラインダーで分散し、この分散液をポリエステ
ルフィルム上に蒸着し九アルミ蒸着履の上にフィルムア
プリケーターCζよシ塗布、乾燥して電荷発生層を形成
した。塗布膜厚は0.J fArXである。
この電荷発生1の上に、N−メチル−3−カルバゾール
カルバルデヒドジフェニルヒドラゾン20部とp−ニト
ロベンゾイルオキシベンザルマロノニトリに、2部及び
ポリカーボネート樹脂(三菱化成工業社製ツバレックス
70ujA)100部からなる膜厚77戸の電荷9動層
を積層し、積層型の感光層を有する電子写X感光体を得
な。
カルバルデヒドジフェニルヒドラゾン20部とp−ニト
ロベンゾイルオキシベンザルマロノニトリに、2部及び
ポリカーボネート樹脂(三菱化成工業社製ツバレックス
70ujA)100部からなる膜厚77戸の電荷9動層
を積層し、積層型の感光層を有する電子写X感光体を得
な。
との感光体の感度として半減露光景(E!A)を静T!
i吹写紙試験装置(川口電機製作所製モデル5P−42
?)により測定し念。即ち、暗所でコロナ[流が22μ
Aに々るように設定した印加電圧によるコロナ放電によ
り、感光体を負帯電し、次いでj1u!シ照度の白色光
により露光し、表面電位が−ダ!0■から−jJjvに
半減するに要する露光量(P2!A)を求めたところ、
0.≦4tlux・□□□であった。このときの感光体
の帯電圧(初期の表面電位)は−6!/■、暗減衰は/
? V/m、露光10秒後の表面電位(残留電位)は
−20Vであつ六。次にこの感光体を帝i!後、暗減衰
0.ダ秒、H00]−uXの白色光を一1θ秒露光する
サイクルにより、繰返し特性の評価を行つ念。
i吹写紙試験装置(川口電機製作所製モデル5P−42
?)により測定し念。即ち、暗所でコロナ[流が22μ
Aに々るように設定した印加電圧によるコロナ放電によ
り、感光体を負帯電し、次いでj1u!シ照度の白色光
により露光し、表面電位が−ダ!0■から−jJjvに
半減するに要する露光量(P2!A)を求めたところ、
0.≦4tlux・□□□であった。このときの感光体
の帯電圧(初期の表面電位)は−6!/■、暗減衰は/
? V/m、露光10秒後の表面電位(残留電位)は
−20Vであつ六。次にこの感光体を帝i!後、暗減衰
0.ダ秒、H00]−uXの白色光を一1θ秒露光する
サイクルにより、繰返し特性の評価を行つ念。
2000回繰返し後の帯電圧は、初期の?!チ、残留電
位は−コ/Vであつな。
位は−コ/Vであつな。
(発明の効果)
以上の如く、本発明の方法によって製造したオキシチタ
ニウムフタロシアニンのB型結晶は、極めて優れた電子
写真特性を有しており、特に半導体レーザー用感光体と
して有用である。
ニウムフタロシアニンのB型結晶は、極めて優れた電子
写真特性を有しており、特に半導体レーザー用感光体と
して有用である。
図−/はオキシチタニウムフタロシアニンのA型結晶の
粉末X線回折図であり、回折角(2θ)2.3°、46
.3°に特徴的な強い回折ピークを有する。 図−コはオキシチタニウムフタロシアニンのB型結晶の
粉末X線回折図であり、回折角(2θ)7.6°、2♂
、6°に特徴的な強い回折ピークを有する。 図−3はオキシチタニウムフタロシアニンのC型結晶の
粉末X線回折図であり、回折角(2θ)7.0°、/!
、1°に特徴的な強い回折ピークを有する。 図−gは比較例で得られたオキシチタニウムフタロシア
ニンの粉末X線回折図でアシ、A型結晶とB型結晶の混
合物である。回折角(2θ)7.6°、り、36、+2
6.36.2!、乙0に、A型及びB型結晶の特徴的な
回折ピークを有する。 手続補正書 昭和67年6 月 9日
粉末X線回折図であり、回折角(2θ)2.3°、46
.3°に特徴的な強い回折ピークを有する。 図−コはオキシチタニウムフタロシアニンのB型結晶の
粉末X線回折図であり、回折角(2θ)7.6°、2♂
、6°に特徴的な強い回折ピークを有する。 図−3はオキシチタニウムフタロシアニンのC型結晶の
粉末X線回折図であり、回折角(2θ)7.0°、/!
、1°に特徴的な強い回折ピークを有する。 図−gは比較例で得られたオキシチタニウムフタロシア
ニンの粉末X線回折図でアシ、A型結晶とB型結晶の混
合物である。回折角(2θ)7.6°、り、36、+2
6.36.2!、乙0に、A型及びB型結晶の特徴的な
回折ピークを有する。 手続補正書 昭和67年6 月 9日
Claims (1)
- (1)有機溶媒中、170〜300℃の温度でo−フタ
ロジニトリルと四塩化チタンを縮合し、次いで加水分解
してオキシチタニウムフタロシアニンを製造する方法に
おいて、縮合時に100℃から170℃までに昇温する
時間を2.5時間以上にすることを特徴とする、オキシ
チタニウムフタロシアニンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9955886A JPS62256867A (ja) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | オキシチタニウムフタロシアニンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9955886A JPS62256867A (ja) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | オキシチタニウムフタロシアニンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62256867A true JPS62256867A (ja) | 1987-11-09 |
Family
ID=14250478
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9955886A Pending JPS62256867A (ja) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | オキシチタニウムフタロシアニンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62256867A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5153094A (en) * | 1990-06-14 | 1992-10-06 | Xerox Corporation | Processes for the preparation of photogenerating pigments |
US5166339A (en) * | 1990-06-04 | 1992-11-24 | Xerox Corporation | Processes for the preparation of titanium phthalocyanines |
US5183886A (en) * | 1989-05-22 | 1993-02-02 | Mitsubishi Kasei Corporation | Process for preparation of crystalline oxytitanium phthalocyanine showing A,B or C form |
US5272264A (en) * | 1989-05-22 | 1993-12-21 | Mitsubishi Kasei Corporation | Process for preparation of crystalline oxytitanium phthalocyanine |
JP2008174753A (ja) * | 2008-02-14 | 2008-07-31 | Mitsubishi Chemicals Corp | チタニルフタロシアニン化合物及びそれを用いた電子写真感光体 |
-
1986
- 1986-04-30 JP JP9955886A patent/JPS62256867A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5183886A (en) * | 1989-05-22 | 1993-02-02 | Mitsubishi Kasei Corporation | Process for preparation of crystalline oxytitanium phthalocyanine showing A,B or C form |
US5272264A (en) * | 1989-05-22 | 1993-12-21 | Mitsubishi Kasei Corporation | Process for preparation of crystalline oxytitanium phthalocyanine |
US5166339A (en) * | 1990-06-04 | 1992-11-24 | Xerox Corporation | Processes for the preparation of titanium phthalocyanines |
US5153094A (en) * | 1990-06-14 | 1992-10-06 | Xerox Corporation | Processes for the preparation of photogenerating pigments |
JP2008174753A (ja) * | 2008-02-14 | 2008-07-31 | Mitsubishi Chemicals Corp | チタニルフタロシアニン化合物及びそれを用いた電子写真感光体 |
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