JPS62256743A - サ−モクロミツクウインドガラスの製法 - Google Patents
サ−モクロミツクウインドガラスの製法Info
- Publication number
- JPS62256743A JPS62256743A JP62062350A JP6235087A JPS62256743A JP S62256743 A JPS62256743 A JP S62256743A JP 62062350 A JP62062350 A JP 62062350A JP 6235087 A JP6235087 A JP 6235087A JP S62256743 A JPS62256743 A JP S62256743A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vanadium
- film
- glass
- vanadium oxide
- propylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 title claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 83
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 64
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;vanadium Chemical compound [V].ClOCl ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BWKCCRPHMILRGD-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;tungsten Chemical compound [W].ClOCl BWKCCRPHMILRGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical group 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 77
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 19
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 19
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 8
- 239000003570 air Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 7
- GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N vanadium dioxide Chemical compound O=[V]=O GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- -1 silver halides Chemical class 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- KFAFTZQGYMGWLU-UHFFFAOYSA-N oxo(oxovanadiooxy)vanadium Chemical compound O=[V]O[V]=O KFAFTZQGYMGWLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 2
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- BMTAFVWTTFSTOG-UHFFFAOYSA-N Butylate Chemical compound CCSC(=O)N(CC(C)C)CC(C)C BMTAFVWTTFSTOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000270722 Crocodylidae Species 0.000 description 1
- 241000755266 Kathetostoma giganteum Species 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- LNNWVNGFPYWNQE-GMIGKAJZSA-N desomorphine Chemical compound C1C2=CC=C(O)C3=C2[C@]24CCN(C)[C@H]1[C@@H]2CCC[C@@H]4O3 LNNWVNGFPYWNQE-GMIGKAJZSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010734 process oil Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003482 tantalum compounds Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/218—V2O5, Nb2O5, Ta2O5
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
- C03C2218/324—De-oxidation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ウィンドガラスの製法、とくに酸化バナジウムコーティ
ングガラス系のサーモク口ミックウインドガラスの製法
に関する。
ングガラス系のサーモク口ミックウインドガラスの製法
に関する。
ロズゴ−=−−(Rozgonyl)の米国特許348
3110号明細書にVO=の薄膜製造法が開示されてい
る。
3110号明細書にVO=の薄膜製造法が開示されてい
る。
該フィルムは単結晶形で示される金属−半導体間の相転
移(phase transition)を行なう性質
を本質的に有し、かつサイクルとして繰返し転移させて
も劣化しない。
移(phase transition)を行なう性質
を本質的に有し、かつサイクルとして繰返し転移させて
も劣化しない。
前記相転移とは物質が異なる相または形態に状態を移す
ことをいい、たとえば半導体の性質を有するVO2の薄
膜が温度、圧力などの変化にともない金属の性質を有す
るVO2の薄膜になる現象またはその逆の現象などを含
有する概念である。
ことをいい、たとえば半導体の性質を有するVO2の薄
膜が温度、圧力などの変化にともない金属の性質を有す
るVO2の薄膜になる現象またはその逆の現象などを含
有する概念である。
前記方法の1つの実施態様として、不活性雰囲気中、V
Ox (1,5< x < 2 )のアモルファスフィ
ルムを製造するための基体の存在下、V2O5カソード
をスパッタリングさせたのち、フィルムを弱く酸化して
VO2にするか、フィルムを強く酸化してV2O5にし
てからV2O3に還元するというステップを含んでいる
方法が記載されている。すなわち、バナジウムカソード
を前記と同様にして不活性雰囲気下、多結晶(poly
crystal 1ine)バナジウムフィルムを製造
するためにスパッタリングさせ、該バナジウムフィルム
をまずV2O5に酸化したのちV2O3に還元する方法
である。
Ox (1,5< x < 2 )のアモルファスフィ
ルムを製造するための基体の存在下、V2O5カソード
をスパッタリングさせたのち、フィルムを弱く酸化して
VO2にするか、フィルムを強く酸化してV2O5にし
てからV2O3に還元するというステップを含んでいる
方法が記載されている。すなわち、バナジウムカソード
を前記と同様にして不活性雰囲気下、多結晶(poly
crystal 1ine)バナジウムフィルムを製造
するためにスパッタリングさせ、該バナジウムフィルム
をまずV2O5に酸化したのちV2O3に還元する方法
である。
本発明はバナジウムプロピレート(propylate
)のような液体有機バナジウム化合゛物がらサーモクロ
ミック性を有する酸化バナジウムフィルムを製造するに
際し、該フィルムをドーピングするとサーモクロミック
フィルムのスイッチング温度が低下することが見出され
たことによりなされたものであり、ガラス基体の表面と
バナジウム化合物、たとえばバナジウム−n−プロピレ
ート、バナジウムカソ−ド、バナジウムオキシクロリド
およびそれらの混合物よりなる群からえらばれたバナジ
ウム化合物とを接触させることおよびVO2を含有する
酸化バナジウムフィルムをうるために充分な温度にガラ
ス基体を加熱することの各ステップからなる方法により
サーモクロミックウィンドガラスを製造する際に、VO
2のスイッチング温度を低くする化合物で前記フィルム
をドーピングすることを特徴とするサーモクロミックウ
ィンドガラスの製法に関する。
)のような液体有機バナジウム化合゛物がらサーモクロ
ミック性を有する酸化バナジウムフィルムを製造するに
際し、該フィルムをドーピングするとサーモクロミック
フィルムのスイッチング温度が低下することが見出され
たことによりなされたものであり、ガラス基体の表面と
バナジウム化合物、たとえばバナジウム−n−プロピレ
ート、バナジウムカソ−ド、バナジウムオキシクロリド
およびそれらの混合物よりなる群からえらばれたバナジ
ウム化合物とを接触させることおよびVO2を含有する
酸化バナジウムフィルムをうるために充分な温度にガラ
ス基体を加熱することの各ステップからなる方法により
サーモクロミックウィンドガラスを製造する際に、VO
2のスイッチング温度を低くする化合物で前記フィルム
をドーピングすることを特徴とするサーモクロミックウ
ィンドガラスの製法に関する。
本発明におけるVO2を含有する酸化バナジウムはわず
か約68℃の転移温度で、電気的、光学的スイッチング
(switching)を示す。該VO2を含有する酸
化バナジウムフィルムでコーティングされたガラスはと
くに受動的な太陽光線エネルギーコントロールに有用で
ある。なぜならば、前記ガラスは半導体相の赤外線透過
率に比べて金属相においてきわめて低い赤外線透過率を
有するためである。また、V2O3を含有する酸化バナ
ジウムフィルムは周囲温度で電導性であり、厚さ6■の
透明フロートガラス上で約24〜35%の光(Iuml
nous)透過率を示す厚さの該フィルムは約1000
Ω/口より低い電気抵抗を示す。本発明におけるVOコ
を含有する酸化バナジウムフィルムは、化学蒸着法など
により製造されうるV2O5を含有する酸化バナジウム
フィルムを還元することによりVO2を含むサーモクロ
ミックフィルムにしうる。
か約68℃の転移温度で、電気的、光学的スイッチング
(switching)を示す。該VO2を含有する酸
化バナジウムフィルムでコーティングされたガラスはと
くに受動的な太陽光線エネルギーコントロールに有用で
ある。なぜならば、前記ガラスは半導体相の赤外線透過
率に比べて金属相においてきわめて低い赤外線透過率を
有するためである。また、V2O3を含有する酸化バナ
ジウムフィルムは周囲温度で電導性であり、厚さ6■の
透明フロートガラス上で約24〜35%の光(Iuml
nous)透過率を示す厚さの該フィルムは約1000
Ω/口より低い電気抵抗を示す。本発明におけるVOコ
を含有する酸化バナジウムフィルムは、化学蒸着法など
により製造されうるV2O5を含有する酸化バナジウム
フィルムを還元することによりVO2を含むサーモクロ
ミックフィルムにしうる。
本発明においては、ニオブ、モリブデン、イリジウム、
タンタルまたはタングステンを含有する化合物のような
他の材料で前記■o2フィルムをドーピングすることに
より、VO−フィルムのスイッチング温度領域の低下が
おこり、約68℃の通常の転移温度よりも低いスイッチ
ング温度を有するVO2を含有するサーモクロミックフ
ィルムが形成される。
タンタルまたはタングステンを含有する化合物のような
他の材料で前記■o2フィルムをドーピングすることに
より、VO−フィルムのスイッチング温度領域の低下が
おこり、約68℃の通常の転移温度よりも低いスイッチ
ング温度を有するVO2を含有するサーモクロミックフ
ィルムが形成される。
本発明による酸化バナジウムフィルムでコーティングし
たガラスは受動的な太陽光線エネルギーコントロールに
とくに有用である。なぜならば、前記ガラスは半導体相
の赤外線透過率と比較して電導体用においてきわめて低
い赤外線透過率を有し、広汎な天候状態において有用な
充分低い転移温度を有するからである。
たガラスは受動的な太陽光線エネルギーコントロールに
とくに有用である。なぜならば、前記ガラスは半導体相
の赤外線透過率と比較して電導体用においてきわめて低
い赤外線透過率を有し、広汎な天候状態において有用な
充分低い転移温度を有するからである。
本発明の方法によりえられたサーモクロミックウィンド
ガラスを図面を用いて説明する。
ガラスを図面を用いて説明する。
第1図は化学蒸着法によって直接形成した酸化バナジウ
ム(VO2)フィルムの光学的スイッチングを示すグラ
フ、 第2図は電気抵抗スイッチングを示すグラフであり、第
1図に示した光学的スイッチングに随伴するものである
。
ム(VO2)フィルムの光学的スイッチングを示すグラ
フ、 第2図は電気抵抗スイッチングを示すグラフであり、第
1図に示した光学的スイッチングに随伴するものである
。
第3図は周囲温度でコーティングしたガラス試料の太陽
光線エネルギー透過率と転移温度をこえる温度に加熱さ
れた該試料の該透過率とを比較するばあいと同様にして
、本発明により酸化バナジウムフィルムの表面をドーピ
ングしたものについての光学的スイッチングを示すグラ
フである。
光線エネルギー透過率と転移温度をこえる温度に加熱さ
れた該試料の該透過率とを比較するばあいと同様にして
、本発明により酸化バナジウムフィルムの表面をドーピ
ングしたものについての光学的スイッチングを示すグラ
フである。
第4図は本発明によるドーピングされた酸化バナジウム
フィルムの転移温度範囲について、電気抵抗を温度の関
数として示したものである。
フィルムの転移温度範囲について、電気抵抗を温度の関
数として示したものである。
多くの金属および(または)金属酸化物のコーテイング
物が太陽光線エネルギーコントロールに有用であること
は知られている。そのようなコーテイング物は構造物の
内部での熱増加を減少させるため、典型的には入射ルで
くる太陽光線エネルギーの大部分を反射し、一方、イン
テリア照明用に充分なスペクトルの可視部を透過させる
。受動的な太陽光線エネルギーコントロール用にとくに
望まれる建築用の窓は気温が高く、入射する太陽光線エ
ネルギーが最大の夏に透過率を最小にし、温度の低いと
きに太陽光線エネルギーを透過させるものである。ウィ
ンドガラスにおける可変透過率は典型的には銀ハライド
を用いることで太陽光紫外線照射により黒くなるフォト
クロミズムにより逐行しうる。
物が太陽光線エネルギーコントロールに有用であること
は知られている。そのようなコーテイング物は構造物の
内部での熱増加を減少させるため、典型的には入射ルで
くる太陽光線エネルギーの大部分を反射し、一方、イン
テリア照明用に充分なスペクトルの可視部を透過させる
。受動的な太陽光線エネルギーコントロール用にとくに
望まれる建築用の窓は気温が高く、入射する太陽光線エ
ネルギーが最大の夏に透過率を最小にし、温度の低いと
きに太陽光線エネルギーを透過させるものである。ウィ
ンドガラスにおける可変透過率は典型的には銀ハライド
を用いることで太陽光紫外線照射により黒くなるフォト
クロミズムにより逐行しうる。
しかしながら、全スペクトル領域にわたるガラスによる
太陽光線の吸収により前記ガラスのフォトクロミックな
性質を劣化させる加熱や漂白が結果としておこる。本発
明は酸化バナジウムフィルムが吸収した太陽光線エネル
ギーによって加熱されるときの光学的スイッチングの結
果であるサーモクロミック応゛答性を利用することによ
り、可変透過率を達成する際の特性を改善しようとする
ものである。
太陽光線の吸収により前記ガラスのフォトクロミックな
性質を劣化させる加熱や漂白が結果としておこる。本発
明は酸化バナジウムフィルムが吸収した太陽光線エネル
ギーによって加熱されるときの光学的スイッチングの結
果であるサーモクロミック応゛答性を利用することによ
り、可変透過率を達成する際の特性を改善しようとする
ものである。
酸化バナジウム(VO2)は68℃というわずかな温度
で単斜晶系の結晶学的クラスから正方晶系へ相転移する
。その相転移は半導体挙動から金属挙動にすばやくスイ
ッチングされることによりおこる。そのとき単結晶中の
電気抵抗は103〜105倍変化する。電導的なスイッ
チングに加え、酸化バナジウム(VO2)フィルムはま
た、第1図、第2図に示したように、可視光線のスペク
トル領域では微量なスイッチング性しか有さないが、赤
外線スペクトル領域においては本質的に光学的スイッチ
ング性を有する。
で単斜晶系の結晶学的クラスから正方晶系へ相転移する
。その相転移は半導体挙動から金属挙動にすばやくスイ
ッチングされることによりおこる。そのとき単結晶中の
電気抵抗は103〜105倍変化する。電導的なスイッ
チングに加え、酸化バナジウム(VO2)フィルムはま
た、第1図、第2図に示したように、可視光線のスペク
トル領域では微量なスイッチング性しか有さないが、赤
外線スペクトル領域においては本質的に光学的スイッチ
ング性を有する。
VO2を含有する酸化バナジウムフィルムは、たとえば
液体のバナジウム−I−プロピレートやバナジウム−〇
−プロピレートなどのような有機バナジウム化合物から
化学蒸着法によって製造される。サーモクロミックウィ
ンドガラスを受動的な太陽光線エネルギーコントロール
に役立たせるために酸化バナジウムコーティングは太陽
光赤外線スペクトル領域で広い光学的スイッチング性を
提供すべきである。すなわち、太陽光に曝露されるウィ
ンドガラスにおける実際の温度に呼応するスイッチング
のための温度領域および真珠光を避けるのに充分なフィ
ルムの薄さにおける適正なスイッチング性を有すべきで
ある。フィ?レムの厚さは約100〜1500人が好ま
しい。それらの性質は下記のようにして形成さレル酸化
バナジウムフィルムにより達成されうる。
液体のバナジウム−I−プロピレートやバナジウム−〇
−プロピレートなどのような有機バナジウム化合物から
化学蒸着法によって製造される。サーモクロミックウィ
ンドガラスを受動的な太陽光線エネルギーコントロール
に役立たせるために酸化バナジウムコーティングは太陽
光赤外線スペクトル領域で広い光学的スイッチング性を
提供すべきである。すなわち、太陽光に曝露されるウィ
ンドガラスにおける実際の温度に呼応するスイッチング
のための温度領域および真珠光を避けるのに充分なフィ
ルムの薄さにおける適正なスイッチング性を有すべきで
ある。フィ?レムの厚さは約100〜1500人が好ま
しい。それらの性質は下記のようにして形成さレル酸化
バナジウムフィルムにより達成されうる。
すなわち、酸化バナジウムの薄いフィルムは、好ましく
は標準温度、標準気圧下で液体である多くの有機バナジ
ウム化合物を使って化学蒸着法によりガラス基体に形成
されうる。ソーダ石灰−シリカフロートガラスとホウケ
イ酸ガラスは基体として有用である。該ガラス基体は該
基体の入口と出口として両端の開いている通常のチュー
ブ型炉の中で典型的には少なくとも約350℃に予熱さ
れる。急動式ブツシャ−(pusher)アームが加熱
領域に基体を入れたり、排気フードの下にあるCVDコ
ーテイング室に基体を運ぶコンベアベルトに出したりす
るのに用いられる。CVDコーテイング室には、液体の
バナジウム−I−プロピレート、バナジウム−n−プロ
ピレートなどのような有機バナジウム化合物があって、
それらは充分高温に加熱され、蒸気化される。前記有機
バナジウム化合物の蒸気は加熱された基体までガス流に
より運ばれ、そこで有機バナジウム化合物は熱分解され
、酸化バナジウムが形成される。
は標準温度、標準気圧下で液体である多くの有機バナジ
ウム化合物を使って化学蒸着法によりガラス基体に形成
されうる。ソーダ石灰−シリカフロートガラスとホウケ
イ酸ガラスは基体として有用である。該ガラス基体は該
基体の入口と出口として両端の開いている通常のチュー
ブ型炉の中で典型的には少なくとも約350℃に予熱さ
れる。急動式ブツシャ−(pusher)アームが加熱
領域に基体を入れたり、排気フードの下にあるCVDコ
ーテイング室に基体を運ぶコンベアベルトに出したりす
るのに用いられる。CVDコーテイング室には、液体の
バナジウム−I−プロピレート、バナジウム−n−プロ
ピレートなどのような有機バナジウム化合物があって、
それらは充分高温に加熱され、蒸気化される。前記有機
バナジウム化合物の蒸気は加熱された基体までガス流に
より運ばれ、そこで有機バナジウム化合物は熱分解され
、酸化バナジウムが形成される。
好ましい実施態様においては、バナジウム−1−プロピ
レートが蒸気化され、加熱されたガラス基体までチッ素
や形成ガスなどのような非酸化性ガスの気流にて運搬さ
れ、ガラス基体と接触せしめられる。酸化バナジウムコ
ーティングがガラス表面に形成されたのち、形成ガスが
フラッシュされながらガラスはトンネルを過ぎ、焼きな
まし炉へ向かい、ここでコーティングされたガラスは周
囲温度まで冷却せしめられる。
レートが蒸気化され、加熱されたガラス基体までチッ素
や形成ガスなどのような非酸化性ガスの気流にて運搬さ
れ、ガラス基体と接触せしめられる。酸化バナジウムコ
ーティングがガラス表面に形成されたのち、形成ガスが
フラッシュされながらガラスはトンネルを過ぎ、焼きな
まし炉へ向かい、ここでコーティングされたガラスは周
囲温度まで冷却せしめられる。
バナジウム−1−プロピレートからVOzが形成される
とき、結果として生じる酸化バナジウムをコーティング
したガラスは周囲温度で波長が0.8〜2.2−で太陽
光赤外線の透過率は典型的に30%をこえ半導体であり
、わずか68℃の転移温度をこえるとVO2を含有する
フィルムは特異的に電導性で、絶大陽光赤外線透過率は
15%より少なくなる。
とき、結果として生じる酸化バナジウムをコーティング
したガラスは周囲温度で波長が0.8〜2.2−で太陽
光赤外線の透過率は典型的に30%をこえ半導体であり
、わずか68℃の転移温度をこえるとVO2を含有する
フィルムは特異的に電導性で、絶大陽光赤外線透過率は
15%より少なくなる。
このようなサーモクロミックVO2コーティングガラス
はウィンドユニット用ガラスなどに使用しうるが、マル
チブルグレイズドウインドユニット配置においてガラス
基体の内側表面に存在するのが好ましい。
はウィンドユニット用ガラスなどに使用しうるが、マル
チブルグレイズドウインドユニット配置においてガラス
基体の内側表面に存在するのが好ましい。
酸化バナジウムフィルムの光学的応答性を高めるため、
酸化バナジウムコーティングの化学蒸着に先だって、ガ
ラス表面にブライマーを塗付することが有用である。最
適のブライマー塗付は厚さ 700〜800人の酸化ス
ズコーテングによりえられつる。酸化スズブライマーコ
ーティングは有機スズ化合物の熱分解析出によりえられ
る。シリコンやチタンの酸化物のフィルムもまたブライ
マーとして有用である。そのようなブライマーフィルム
の使用、とくに5n02フイルムの使用は他の酸化バナ
ジウムよりもVO2の形成および結晶化性を向上させる
ことができ、それにより光学的スイッチング性のよいV
O2に富んだフィルムが形成される結果となる。
酸化バナジウムコーティングの化学蒸着に先だって、ガ
ラス表面にブライマーを塗付することが有用である。最
適のブライマー塗付は厚さ 700〜800人の酸化ス
ズコーテングによりえられつる。酸化スズブライマーコ
ーティングは有機スズ化合物の熱分解析出によりえられ
る。シリコンやチタンの酸化物のフィルムもまたブライ
マーとして有用である。そのようなブライマーフィルム
の使用、とくに5n02フイルムの使用は他の酸化バナ
ジウムよりもVO2の形成および結晶化性を向上させる
ことができ、それにより光学的スイッチング性のよいV
O2に富んだフィルムが形成される結果となる。
前記のごときVO2を含をする酸化バナジウムフィルム
を製造する他の方法としては、たとえば (a)少なくとも約350℃までガラス基体を加熱する
こと 山)バナジウム−1−プロピレートを蒸着させること (C)前記基体への非酸化ガス流により、該ガス流中に
含有される蒸発させたバナジウム−1−プロピレートを
運搬すること 面前記加熱ガラス基体の表面と前記蒸発させたバナジウ
ム−1−プロピレートを非酸化雰囲気中でガラス基体表
面に酸化バナジウムフィルムを蒸着させるために接触さ
せること (e)還元ガス雰囲気中でVO2を含有するサーモクロ
ミックフィルムをうるために前記酸化バナジウムコーテ
ィングガラスを冷却することの各ステップからなる酸化
バナジウムフィルムの蒸若法や、 (a)少なくとも約300℃までガラス基体を加熱する
こと (11)バナジウム−1−プロピレートを蒸発させるこ
と (C)前記基体への不活性ガス流により、該ガス流中に
含有される蒸発させたバナジウム−1−プロピレートを
運搬すること (小前記基体の表面と蒸発させたバナジウム−1−プロ
ピレートとを酸化バナジウムフィルムを形成させるため
に接触させること (e)前記酸化バナジウムコーティングガラスを■20
5含有フィルムをうるために空気中で冷却すること の各ステップからなる酸化バナジウムフィルムを蒸着さ
せたのち、形成されたv205フィルムを形成ガスや形
成ガスにさらに芳香族炭化水素を含有させたもののごと
き還元雰囲気中でVO2に還元する方法、さらには (a)少なくとも約400℃までガラス基体を加熱する
こと 山)バナジウム−〇−プロピレートを蒸発させること (C)チッ素気流中の前記蒸発させたバナジウム−n−
プロピレートを前記基体に運搬すること〈小前記加熱ガ
ラス基体の表面と蒸発させたバナジウム−n−プロピレ
ートとを該表面にv203を含有するフィルムを、好ま
しくは厚さ約200〜1500人、抵抗が100Ω/口
・より少なくなるように蒸着させるために接触させるこ
と (e)前記コーティングガラス製品を酸化性が充分でな
い雰囲気中、好ましくは形成ガラス中でv203をVO
2に変換するために冷却することの各ステップからなる
伝導性コーティングガラスの製造法、 (ωバナジウム−ロープロピレートを酸化バナジウムに
変換するために充分な温度に、好ましくは少なくとも
400℃、さらに好ましくは少なくとも500℃にガラ
ス基体を加熱すること山)バナジウム−n−プロピレー
トを蒸発させること (C)VO2からなるサーモクロミックフィルムを形成
するために充分に酸化性雰囲気であるが、■205の割
合の結果としてのサーモクロミックでないフィルムを形
成するために充分に酸化性でない雰囲気中、好ましくは
不活性ガスと酸素との混合物、さらに好ましくはチッ素
と酸素との混合物、ことに好ましくはチッ素90容量%
と酸素10容量%とからなる雰囲気中で前記基体に蒸発
させたバナジウム−n−プロピレートを運搬すること (小前記加熱ガラス基体の表面と前記バナジウムn−プ
ロピレートの蒸気とをVO2を含有するフィルム、好ま
しくは厚さ約100−1500人のフィルムを該表面上
に蒸着させるために前記酸化性雰囲気中で接触させるこ
と の各ステップからなるサーモクロミックウィンドガラス
を製造するための方法、 ガラス基体をバナジウム−1−プロピレートのような液
状バナジウム化合物の溶液に浸漬させたのち、空気中で
加水分解によりフィルムを形成させ、好ましくは還元性
雰囲気中、さらに好ましくは芳香族炭化水素を含む形成
ガス雰囲気中で加熱する方法 などがあげられる。
を製造する他の方法としては、たとえば (a)少なくとも約350℃までガラス基体を加熱する
こと 山)バナジウム−1−プロピレートを蒸着させること (C)前記基体への非酸化ガス流により、該ガス流中に
含有される蒸発させたバナジウム−1−プロピレートを
運搬すること 面前記加熱ガラス基体の表面と前記蒸発させたバナジウ
ム−1−プロピレートを非酸化雰囲気中でガラス基体表
面に酸化バナジウムフィルムを蒸着させるために接触さ
せること (e)還元ガス雰囲気中でVO2を含有するサーモクロ
ミックフィルムをうるために前記酸化バナジウムコーテ
ィングガラスを冷却することの各ステップからなる酸化
バナジウムフィルムの蒸若法や、 (a)少なくとも約300℃までガラス基体を加熱する
こと (11)バナジウム−1−プロピレートを蒸発させるこ
と (C)前記基体への不活性ガス流により、該ガス流中に
含有される蒸発させたバナジウム−1−プロピレートを
運搬すること (小前記基体の表面と蒸発させたバナジウム−1−プロ
ピレートとを酸化バナジウムフィルムを形成させるため
に接触させること (e)前記酸化バナジウムコーティングガラスを■20
5含有フィルムをうるために空気中で冷却すること の各ステップからなる酸化バナジウムフィルムを蒸着さ
せたのち、形成されたv205フィルムを形成ガスや形
成ガスにさらに芳香族炭化水素を含有させたもののごと
き還元雰囲気中でVO2に還元する方法、さらには (a)少なくとも約400℃までガラス基体を加熱する
こと 山)バナジウム−〇−プロピレートを蒸発させること (C)チッ素気流中の前記蒸発させたバナジウム−n−
プロピレートを前記基体に運搬すること〈小前記加熱ガ
ラス基体の表面と蒸発させたバナジウム−n−プロピレ
ートとを該表面にv203を含有するフィルムを、好ま
しくは厚さ約200〜1500人、抵抗が100Ω/口
・より少なくなるように蒸着させるために接触させるこ
と (e)前記コーティングガラス製品を酸化性が充分でな
い雰囲気中、好ましくは形成ガラス中でv203をVO
2に変換するために冷却することの各ステップからなる
伝導性コーティングガラスの製造法、 (ωバナジウム−ロープロピレートを酸化バナジウムに
変換するために充分な温度に、好ましくは少なくとも
400℃、さらに好ましくは少なくとも500℃にガラ
ス基体を加熱すること山)バナジウム−n−プロピレー
トを蒸発させること (C)VO2からなるサーモクロミックフィルムを形成
するために充分に酸化性雰囲気であるが、■205の割
合の結果としてのサーモクロミックでないフィルムを形
成するために充分に酸化性でない雰囲気中、好ましくは
不活性ガスと酸素との混合物、さらに好ましくはチッ素
と酸素との混合物、ことに好ましくはチッ素90容量%
と酸素10容量%とからなる雰囲気中で前記基体に蒸発
させたバナジウム−n−プロピレートを運搬すること (小前記加熱ガラス基体の表面と前記バナジウムn−プ
ロピレートの蒸気とをVO2を含有するフィルム、好ま
しくは厚さ約100−1500人のフィルムを該表面上
に蒸着させるために前記酸化性雰囲気中で接触させるこ
と の各ステップからなるサーモクロミックウィンドガラス
を製造するための方法、 ガラス基体をバナジウム−1−プロピレートのような液
状バナジウム化合物の溶液に浸漬させたのち、空気中で
加水分解によりフィルムを形成させ、好ましくは還元性
雰囲気中、さらに好ましくは芳香族炭化水素を含む形成
ガス雰囲気中で加熱する方法 などがあげられる。
酸化バナジウムコーティングによる光学的スイッチング
は、カーリ−(Cary) 14スペクトルフオトメー
タ(パリアン・アソシエイツ(VarlanAssoc
lates)から市販)を使い0.8〜2.2.mのス
ペクトル領域で透過率モードにてスキャンさせて決定さ
れる。前記酸化バナジウムをコーティングしたガラス試
料をビームパスをオーブンにしたまま隔離したホルダー
に保持する。ビームパスをオーブンにしたすぐ外側のガ
ラスの端と接触させた2個の円柱状の25Wのヒータは
スイッチング温度範囲の間中、酸化バナジウムをコーテ
ィングしたガラス試料を加熱するのに使用される。スペ
クトルスキャンは試料を動かさず加熱する前と加熱した
のちの両方で行なわれる。典型的な結果を第1図に示す
。
は、カーリ−(Cary) 14スペクトルフオトメー
タ(パリアン・アソシエイツ(VarlanAssoc
lates)から市販)を使い0.8〜2.2.mのス
ペクトル領域で透過率モードにてスキャンさせて決定さ
れる。前記酸化バナジウムをコーティングしたガラス試
料をビームパスをオーブンにしたまま隔離したホルダー
に保持する。ビームパスをオーブンにしたすぐ外側のガ
ラスの端と接触させた2個の円柱状の25Wのヒータは
スイッチング温度範囲の間中、酸化バナジウムをコーテ
ィングしたガラス試料を加熱するのに使用される。スペ
クトルスキャンは試料を動かさず加熱する前と加熱した
のちの両方で行なわれる。典型的な結果を第1図に示す
。
光学的スイッチングの温度範囲は別の実験で決定される
。該実験は熱的抵抗スイッチングの値をも提供する。商
標名オメガ・アンプローブ・ファステンプ(Omega
Amprobe FasteLIlp)なるフラット
−ヘッド・プローブ型温度測定器(オメガ−エンジニア
リング(Omega Engineering)社製、
コネチカット州スタンフォード)を酸化バナジウムフィ
ルム表面を狭い幅ではがしたところにぴったり接触させ
てクリップでとめる。
。該実験は熱的抵抗スイッチングの値をも提供する。商
標名オメガ・アンプローブ・ファステンプ(Omega
Amprobe FasteLIlp)なるフラット
−ヘッド・プローブ型温度測定器(オメガ−エンジニア
リング(Omega Engineering)社製、
コネチカット州スタンフォード)を酸化バナジウムフィ
ルム表面を狭い幅ではがしたところにぴったり接触させ
てクリップでとめる。
前記プローブの両わきの近傍においてワニ皮製のクリッ
プで、電気抵抗を測定するため該プローブを抵抗計に接
続する。該抵抗は、コーティングされた試料が転移温度
領域中周熱されているため、温度の関数として測定され
る。該サンプル測定結果を第2図に示す。
プで、電気抵抗を測定するため該プローブを抵抗計に接
続する。該抵抗は、コーティングされた試料が転移温度
領域中周熱されているため、温度の関数として測定され
る。該サンプル測定結果を第2図に示す。
一般に103〜105倍の熱的電気抵抗スイッチング能
力を有する酸化バナジウム(VO2)では0.8〜2.
2urnのスペクトル領域の受動的な太陽光線エネルギ
ーコントロールに要求される程度の光学的スイッチング
を提供するのに約2倍のオーダーの熱的抵抗スイッチン
グで充分であることがわかる。比較的純度の高い酸化バ
ナジウム(VO2)の単結晶のものとして知られている
わずか68℃付近という光学的スイッチングのための温
度範囲は夏期の南向きの窓で実際にえられる約45〜6
0℃の温度範囲に近い。また、光学的スイッチングは可
視の真珠光を避けるために充分な薄さの酸化バナジウム
フィルムによってえられることは明白である。
力を有する酸化バナジウム(VO2)では0.8〜2.
2urnのスペクトル領域の受動的な太陽光線エネルギ
ーコントロールに要求される程度の光学的スイッチング
を提供するのに約2倍のオーダーの熱的抵抗スイッチン
グで充分であることがわかる。比較的純度の高い酸化バ
ナジウム(VO2)の単結晶のものとして知られている
わずか68℃付近という光学的スイッチングのための温
度範囲は夏期の南向きの窓で実際にえられる約45〜6
0℃の温度範囲に近い。また、光学的スイッチングは可
視の真珠光を避けるために充分な薄さの酸化バナジウム
フィルムによってえられることは明白である。
さらに高度の熱的電気抵抗スイッチングは少なくとも約
300℃に加熱されたガラス表面上に高度に酸化された
酸化バナジウム(V2O3)を形成するノ;めにチッ素
によって運搬される液体バナジウム−1−プロピレート
を利用することによりえられる。
300℃に加熱されたガラス表面上に高度に酸化された
酸化バナジウム(V2O3)を形成するノ;めにチッ素
によって運搬される液体バナジウム−1−プロピレート
を利用することによりえられる。
酸化バナジウムによりコーティングされたガラスは空気
でフラッシュされ、トンネル内を焼きなまし炉へと向か
い、焼きなまし炉において空気でフラッシュされる。そ
の中でコーティングされたガラスは周囲温度に冷却され
る。結果として生ずる酸化バナジウムコーティングは主
としてV2O5である。サーモクロミック■02をうる
には該、酸化バナジウムコーティングを還元性雰囲気中
、好ましくは芳香族炭化水素を少量含む形成ガス雰囲気
中、約325〜475℃の温度で還元される。前記方法
でえられるサーモクロミックVO2フィルムは第1図に
示すように周囲温度で太陽光赤外線透過率に関し、半導
体であるが、転移温度をこえるとVO2フィルムは特徴
的に電導体となり、全太陽光赤外線透過率は約10%未
満になる。熱的抵抗スイッチングは第2図に示すように
約1000倍である。
でフラッシュされ、トンネル内を焼きなまし炉へと向か
い、焼きなまし炉において空気でフラッシュされる。そ
の中でコーティングされたガラスは周囲温度に冷却され
る。結果として生ずる酸化バナジウムコーティングは主
としてV2O5である。サーモクロミック■02をうる
には該、酸化バナジウムコーティングを還元性雰囲気中
、好ましくは芳香族炭化水素を少量含む形成ガス雰囲気
中、約325〜475℃の温度で還元される。前記方法
でえられるサーモクロミックVO2フィルムは第1図に
示すように周囲温度で太陽光赤外線透過率に関し、半導
体であるが、転移温度をこえるとVO2フィルムは特徴
的に電導体となり、全太陽光赤外線透過率は約10%未
満になる。熱的抵抗スイッチングは第2図に示すように
約1000倍である。
V2O3を含有する酸化バナジウムの伝導性の薄いフィ
ルムはバナジウム−n−プロピレートを使って化学蒸着
法により形成されうる。ガラス基体は該基体が進入し、
出てゆけるように両端が開いている通常のチューブ型炉
の中で特徴的には少なくとも約450℃の温度に予備加
熱される。液体バナジウム−n−プロピレートは蒸発せ
しめられ、チッ素気流によって加熱された基体まで運搬
され、そこで存機バナジウム化合物は熱分解し、酸化バ
ナジウムを形成する。酸化バナジウムをコーティングし
たガラスは形成ガスがフラッシュされているトンネル内
を移動し、やはり形成ガスがフラッシュされている焼き
なまし炉を通過する。その中でコーティングされたガラ
スは周囲温度まで冷却せしめられる。
ルムはバナジウム−n−プロピレートを使って化学蒸着
法により形成されうる。ガラス基体は該基体が進入し、
出てゆけるように両端が開いている通常のチューブ型炉
の中で特徴的には少なくとも約450℃の温度に予備加
熱される。液体バナジウム−n−プロピレートは蒸発せ
しめられ、チッ素気流によって加熱された基体まで運搬
され、そこで存機バナジウム化合物は熱分解し、酸化バ
ナジウムを形成する。酸化バナジウムをコーティングし
たガラスは形成ガスがフラッシュされているトンネル内
を移動し、やはり形成ガスがフラッシュされている焼き
なまし炉を通過する。その中でコーティングされたガラ
スは周囲温度まで冷却せしめられる。
えられた伝導性v203フィルムの透過光は特徴的に灰
色となり(VO2のばあいは黄色ないしは茶色である)
、電気抵抗は約200〜300Ω/口を示す。好ましい
フィルムの厚さは約200〜1500人である。
色となり(VO2のばあいは黄色ないしは茶色である)
、電気抵抗は約200〜300Ω/口を示す。好ましい
フィルムの厚さは約200〜1500人である。
このようにして製造されるサーモクロミックウィンドガ
ラスは、 (a)ガラス基体および (b)25〜75℃の範囲で光学的スイッチングにより
特徴づけられているVO2を含有するコーティングであ
って、該コーティングがその転移温度領域を通って加熱
されるとき赤外線領域における総太陽光線エネルギー透
過率が少なくとも1/2に減少するようなコーティング からなる太陽光線放射エネルギーの透過率が変化しうる
製品である。
ラスは、 (a)ガラス基体および (b)25〜75℃の範囲で光学的スイッチングにより
特徴づけられているVO2を含有するコーティングであ
って、該コーティングがその転移温度領域を通って加熱
されるとき赤外線領域における総太陽光線エネルギー透
過率が少なくとも1/2に減少するようなコーティング からなる太陽光線放射エネルギーの透過率が変化しうる
製品である。
本発明によるスイッチング温度の低下したVO2フィル
ムはバナジウムのカチオン半径より、も大きなカチオン
半径をもった金属、たとえばニオブ、モリブデン、イリ
ジウム、タンタルまたはタングステンなどを含有する化
合物、たとえば酸化物でVO2を含有する酸化バナジウ
ムフィルムをドーピングすることにより製造しうる。
ムはバナジウムのカチオン半径より、も大きなカチオン
半径をもった金属、たとえばニオブ、モリブデン、イリ
ジウム、タンタルまたはタングステンなどを含有する化
合物、たとえば酸化物でVO2を含有する酸化バナジウ
ムフィルムをドーピングすることにより製造しうる。
ドーピングの方法は通常の方法で行なわれる。
本発明の1つの実施態様において、タングステンでドー
ピングされたVO2からなるサーモクロミックフィルム
をうるために実質的に加熱されるフィルムを形成するた
めに前記ガラスとバナジウム−1−プロピレートおよび
タングステンオキシクロリドからなる組成物とを周囲温
度で接触させる、具体的にはガラス基体はバナジウムー
1−プロピレート1部(容量部、以下同様)、2−ブo
ハ) −ル3部、WOCN4約2.5〜4g/flを
含有する溶液に浸漬せしめられる。フィルム形成が周囲
の空気中で加水分解により進行する。
ピングされたVO2からなるサーモクロミックフィルム
をうるために実質的に加熱されるフィルムを形成するた
めに前記ガラスとバナジウム−1−プロピレートおよび
タングステンオキシクロリドからなる組成物とを周囲温
度で接触させる、具体的にはガラス基体はバナジウムー
1−プロピレート1部(容量部、以下同様)、2−ブo
ハ) −ル3部、WOCN4約2.5〜4g/flを
含有する溶液に浸漬せしめられる。フィルム形成が周囲
の空気中で加水分解により進行する。
コーティングされたガラスはついで加熱される。
その加熱は好ましくは還元性雰囲気中、さらに好ましく
は芳香族炭化水素を含む形成ガス雰囲気中で特徴的な6
8℃未満で室温をこえた温度範囲全般にわたりスイッチ
ングするサーモクロミックVO2フィルムを形成するの
に充分な時間をかけて行なわれる。該VO2フィルムは
、第3図に示すように、周囲温度では全太陽光赤外線透
過率に関して半導体であるが、一方、転移温度範囲をこ
えるとVO2含有フィルムは特徴的に電導体となり、約
10%未満の太陽光赤外線透過率をもつようになる。
は芳香族炭化水素を含む形成ガス雰囲気中で特徴的な6
8℃未満で室温をこえた温度範囲全般にわたりスイッチ
ングするサーモクロミックVO2フィルムを形成するの
に充分な時間をかけて行なわれる。該VO2フィルムは
、第3図に示すように、周囲温度では全太陽光赤外線透
過率に関して半導体であるが、一方、転移温度範囲をこ
えるとVO2含有フィルムは特徴的に電導体となり、約
10%未満の太陽光赤外線透過率をもつようになる。
つぎに本発明の方法を実施例および参考例に基づき説明
するが、本発明は該記載に限定されるものではなく、よ
り広い意味で理解されるべきものである。
するが、本発明は該記載に限定されるものではなく、よ
り広い意味で理解されるべきものである。
参考例1
ガラス基体を約635°Cの温度に加熱し、ジブチルス
ズジアセテート2部とメタノール1部とからなる溶液に
接触させた。厚さ約700〜800人の酸化スズコーテ
ィングを該ガラス表面に形成した。液体バナジウム−1
−プロピレートを有し、該有機バナジウム化合物を蒸発
させるため127℃に加熱した化学蒸着室に酸化スズを
プライマーとして塗付したガラスを通した。チッ素中の
該有機バナジウム化合物の蒸気を移動する約530℃の
ガラス基体まで運搬した。ガラス基体表面に形成された
酸化バナジウムフィルムは蛍光照明法における透過にお
いて黄色であった。
ズジアセテート2部とメタノール1部とからなる溶液に
接触させた。厚さ約700〜800人の酸化スズコーテ
ィングを該ガラス表面に形成した。液体バナジウム−1
−プロピレートを有し、該有機バナジウム化合物を蒸発
させるため127℃に加熱した化学蒸着室に酸化スズを
プライマーとして塗付したガラスを通した。チッ素中の
該有機バナジウム化合物の蒸気を移動する約530℃の
ガラス基体まで運搬した。ガラス基体表面に形成された
酸化バナジウムフィルムは蛍光照明法における透過にお
いて黄色であった。
酸化バナジウムフィルムは約55〜75℃の温度範囲に
わたり転移を示した。該フィルムの電気的スイッチング
は周囲温度での約13000Ωがら転移温度範囲をこえ
たばあいの約500oΩまでであった。電気的スイッチ
ングに随伴する光学的スイッチングの結果を第1図に示
す。
わたり転移を示した。該フィルムの電気的スイッチング
は周囲温度での約13000Ωがら転移温度範囲をこえ
たばあいの約500oΩまでであった。電気的スイッチ
ングに随伴する光学的スイッチングの結果を第1図に示
す。
参考例2
バナジウム−1−プロピレートを化学蒸着室で127℃
に加熱した。該有機バナジウム化合物蒸気は酸化バナジ
ウムフィルムをガラス基体に蒸着させるため、約400
℃の温度にあらかじめ加熱された移動するガラス基体ま
でチッ素に含有せしめられて運搬された。該コーティン
グされたガラスを空気中で周囲温度まで冷却すると、V
2O5からなる酸化バナジウム組成物が生成した。該■
205フィルムはカリフラックス(Callf’1ux
)TT (プロセス油、ライトコ(Wltco)ケミカ
ル社製、カリフォルニア州ロスアンゼルス)浴を160
℃に加熱してえられる芳香族炭化水素を含有する形成ガ
ス雰囲気中で約450〜463℃の温度、約23分間加
熱することにより、サーモクロミックVO2に還元した
。該VO2フィルムは第2図に示すように周囲温度でt
OSΩをこえる電気抵抗から68℃をこえたばあいの約
500〜800Ωまでの電気抵抗である電気的スイッチ
ングを示し、約500〜800Ωのとき 0.8〜2.
2部mの太陽光線放射エネルギーの透過率は10%未満
であった。なお、周囲温度での太陽光線放射エネルギー
の透過率は参考例1のものについての第1図の結果とほ
ぼ同じであった。
に加熱した。該有機バナジウム化合物蒸気は酸化バナジ
ウムフィルムをガラス基体に蒸着させるため、約400
℃の温度にあらかじめ加熱された移動するガラス基体ま
でチッ素に含有せしめられて運搬された。該コーティン
グされたガラスを空気中で周囲温度まで冷却すると、V
2O5からなる酸化バナジウム組成物が生成した。該■
205フィルムはカリフラックス(Callf’1ux
)TT (プロセス油、ライトコ(Wltco)ケミカ
ル社製、カリフォルニア州ロスアンゼルス)浴を160
℃に加熱してえられる芳香族炭化水素を含有する形成ガ
ス雰囲気中で約450〜463℃の温度、約23分間加
熱することにより、サーモクロミックVO2に還元した
。該VO2フィルムは第2図に示すように周囲温度でt
OSΩをこえる電気抵抗から68℃をこえたばあいの約
500〜800Ωまでの電気抵抗である電気的スイッチ
ングを示し、約500〜800Ωのとき 0.8〜2.
2部mの太陽光線放射エネルギーの透過率は10%未満
であった。なお、周囲温度での太陽光線放射エネルギー
の透過率は参考例1のものについての第1図の結果とほ
ぼ同じであった。
参考例3
バナジウム−n−プロピレートを127℃に加熱して蒸
発させ、該蒸気を約530℃の温度に予備加熱した移動
するガラス基体までチッ素に含有させて運搬した。電導
性酸化バナジウム(V2O3)フィルムがガラス基体上
に形成された。該コーティングされたガラスを形成ガス
雰囲気中で冷却した。酸化バナジウムフィルムは蛍光照
明法における透過において灰色であり、光透過率が約2
4%である厚さにおいて周囲温度中、約150〜190
Ω/口の抵抗を示した。なお、68°Cをこえる温度で
の太陽光線放射エネルギーの透過率は参考例1のものに
ついての第1図の結果とほぼ同じであった。
発させ、該蒸気を約530℃の温度に予備加熱した移動
するガラス基体までチッ素に含有させて運搬した。電導
性酸化バナジウム(V2O3)フィルムがガラス基体上
に形成された。該コーティングされたガラスを形成ガス
雰囲気中で冷却した。酸化バナジウムフィルムは蛍光照
明法における透過において灰色であり、光透過率が約2
4%である厚さにおいて周囲温度中、約150〜190
Ω/口の抵抗を示した。なお、68°Cをこえる温度で
の太陽光線放射エネルギーの透過率は参考例1のものに
ついての第1図の結果とほぼ同じであった。
実施例1
フロートガラスの透明なシートを周囲温度でバナジウム
−1−プロピレート1部、2−プロバノ−ル3部、WO
Cl4約4g/約4壱/有する溶液に浸漬し、ガラスを
引きあげた。透明フィルムを形成するため周囲の空気中
で加水分解させた。該フィルムは透過により黄色になっ
た。ついで該コーティングガラスを形成ガス中、375
℃に加熱した。1分間該コーティングガラスを、該形成
ガス気流中に含有されて運搬された炭化水素蒸気にさら
した。該炭化水素蒸気は、前記カリフラックスTT浴を
160℃に加熱することによりえられた。結果としてえ
られた酸化バナジウム(VO2)でコーティングされた
ガラスは第3図に示すような光学的スイッチングを示し
、第4図に示すような転移温度を有していた。
−1−プロピレート1部、2−プロバノ−ル3部、WO
Cl4約4g/約4壱/有する溶液に浸漬し、ガラスを
引きあげた。透明フィルムを形成するため周囲の空気中
で加水分解させた。該フィルムは透過により黄色になっ
た。ついで該コーティングガラスを形成ガス中、375
℃に加熱した。1分間該コーティングガラスを、該形成
ガス気流中に含有されて運搬された炭化水素蒸気にさら
した。該炭化水素蒸気は、前記カリフラックスTT浴を
160℃に加熱することによりえられた。結果としてえ
られた酸化バナジウム(VO2)でコーティングされた
ガラスは第3図に示すような光学的スイッチングを示し
、第4図に示すような転移温度を有していた。
前記実施例および参考例は、本発明を説明するためのも
のである。ホウケイ酸ガラスなどのような他の多くの基
体も本発明による酸化バナジウムフィルムの製造に使用
しうる。他の有機バナジウム化合物、たとえばバナジウ
ムエチレ−ト(ethylate)、バナジウムブチレ
ート(butylate)、バナジウムオキシクロリド
、VOCl3なども使用しうる。■205ののちの蒸着
還元は蒸着中の該室雰囲気中に芳香族炭化水素のような
還元剤を共存させることにより避けられる。ニオブ、モ
リブデン、イリジウム、タンタル化合物のような他のド
ーパントもタングステン化合物と同様に使用しうる。本
発明の製法は、とくに化学蒸着法を採用するばあい、連
続したフロートガラスの工程などにおける移動するガラ
スリボンのコーティングにとくに有用である。化学蒸着
法に関する有用な方法や装置は米国特許第3.850,
679号明細書、米国特許第3.951,100号明細
書に記載されており、それらの開示はここでは参考文献
としてあげである。
のである。ホウケイ酸ガラスなどのような他の多くの基
体も本発明による酸化バナジウムフィルムの製造に使用
しうる。他の有機バナジウム化合物、たとえばバナジウ
ムエチレ−ト(ethylate)、バナジウムブチレ
ート(butylate)、バナジウムオキシクロリド
、VOCl3なども使用しうる。■205ののちの蒸着
還元は蒸着中の該室雰囲気中に芳香族炭化水素のような
還元剤を共存させることにより避けられる。ニオブ、モ
リブデン、イリジウム、タンタル化合物のような他のド
ーパントもタングステン化合物と同様に使用しうる。本
発明の製法は、とくに化学蒸着法を採用するばあい、連
続したフロートガラスの工程などにおける移動するガラ
スリボンのコーティングにとくに有用である。化学蒸着
法に関する有用な方法や装置は米国特許第3.850,
679号明細書、米国特許第3.951,100号明細
書に記載されており、それらの開示はここでは参考文献
としてあげである。
多くの雰囲気、たとえば空気のような酸化性雰囲気、チ
ッ素、アルゴンのような不活性雰囲気、および形成ガス
または不活性ガスと還元剤との混合物などによる還元性
雰囲気が使用されうる。
ッ素、アルゴンのような不活性雰囲気、および形成ガス
または不活性ガスと還元剤との混合物などによる還元性
雰囲気が使用されうる。
真空蒸着法のような他のコーティング方法も使用されう
る。本発明によるサーモクロミックVO2フィルムは該
フィルムの赤外線透過率変動による太陽光線エネルギー
コントロールのため、マルチブルグレイズドウインドユ
ニットにとくに好ましく使用される。マルチブルグレイ
ズドウインドユニット配置については米国特許第3.9
19,023号明細書に記載されており、その開示をこ
こでは参考文献としてあげられる。
る。本発明によるサーモクロミックVO2フィルムは該
フィルムの赤外線透過率変動による太陽光線エネルギー
コントロールのため、マルチブルグレイズドウインドユ
ニットにとくに好ましく使用される。マルチブルグレイ
ズドウインドユニット配置については米国特許第3.9
19,023号明細書に記載されており、その開示をこ
こでは参考文献としてあげられる。
第1図は化学蒸着法によって直接形成した酸化バナジウ
ム(VO2)フィルムの光学的スイッチングを示すグラ
フ、第2図は酸化バナジウムフィルムの電気抵抗スイッ
チングを示すグラフ、第3図は酸化バナジウムフィルム
の表面をドーピングしたものの光学的スイッチングを示
すグラフ、第4図はドーピングした酸化バナジウムフィ
ルムの転移温度領域における電気抵抗と温度との関係を
示すグラフである。 波 長 (/’m) FIG、1 温 度(’C) (181,0+、2 1.4 1.6 +、8
2.0 2.2波 長 (l’m) FIG、 3
ム(VO2)フィルムの光学的スイッチングを示すグラ
フ、第2図は酸化バナジウムフィルムの電気抵抗スイッ
チングを示すグラフ、第3図は酸化バナジウムフィルム
の表面をドーピングしたものの光学的スイッチングを示
すグラフ、第4図はドーピングした酸化バナジウムフィ
ルムの転移温度領域における電気抵抗と温度との関係を
示すグラフである。 波 長 (/’m) FIG、1 温 度(’C) (181,0+、2 1.4 1.6 +、8
2.0 2.2波 長 (l’m) FIG、 3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ガラス基体の表面とバナジウム化合物とを接触させ
ることおよびVO_2を含有する酸化バナジウムフィル
ムをうるために充分な温度にガラス基体を加熱すること
の各ステップからなる方法によりサーモクロミックウィ
ンドガラスを製造する際に、VO_2のスイッチング温
度を低くする化合物で前記フィルムをドーピングするこ
とを特徴とするサーモクロミックウィンドガラスの製法
。 2 ドーパントが金属化合物であり、そのイオン半径が
バナジウムのイオン半径よりも大きい特許請求の範囲第
1項記載の製法。 3 VO_2のスイッチング温度を低くするドーパント
が、ニオブ、タンタル、モリブデン、イリジウムおよび
タングステンを含有する化合物からえらばれた特許請求
の範囲第2項記載の製法。 4 前記バナジウム化合物がバナジウム−n−プロピレ
ート、バナジウムエチレート、バナジウムオキシクロリ
ドおよびそれらの混合物よりなる群からえらばれた特許
請求の範囲第1項記載の製法。 5 VO_2からなるタングステンでドーピングされた
サーモクロミックフィルムをうるために実質的に加熱さ
れるフィルムを形成するために前記ガラスとバナジウム
−1−プロピレートおよびタングステンオキシクロリド
からなる組成物とを周囲温度で接触させる特許請求の範
囲第4項記載の製法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US344906 | 1982-02-01 | ||
US06/344,257 US4393095A (en) | 1982-02-01 | 1982-02-01 | Chemical vapor deposition of vanadium oxide coatings |
US344860 | 1982-02-01 | ||
US344257 | 1982-02-01 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62256743A true JPS62256743A (ja) | 1987-11-09 |
Family
ID=23349727
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58016008A Granted JPS58135154A (ja) | 1982-02-01 | 1983-02-01 | 酸化バナジウムコ−ティング製品 |
JP62062350A Pending JPS62256743A (ja) | 1982-02-01 | 1987-03-17 | サ−モクロミツクウインドガラスの製法 |
JP62062349A Pending JPS62256742A (ja) | 1982-02-01 | 1987-03-17 | 酸化バナジウムフイルムの化学蒸着法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58016008A Granted JPS58135154A (ja) | 1982-02-01 | 1983-02-01 | 酸化バナジウムコ−ティング製品 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62062349A Pending JPS62256742A (ja) | 1982-02-01 | 1987-03-17 | 酸化バナジウムフイルムの化学蒸着法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4393095A (ja) |
JP (3) | JPS58135154A (ja) |
BE (1) | BE895752A (ja) |
CA (1) | CA1198019A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03137039A (ja) * | 1989-02-23 | 1991-06-11 | Asahi Glass Co Ltd | 熱線反射物品 |
JPH07331430A (ja) * | 1994-06-08 | 1995-12-19 | Agency Of Ind Science & Technol | サーモクロミック材料の製造法 |
JPH083546A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-01-09 | Agency Of Ind Science & Technol | サーモクロミック材料の製造方法 |
JP2006206398A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 高断熱自動調光ガラス及びその製造方法 |
WO2011118700A1 (ja) * | 2010-03-24 | 2011-09-29 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光学用二酸化バナジウム薄膜の製造方法 |
Families Citing this family (63)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4820377A (en) * | 1987-07-16 | 1989-04-11 | Texas Instruments Incorporated | Method for cleanup processing chamber and vacuum process module |
US4838984A (en) * | 1987-07-16 | 1989-06-13 | Texas Instruments Incorporated | Method for etching films of mercury-cadmium-telluride and zinc sulfid |
US4837113A (en) * | 1987-07-16 | 1989-06-06 | Texas Instruments Incorporated | Method for depositing compound from group II-VI |
US4832779A (en) * | 1987-07-16 | 1989-05-23 | Texas Instruments Incorporated | Processing apparatus |
US4842676A (en) * | 1987-07-16 | 1989-06-27 | Texas Instruments Incorporated | Process for etch of tungsten |
US4830705A (en) * | 1987-07-16 | 1989-05-16 | Texas Instruments Incorporated | Method for etch of GaAs |
US4872938A (en) * | 1987-07-16 | 1989-10-10 | Texas Instruments Incorporated | Processing apparatus |
US4849067A (en) * | 1987-07-16 | 1989-07-18 | Texas Instruments Incorporated | Method for etching tungsten |
US4818326A (en) * | 1987-07-16 | 1989-04-04 | Texas Instruments Incorporated | Processing apparatus |
US4855160A (en) * | 1987-07-16 | 1989-08-08 | Texas Instruments Incorporated | Method for passivating wafer |
US4844773A (en) * | 1987-07-16 | 1989-07-04 | Texas Instruments Incorporated | Process for etching silicon nitride film |
US4832778A (en) * | 1987-07-16 | 1989-05-23 | Texas Instruments Inc. | Processing apparatus for wafers |
US4828649A (en) * | 1987-07-16 | 1989-05-09 | Texas Instruments Incorporated | Method for etching an aluminum film doped with silicon |
US4867841A (en) * | 1987-07-16 | 1989-09-19 | Texas Instruments Incorporated | Method for etch of polysilicon film |
US4904621A (en) * | 1987-07-16 | 1990-02-27 | Texas Instruments Incorporated | Remote plasma generation process using a two-stage showerhead |
US4863558A (en) * | 1987-07-16 | 1989-09-05 | Texas Instruments Incorporated | Method for etching tungsten |
US4832777A (en) * | 1987-07-16 | 1989-05-23 | Texas Instruments Incorporated | Processing apparatus and method |
US4855016A (en) * | 1987-07-16 | 1989-08-08 | Texas Instruments Incorporated | Method for etching aluminum film doped with copper |
US4842687A (en) * | 1987-07-16 | 1989-06-27 | Texas Instruments Incorporated | Method for etching tungsten |
US4822450A (en) * | 1987-07-16 | 1989-04-18 | Texas Instruments Incorporated | Processing apparatus and method |
US4857132A (en) * | 1987-07-16 | 1989-08-15 | Texas Instruments Incorporated | Processing apparatus for wafers |
US4816098A (en) * | 1987-07-16 | 1989-03-28 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus for transferring workpieces |
US4838990A (en) * | 1987-07-16 | 1989-06-13 | Texas Instruments Incorporated | Method for plasma etching tungsten |
US4830700A (en) * | 1987-07-16 | 1989-05-16 | Texas Instruments Incorporated | Processing apparatus and method |
US4842686A (en) * | 1987-07-17 | 1989-06-27 | Texas Instruments Incorporated | Wafer processing apparatus and method |
JP2588910B2 (ja) * | 1987-10-26 | 1997-03-12 | 日本板硝子株式会社 | 改良された調光体 |
US5318108A (en) * | 1988-04-15 | 1994-06-07 | Midwest Research Institute | Gas-controlled dynamic vacuum insulation with gas gate |
US4988533A (en) * | 1988-05-27 | 1991-01-29 | Texas Instruments Incorporated | Method for deposition of silicon oxide on a wafer |
JPH041926U (ja) * | 1990-04-23 | 1992-01-09 | ||
US5274241A (en) * | 1990-07-19 | 1993-12-28 | Westinghouse Electric Corp. | Optical and electromagnetic field |
US5103103A (en) * | 1990-07-19 | 1992-04-07 | Westinghouse Electric Corp. | Microwave shield |
US5580662A (en) * | 1995-03-09 | 1996-12-03 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Antistatic coating for video display screen |
US5572086A (en) * | 1995-05-18 | 1996-11-05 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Broadband antireflective and antistatic coating for CRT |
FR2738813B1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
US5652477A (en) * | 1995-11-08 | 1997-07-29 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Multilayer antistatic/antireflective coating for display device |
US5773150A (en) * | 1995-11-17 | 1998-06-30 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Polymeric antistatic coating for cathode ray tubes |
GB9619781D0 (en) | 1996-09-23 | 1996-11-06 | Secr Defence | Multi layer interference coatings |
US20020155299A1 (en) | 1997-03-14 | 2002-10-24 | Harris Caroline S. | Photo-induced hydrophilic article and method of making same |
US20030039843A1 (en) * | 1997-03-14 | 2003-02-27 | Christopher Johnson | Photoactive coating, coated article, and method of making same |
US7096692B2 (en) * | 1997-03-14 | 2006-08-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same |
US5989514A (en) * | 1997-07-21 | 1999-11-23 | Nanogram Corporation | Processing of vanadium oxide particles with heat |
US6579612B1 (en) | 1999-06-24 | 2003-06-17 | International Business Machines Corporation | Magnetostrictive sensor structure |
FR2809388B1 (fr) * | 2000-05-23 | 2002-12-20 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage comprenant au moins une couche a proprietes thermochromes |
US7323249B2 (en) * | 2000-08-31 | 2008-01-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby |
US6677063B2 (en) | 2000-08-31 | 2004-01-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby |
US6623662B2 (en) | 2001-05-23 | 2003-09-23 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Carbon black coating for CRT display screen with uniform light absorption |
US6746530B2 (en) | 2001-08-02 | 2004-06-08 | Chunghwa Pictures Tubes, Ltd. | High contrast, moisture resistant antistatic/antireflective coating for CRT display screen |
JP3849008B2 (ja) * | 2001-09-20 | 2006-11-22 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 高性能自動調光窓コーティング材料 |
US6521346B1 (en) | 2001-09-27 | 2003-02-18 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Antistatic/antireflective coating for video display screen with improved refractivity |
US6764580B2 (en) * | 2001-11-15 | 2004-07-20 | Chungwa Picture Tubes, Ltd. | Application of multi-layer antistatic/antireflective coating to video display screen by sputtering |
US6656331B2 (en) | 2002-04-30 | 2003-12-02 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Application of antistatic/antireflective coating to a video display screen |
TWI252150B (en) * | 2005-03-22 | 2006-04-01 | Speed Tech Corp | In mold decoration fabrication of injection molding |
KR100842287B1 (ko) * | 2006-07-06 | 2008-06-30 | 한국전자통신연구원 | 급격한 금속-절연체 전이를 갖는 v2o3 박막의 제조방법 |
WO2008004787A1 (en) * | 2006-07-06 | 2008-01-10 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Method of forming vanadium trioxide thin film showing abrupt metal-insulator transition |
US7761053B2 (en) * | 2006-09-08 | 2010-07-20 | Mpb Communications Inc. | Variable emittance thermochromic material and satellite system |
DE102007061272A1 (de) | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Schott Ag | Schichten, insbesondere photonische Schichten, enthaltend thermochrome Verbindungen, auf Glas- oder Glaskeramiksubstraten |
US8334161B2 (en) * | 2010-07-02 | 2012-12-18 | Sunpower Corporation | Method of fabricating a solar cell with a tunnel dielectric layer |
EP2450322A1 (en) * | 2010-09-13 | 2012-05-09 | Korea Electronics Technology Institute | Double window / door system for blocking infrared rays |
US9952096B2 (en) | 2012-06-05 | 2018-04-24 | President And Fellows Of Harvard College | Ultra-thin optical coatings and devices and methods of using ultra-thin optical coatings |
CN103014701A (zh) * | 2012-12-22 | 2013-04-03 | 蚌埠玻璃工业设计研究院 | 一种二氧化钒薄膜的制备方法 |
CN106892573A (zh) * | 2017-03-20 | 2017-06-27 | 武汉理工大学 | 一种环保型热致变色二氧化钒薄膜的制备方法 |
CN108515009A (zh) * | 2018-04-12 | 2018-09-11 | 四川星明能源环保科技有限公司 | A相二氧化钒薄膜及其制备方法 |
CN116655255B (zh) * | 2023-08-01 | 2023-10-13 | 中国耀华玻璃集团有限公司 | 一种易清洁的温致节能阳光控制膜玻璃及在线生产方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3483110A (en) * | 1967-05-19 | 1969-12-09 | Bell Telephone Labor Inc | Preparation of thin films of vanadium dioxide |
JPS4989716A (ja) * | 1972-12-15 | 1974-08-27 | ||
JPS4990313A (ja) * | 1972-12-21 | 1974-08-29 | ||
JPS5141643A (ja) * | 1974-10-05 | 1976-04-08 | Daito Kiko Kk | Metsukyokaitenkago |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4307942A (en) * | 1974-05-20 | 1981-12-29 | The Southwall Corporation | Solar control system |
-
1982
- 1982-02-01 US US06/344,257 patent/US4393095A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-01-31 CA CA000420619A patent/CA1198019A/en not_active Expired
- 1983-01-31 BE BE0/210006A patent/BE895752A/fr unknown
- 1983-02-01 JP JP58016008A patent/JPS58135154A/ja active Granted
-
1987
- 1987-03-17 JP JP62062350A patent/JPS62256743A/ja active Pending
- 1987-03-17 JP JP62062349A patent/JPS62256742A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3483110A (en) * | 1967-05-19 | 1969-12-09 | Bell Telephone Labor Inc | Preparation of thin films of vanadium dioxide |
JPS4989716A (ja) * | 1972-12-15 | 1974-08-27 | ||
JPS4990313A (ja) * | 1972-12-21 | 1974-08-29 | ||
JPS5141643A (ja) * | 1974-10-05 | 1976-04-08 | Daito Kiko Kk | Metsukyokaitenkago |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03137039A (ja) * | 1989-02-23 | 1991-06-11 | Asahi Glass Co Ltd | 熱線反射物品 |
JPH07331430A (ja) * | 1994-06-08 | 1995-12-19 | Agency Of Ind Science & Technol | サーモクロミック材料の製造法 |
JPH083546A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-01-09 | Agency Of Ind Science & Technol | サーモクロミック材料の製造方法 |
JP2006206398A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 高断熱自動調光ガラス及びその製造方法 |
JP4533996B2 (ja) * | 2005-01-28 | 2010-09-01 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 高断熱自動調光ガラス及びその製造方法 |
WO2011118700A1 (ja) * | 2010-03-24 | 2011-09-29 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光学用二酸化バナジウム薄膜の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE895752A (fr) | 1983-08-01 |
JPS58135154A (ja) | 1983-08-11 |
JPS6238313B2 (ja) | 1987-08-17 |
JPS62256742A (ja) | 1987-11-09 |
US4393095A (en) | 1983-07-12 |
CA1198019A (en) | 1985-12-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62256743A (ja) | サ−モクロミツクウインドガラスの製法 | |
US4400412A (en) | Thermochromic vanadium oxide coated glass | |
US4401690A (en) | Thermochromic vanadium oxide with depressed switching temperature | |
Kurtz et al. | Chemical vapor deposition of titanium nitride at low temperatures | |
US4371740A (en) | Conductive elements for photovoltaic cells | |
US6221495B1 (en) | Thin transparent conducting films of cadmium stannate | |
Lu et al. | Surface analysis and phase transition of gel-derived VO2 thin films | |
US3944684A (en) | Process for depositing transparent, electrically conductive tin containing oxide coatings on a substrate | |
CA2614881C (en) | Method of thermally tempering coated article with transparent conductive oxide (tco) coating using flame(s) in tempering furnace adjacent tco to burn off oxygen and product made using same | |
CA1121666A (en) | Tin oxide coatings | |
Rao et al. | Growth and characterization of vacuum evaporated WO3 thin films for electrochromic device application | |
GB2114965A (en) | Vanadium oxide coatings | |
JPS6236046A (ja) | 酸化錫膜の形成方法 | |
Mitsugi et al. | Pulsed laser deposited WO3 thin films for gas sensor | |
JP6437006B2 (ja) | 酸化バナジウム膜およびその製造方法 | |
Kuypers et al. | Plasma-enhanced CVD of electrochromic materials | |
Harizanov et al. | Sol-gel and CVD-metal oxide coatings for solar energy utilization | |
IE850906L (en) | Liquid coating for producing flourine-doped tin oxide¹coating for glass. | |
WO2011118700A1 (ja) | 光学用二酸化バナジウム薄膜の製造方法 | |
Zimmermann et al. | Controlled crystallinity of TiO2 layers grown by atmospheric pressure spatial atomic layer deposition and their impact on perovskite solar cell efficiency | |
JP2009517312A (ja) | 基板上への酸化ルテニウムコーティングの蒸着 | |
JPH07330336A (ja) | 酸化スズ(iv)膜の成膜方法 | |
CN105799276B (zh) | 一种热色智能膜及其制备方法 | |
Rao | Effect of substrate temperature on the structural and electrical conduction behaviour of vacuum evaporated WO3 thin films | |
Binions | Thermochromic Thin Films and Nanocomposites for Smart Glazing |