JPS62249472A - 相補型半導体集積回路装置 - Google Patents

相補型半導体集積回路装置

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JPS62249472A
JPS62249472A JP61093621A JP9362186A JPS62249472A JP S62249472 A JPS62249472 A JP S62249472A JP 61093621 A JP61093621 A JP 61093621A JP 9362186 A JP9362186 A JP 9362186A JP S62249472 A JPS62249472 A JP S62249472A
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JP
Japan
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output transistor
wiring
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polycide
output
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Koji Eguchi
江口 宏次
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
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    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • H01L27/092Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は相補型半導体集積回路装置に関し、特に出力ト
ランジスタと電源配線との接続に関する。
〔従来の技術〕
従来、例えば多ビツト系の相補fiMOsメモリ回路装
置の出力回路部のレイアウトパターンおよびその等価回
路としては、第3図及び第4図に示すように、Pチャン
ネル出力トランジスタ31のソース領域32とvcog
L源のアルミ配線33とが、又Nチャンネル出力トラン
ジスタ34のソース領域35とGND電源のアルミ配線
36とがそれぞれオーミック接続されている。−力出力
端子用ボンディングパッド37からはPチャンネル出力
トランジスタ31のドレイン領域38には直接アルミ配
線でオーミック接続されるがNチャンネル出力トランジ
スタ34のドレイン領域39とはN+拡散抵抗40を介
してアルミ配線でオーミック接続されていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来の出力回路パターンレイアウト法ではVC
C電源用アルミ配線がNチャンネル出力トランジスタの
ドレイ/領域上t−通過する為ドレイン領域のN+拡散
層を延長して、トンネル配線を形成する必要がある。通
常N+拡散層の層抵抗は約50Ω/口程度あ)、上述し
たトンネル配線のパターンレイプラトでは、数十オーム
のトンネル抵抗が形成されてしまい、出力電流、出力電
圧。
動作スピード等の回路特性に悪影響を及ぼすという欠点
がある。
特に、複数の出力回路をもつ多ピット系相補型L′VL
OS メーt=9回路装置では、GND、 Vcc 両
電源アルミ配線幅が太くなシ、このトンネル抵抗値が大
きくなる。上述したトンネル抵抗値を小さくする方法と
して、N十拡散層の幅を広げ長さ7幅の比を小さくする
方法があるが、端子容量の増加やパターンレイアウト面
積の制限から実現でさず大きな問題となる。
〔問題点を解決するだめの手段〕
本発明は、出力回路の出力トランジスタのソース領域と
電源との接続にポリサイドによるトンネル配線全使用し
たものである。
本発明の相補型半導体集積回路装置は、複数の出力回路
を有する相補型半導体集積回路装置において、出力回路
を構成する出力トランジスタのソース領域と電源配線と
がポリサイド配線で接続されていることを特徴とする。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は相補型MOSメモリ回路の出力回路レイアウト
パターンであり、第2図は第1図のトンネル抵抗を含む
等価回路である。Nチャンネル出力トランジスタ11の
ソース領域12はGND′i!源用アルミ配線13に直
接オーミック接続される。
一方Pチャンネル出力トランジスタ14のソース領域1
5はタングステンポリサイドによるポリサイド配線16
によるトンネル配線を介して、Vcc・電源用アルミ配
線17にオーミック接続されている。出力端子用ポンデ
ィングパッド18からはNチャンネル出力トランジスタ
11及びPチャンネル出力トランジスタ14のドレイン
領域19.20へアルミ配線21,22によシそれぞれ
オーミック接続されている。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、出力トランジスタのソー
ス領域と電源線との接続にポリサイド配線を使用するこ
とにより、従来のN+拡散層配線を使用した場合と比較
して、抵抗値を1桁以上小さくでき、従ってレイアウト
パターン面積の増加を必要とせず、出力電流、出力電圧
及び動作スピード等の回路特性改善に寄与する効果があ
る。
同、本実施例ではポリサイド配線をPチャンネル出力ト
ランジスタのソース領域とVcc電源用アルミ配線との
接続に使用したが、逆に、Nチャンネル出力トランジス
タのソース領域とGNDi源用アルミ配線の接続に使用
しても良い。又、ポリサイド配線にはタングステンの他
にモリブデンやチタン等によるポリサイドを用いても良
い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の出力回路のレイアウトパタ
ーン図、第2図は第1図の等価回路、第3図は従来の出
力回路のレイアウトパターン図、第4図は第3図の等価
回路図である。 11.34・・・・−Nチャンネル出力トランジスタ、
14.31・・・・・・Pチャンネル出力トランジスタ
、12.35・・・・・・Nチャンネル出力トランジス
タのソース領域、15.32・・・・・・Pチャンネル
出力トランジスタのソース領域、13.36・・・・・
・GND電源用アルミ配線、17.33・・・・・・V
cc電源用アルミ配線、18,37゛・°°°°出力端
子用ポンディングパッド、16・・・・・・ポリサイド
配線、40・・−・・・N+拡散層配線。 代理人 弁理士  内 原   1  日( 5t7/  図 第 2 凹

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数の出力回路を有する相補型半導体集積回路装置にお
    いて、出力回路を構成する出力トランジスタのソース領
    域と電源配線とがポリサイド配線で接続されていること
    を特徴とする相補型半導体集積回路装置。
JP61093621A 1986-04-22 1986-04-22 相補型半導体集積回路装置 Expired - Lifetime JPH0682791B2 (ja)

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JPH0682791B2 JPH0682791B2 (ja) 1994-10-19

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60154554A (ja) * 1984-01-24 1985-08-14 Nec Corp 相補型絶縁ゲ−ト電界効果半導体装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60154554A (ja) * 1984-01-24 1985-08-14 Nec Corp 相補型絶縁ゲ−ト電界効果半導体装置

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