JPS62248134A - 磁気デイスクの表面加工法 - Google Patents
磁気デイスクの表面加工法Info
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- JPS62248134A JPS62248134A JP9156486A JP9156486A JPS62248134A JP S62248134 A JPS62248134 A JP S62248134A JP 9156486 A JP9156486 A JP 9156486A JP 9156486 A JP9156486 A JP 9156486A JP S62248134 A JPS62248134 A JP S62248134A
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- disk
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- Pending
Links
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ディスクの表面加工法に関する〔従来の
技術〕 る表面加工は、下地処理した非磁性基板に、研磨テープ
を圧着接触させ、前記下地処理した非磁性基板と、前記
研磨テープとを、相対運動させることにより、なされて
いた。
技術〕 る表面加工は、下地処理した非磁性基板に、研磨テープ
を圧着接触させ、前記下地処理した非磁性基板と、前記
研磨テープとを、相対運動させることにより、なされて
いた。
しかし、前述の従来技術では、研磨テープ中の研磨粒子
の接触により、表面加工がなされるため、凹凸に加工す
る場合、精度等の管理が難しく、第２図に示すように、
不規則な凹凸の形状になりがちであった。特に高い凸部
がある場合、低浮上で、磁気ディスク上を飛ぶ磁気ヘッ
ドに接触し、最悪の場合、磁気ヘッドを堕落せしめる。
の接触により、表面加工がなされるため、凹凸に加工す
る場合、精度等の管理が難しく、第２図に示すように、
不規則な凹凸の形状になりがちであった。特に高い凸部
がある場合、低浮上で、磁気ディスク上を飛ぶ磁気ヘッ
ドに接触し、最悪の場合、磁気ヘッドを堕落せしめる。
また凸部が鋭い形状の場合、磁気ヘッドと接触している
時、点または線で圧力を受けるため、形状が変形する可
能性が高い。さらに、メッキＷ磁気ディスクの場合、凸
部の形状が鋭い部分に対するメッキのつき方が、他の部
分と異なるという問題点を有する。
時、点または線で圧力を受けるため、形状が変形する可
能性が高い。さらに、メッキＷ磁気ディスクの場合、凸
部の形状が鋭い部分に対するメッキのつき方が、他の部
分と異なるという問題点を有する。
るもので、その目的とするところは、磁気ヘッドの安定
な浮上を保証し、磁気ヘッドと面で接触することによっ
て、耐久性を向上させ、また、均一なメッキ層の形成を
提供するところにある。
な浮上を保証し、磁気ヘッドと面で接触することによっ
て、耐久性を向上させ、また、均一なメッキ層の形成を
提供するところにある。
本発明の磁気ディスクの表面加工法は、非磁性基板を、
下地処理し、さらに磁性膜、保護・潤滑膜を形成する磁
気ディスクの製造方法において、前記磁性膜形成前、下
地処理した非磁性基板の表面に、凹凸をつけた後、さら
に、ｌリッジ息加工することを特徴とする。
下地処理し、さらに磁性膜、保護・潤滑膜を形成する磁
気ディスクの製造方法において、前記磁性膜形成前、下
地処理した非磁性基板の表面に、凹凸をつけた後、さら
に、ｌリッジ息加工することを特徴とする。
以下、本発明の実施例を、図面に基づいて詳細に説明す
る。
る。
第１図（α）〜（ｄ）は、本発明の実施例における磁気
ディスクの製造工程に従う断面図でありメッキ型磁気デ
ィスクを例示する。１は非磁性基板、２は下地処理層、
３は磁性膜、４は保護・潤滑膜である。
ディスクの製造工程に従う断面図でありメッキ型磁気デ
ィスクを例示する。１は非磁性基板、２は下地処理層、
３は磁性膜、４は保護・潤滑膜である。
第１図（α）は、非磁性基板１上に、下地処理を施し、
下地処理層２を形成したところを、さらに、ヒリッシェ
加工を行って、下地処理層２０表面を平滑にしたところ
を示している。通常、非磁性基板１には、アルミニウム
板を使用し、下地処理層２は、ニッケルーリンで、無電
解メッキ法により約２０〜５０μ隅形成する。ボリッシ
ェ加工は、ポリッシュパッドの間に基板を、はさみこみ
遊離砥粒を補給しながら、ポリッシュ加工を行い１通常
３〜５μ溝程度ポリッシュする。
下地処理層２を形成したところを、さらに、ヒリッシェ
加工を行って、下地処理層２０表面を平滑にしたところ
を示している。通常、非磁性基板１には、アルミニウム
板を使用し、下地処理層２は、ニッケルーリンで、無電
解メッキ法により約２０〜５０μ隅形成する。ボリッシ
ェ加工は、ポリッシュパッドの間に基板を、はさみこみ
遊離砥粒を補給しながら、ポリッシュ加工を行い１通常
３〜５μ溝程度ポリッシュする。
第１図（Ａ）は、第１１Ａ（α）に示した平滑な下地処
理層２０表面に、研磨テープを圧着接触させ、研磨テー
プと基板を相対運動させて表面に凹凸をつけたところを
示している。凹凸をつけるのは、磁気ヘッドとの接触面
積を減らして、吸着を防ぐためである。この時の形状は
、第２図にも示しである通り、一般的に、凸部の高さが
まちまちで、しかも先端が鋭くなりがちである。
理層２０表面に、研磨テープを圧着接触させ、研磨テー
プと基板を相対運動させて表面に凹凸をつけたところを
示している。凹凸をつけるのは、磁気ヘッドとの接触面
積を減らして、吸着を防ぐためである。この時の形状は
、第２図にも示しである通り、一般的に、凸部の高さが
まちまちで、しかも先端が鋭くなりがちである。
第１図（Ｃ）は、本発明の中心となる工程な示している
。第２図に示す表面形状の基板に対して第１図（α）で
示す工程で行ったボリッシェ加工を再度実施する。ただ
し、ここでは、前工程で使用した研磨テープに含まれる
研磨粒子より粒径の小さい遊離砥粒を使用してポリッシ
ュ加工を行うのが望ましい。ボリッシェ加工後の基板の
詳細な表面形状は第５因に示したように、第２図で示さ
れていた不規則な凸部先端が切シ取られて平担になり、
高さも一定となる。
。第２図に示す表面形状の基板に対して第１図（α）で
示す工程で行ったボリッシェ加工を再度実施する。ただ
し、ここでは、前工程で使用した研磨テープに含まれる
研磨粒子より粒径の小さい遊離砥粒を使用してポリッシ
ュ加工を行うのが望ましい。ボリッシェ加工後の基板の
詳細な表面形状は第５因に示したように、第２図で示さ
れていた不規則な凸部先端が切シ取られて平担になり、
高さも一定となる。
第１図Ｃｄ）は、第１図（ｃ）に示した表面を形成した
後、磁性膜３．保護・潤滑膜４をつけたところを示して
いる。通常、磁性膜３と保護・潤滑［４を合わせた厚み
は、１ｏｏｏ＾程度なので、第１図ＣＣ）の工程で、加
工した表面が、ａ！気ディスク完成体の表面形状となる
。磁性膜３は、無電解メッキ法により、ニッケルーコバ
ルト−リンで形成する。
後、磁性膜３．保護・潤滑膜４をつけたところを示して
いる。通常、磁性膜３と保護・潤滑［４を合わせた厚み
は、１ｏｏｏ＾程度なので、第１図ＣＣ）の工程で、加
工した表面が、ａ！気ディスク完成体の表面形状となる
。磁性膜３は、無電解メッキ法により、ニッケルーコバ
ルト−リンで形成する。
ｆｎＲＲ＋−）ｍＬＩｍ、＃ｈ＃２Ｊ−ｎｉｌｒｌ＋−
１＋＃−とによって、まず、磁気ヘッドとの接触面積を
減らして、磁気ヘッドと磁気ディスクの吸着を防ぎ、さ
らに、ボリッシェ加工をして、凸部先端を平担にして高
さをそろえることによって、磁気ヘッドと面で接触して
耐久性を向上させ、また、磁気ディスクの安定な浮上を
保証する。さらに磁性メッキ膜の良好な形成をもたらす
。
１＋＃−とによって、まず、磁気ヘッドとの接触面積を
減らして、磁気ヘッドと磁気ディスクの吸着を防ぎ、さ
らに、ボリッシェ加工をして、凸部先端を平担にして高
さをそろえることによって、磁気ヘッドと面で接触して
耐久性を向上させ、また、磁気ディスクの安定な浮上を
保証する。さらに磁性メッキ膜の良好な形成をもたらす
。
第１図（ａ）〜（ｄ）は、本発明の実施例における磁気
ディスクの製造工程断面図である。 第２図は、従来技術により加工した直後の表面形状を示
す断面図である。 第Ｓ図は、本発明のボリッシェ加工をした後の表面形状
を示す断面図である。 １・・・・・・非磁性基板 ２・・・・・・下地処理層 ３・・・・・・磁性膜 ４・・・・・・保護・潤滑膜 ｉ！１３を利
ディスクの製造工程断面図である。 第２図は、従来技術により加工した直後の表面形状を示
す断面図である。 第Ｓ図は、本発明のボリッシェ加工をした後の表面形状
を示す断面図である。 １・・・・・・非磁性基板 ２・・・・・・下地処理層 ３・・・・・・磁性膜 ４・・・・・・保護・潤滑膜 ｉ！１３を利
Claims (1)
- 非磁性基板を、下地処理し、さらに磁性膜、保護・潤滑
膜を形成する磁気ディスクの製造方法において、前記磁
性膜形成前、下地処理した非磁性基板の表面に、凹凸を
つけた後、さらに、ポリッシュ加工することを、特徴と
する磁気ディスクの表面加工法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9156486A JPS62248134A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | 磁気デイスクの表面加工法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9156486A JPS62248134A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | 磁気デイスクの表面加工法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62248134A true JPS62248134A (ja) | 1987-10-29 |
Family
ID=14030007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9156486A Pending JPS62248134A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | 磁気デイスクの表面加工法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62248134A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5093173A (en) * | 1989-01-13 | 1992-03-03 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc comprising a substrate of an amorphous glass continuous phase dispersed with crystal particles which produce a structurally defined surface on the substrate |
-
1986
- 1986-04-21 JP JP9156486A patent/JPS62248134A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5093173A (en) * | 1989-01-13 | 1992-03-03 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc comprising a substrate of an amorphous glass continuous phase dispersed with crystal particles which produce a structurally defined surface on the substrate |
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