JPS6129418A - 磁気デイスク基板の加工方法 - Google Patents
磁気デイスク基板の加工方法Info
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- JPS6129418A JPS6129418A JP15058284A JP15058284A JPS6129418A JP S6129418 A JPS6129418 A JP S6129418A JP 15058284 A JP15058284 A JP 15058284A JP 15058284 A JP15058284 A JP 15058284A JP S6129418 A JPS6129418 A JP S6129418A
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- Japan
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- magnetic disk
- substrate
- disk substrate
- magnetic
- lubricant
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は磁気ディスク、特に高密度磁気ディスク（例え
ば、メッキまたはスパッタ法による薄膜媒体磁気ディス
ク）について潤滑性のすぐれた磁気ディスク基板の加工
方法に関する口 （従来技術とその問題点） 一般に磁性薄膜を用いる磁気ディスク媒体は、装置の起
動・停止時に生ずる磁気ヘッドとの接触走行に耐えるた
めの耐ヘッドクラシェ性を具える必要がある。このため
、磁気ディスク基板面上に形成された磁性薄膜の上にＳ
ｔＯ，膜を保護膜として設けた９、潤滑性能を上げるた
めに保護膜表面に液体または固体の潤滑剤を塗布するこ
となどがなされてきた。
ば、メッキまたはスパッタ法による薄膜媒体磁気ディス
ク）について潤滑性のすぐれた磁気ディスク基板の加工
方法に関する口 （従来技術とその問題点） 一般に磁性薄膜を用いる磁気ディスク媒体は、装置の起
動・停止時に生ずる磁気ヘッドとの接触走行に耐えるた
めの耐ヘッドクラシェ性を具える必要がある。このため
、磁気ディスク基板面上に形成された磁性薄膜の上にＳ
ｔＯ，膜を保護膜として設けた９、潤滑性能を上げるた
めに保護膜表面に液体または固体の潤滑剤を塗布するこ
となどがなされてきた。
磁気ディスク基板としては記録媒体の種類に対応して、
アルミニウム合金面またはアルミニウム合金面上に形成
された金属メッキ面あるいはアルミニウム合金面上に形
成された陽極酸化面を所要精度に加工したものが使用さ
れる。無水硅酸の超微粒子をコロイド溶液としたコロイ
ダル７リカ研摩液と研摩クロスを用いて鏡面仕上する方
法（特願昭５４−３０２５２）によってアルミニウム合
金上に形成され九Ｎ１−Ｐメッキ面を加工すると基板面
の微細凹凸は非常に小さく５０Ｘ程度に仕上げられる。
アルミニウム合金面またはアルミニウム合金面上に形成
された金属メッキ面あるいはアルミニウム合金面上に形
成された陽極酸化面を所要精度に加工したものが使用さ
れる。無水硅酸の超微粒子をコロイド溶液としたコロイ
ダル７リカ研摩液と研摩クロスを用いて鏡面仕上する方
法（特願昭５４−３０２５２）によってアルミニウム合
金上に形成され九Ｎ１−Ｐメッキ面を加工すると基板面
の微細凹凸は非常に小さく５０Ｘ程度に仕上げられる。
しかし、前記のごとく仕上げられた磁気ディスク基板面
に形成された磁性薄膜の上に５ｉ０２膜を保護膜として
設け、さらに液体の潤滑剤を塗布して磁気ディスクを製
作した時、磁気ヘッドが磁気ディスク面上に静止すると
、潤滑剤および空気中の水分などが磁気ディスクと磁気
ヘッドの間に薄く広がシ、表面張力によシ両者が強く吸
着し、磁気ディスクの回転起動が不可能となる欠点があ
る。
に形成された磁性薄膜の上に５ｉ０２膜を保護膜として
設け、さらに液体の潤滑剤を塗布して磁気ディスクを製
作した時、磁気ヘッドが磁気ディスク面上に静止すると
、潤滑剤および空気中の水分などが磁気ディスクと磁気
ヘッドの間に薄く広がシ、表面張力によシ両者が強く吸
着し、磁気ディスクの回転起動が不可能となる欠点があ
る。
（発明の目的）
本発明の目的は、このような従来の欠点にかんがみ、磁
気ディスク面への磁気ヘッドの吸着をなくすととができ
る磁気ディスク基板の加工方法を提供することにある。
気ディスク面への磁気ヘッドの吸着をなくすととができ
る磁気ディスク基板の加工方法を提供することにある。
（発明の宿成）
本発明によれば、回転する磁気ディスク基板面と弾性体
に保持されたラッピングフィルムを加圧接触させ、該磁
気ディスク基板面に微細な凹凸を形成すること全特徴と
する磁気ディスク基板の加工方法が得られる。
に保持されたラッピングフィルムを加圧接触させ、該磁
気ディスク基板面に微細な凹凸を形成すること全特徴と
する磁気ディスク基板の加工方法が得られる。
（発明の概要）
本発明は上述の方法によシ、従来の問題点を解決した。
すなわち、あらかじめ平坦でかつ表面粗さを小さく加工
された磁気ディスク基板を回転軸に取シつけ、磁気ディ
スク基板を回転させる０弾性体に保持されたラッピング
フィルムを回転するピングフィルムは均一な圧力分布舎
もって加圧接触する。ラッピングフィルム面上の砥粒の
微小切削作用によって、回転する磁気ディスク基板に同
心円状の微細な凹凸が基板全面にわたって均一に形成さ
れる。微細な凹凸の深さは基板とラッピングフィルムと
の接触圧力またはラッピングフィルムの砥粒の大きさを
適切に設定することによってコントロールできる。通常
の潤滑剤塗布においては、磁気ディスク基板面の微細な
凹凸が非常に小さい（例えば５０Ｘ）場合は磁気ヘッド
のディスク面への吸着が起こるが、磁気ディスク基板面
の微細な凹凸を１００Ｘ以上にすると吸着は起こらなく
なる。磁気ディスク基板面の微細凹凸は磁気ヘッド浮揚
量の１０％以下にすることが望ましく。
された磁気ディスク基板を回転軸に取シつけ、磁気ディ
スク基板を回転させる０弾性体に保持されたラッピング
フィルムを回転するピングフィルムは均一な圧力分布舎
もって加圧接触する。ラッピングフィルム面上の砥粒の
微小切削作用によって、回転する磁気ディスク基板に同
心円状の微細な凹凸が基板全面にわたって均一に形成さ
れる。微細な凹凸の深さは基板とラッピングフィルムと
の接触圧力またはラッピングフィルムの砥粒の大きさを
適切に設定することによってコントロールできる。通常
の潤滑剤塗布においては、磁気ディスク基板面の微細な
凹凸が非常に小さい（例えば５０Ｘ）場合は磁気ヘッド
のディスク面への吸着が起こるが、磁気ディスク基板面
の微細な凹凸を１００Ｘ以上にすると吸着は起こらなく
なる。磁気ディスク基板面の微細凹凸は磁気ヘッド浮揚
量の１０％以下にすることが望ましく。
浮揚量が２０００Ｘの場合は基板の微細凹凸は２００久
以下となる。よって、磁気ヘッドの吸着防止およびヘッ
ドの浮揚安定性から磁気ディスク基板面の微細凹凸は１
００〜２００Ｘの領域が望ましい。
以下となる。よって、磁気ヘッドの吸着防止およびヘッ
ドの浮揚安定性から磁気ディスク基板面の微細凹凸は１
００〜２００Ｘの領域が望ましい。
本発明の方法においてはラッピングフィルムと磁気ディ
スク基板の接触圧力または２ツピングフイルムの砥粒の
大きさを適切に設定することによシ、基板面の微細凹凸
を１００〜２００Ｘにコントロールでき、それによル磁
気ヘッドの吸着をなくすことができる。
スク基板の接触圧力または２ツピングフイルムの砥粒の
大きさを適切に設定することによシ、基板面の微細凹凸
を１００〜２００Ｘにコントロールでき、それによル磁
気ヘッドの吸着をなくすことができる。
（実施例）
以下、本発明の実施例について第１図を用いて説明する
。磁気ディスク基板１はアルミニウム合金板にＮ１−Ｐ
メッキを施したものであル、あらかじめ研削とボリシン
グを行ない基板面を平坦でかつ表面の微細な凹凸を小さ
く（５０Ｘ）加工した基板を用いた０磁気デイスク基板
ｌを回転軸２に取シつけ、高速回転（回転数２００Ｏｒ
ｐｍ）させる◎加圧板３と弾性体（ポリウレタン）４を
接着し、さらに弾性体４の反射量に２ツピングフイルム
（ダイヤモンド砥粒１μｍ）５を接着する。加圧板３は
エアシリンダ６に結合されている。エアシリンダ６を用
いて高速回転（２０００ｒｐｍ）する磁気ディスク基板
１０表面にラッピングフィルム（ダイヤモンド砥粒１μ
ｍ）５を加圧接触させる０ラッピングフィルム５面上の
ダイヤモンド砥粒の微小切削作用によう磁気ディスク基
板ｌの表面に同心円状の微細な凹凸が形成される。本実
施例においてはラッピングフィルム５と磁気ディスク基
板１の接触圧力が５ ｇ ７ｃｍ２の時、深さ１５０Ｘ
の微細な凹凸が磁気ディスク基板１に形成された０（発
明の効果） 本発明の加工方法によって同心円状の微細な凹凸（１５
０Ｘ）ｔ−形成した磁気ディスク基板上にＮｉ −Ｃｏ
−Ｐメッキ媒体および８ ｉ０２保護膜を設け、潤滑剤
金塗布した。その磁気ディスクを用いて磁気ヘッドとの
吸着試験した結果を第２図に示すＯ本発明の方法によっ
て加工した磁気ディスク基板では従来から問題とされて
いた磁気ヘッドの吸着は無くなシ、磁気特性（８ＮＲ）
も従来値よｊ５３ｄＢアップし、高密度磁気ディスクに
適合する基板が達成された。
。磁気ディスク基板１はアルミニウム合金板にＮ１−Ｐ
メッキを施したものであル、あらかじめ研削とボリシン
グを行ない基板面を平坦でかつ表面の微細な凹凸を小さ
く（５０Ｘ）加工した基板を用いた０磁気デイスク基板
ｌを回転軸２に取シつけ、高速回転（回転数２００Ｏｒ
ｐｍ）させる◎加圧板３と弾性体（ポリウレタン）４を
接着し、さらに弾性体４の反射量に２ツピングフイルム
（ダイヤモンド砥粒１μｍ）５を接着する。加圧板３は
エアシリンダ６に結合されている。エアシリンダ６を用
いて高速回転（２０００ｒｐｍ）する磁気ディスク基板
１０表面にラッピングフィルム（ダイヤモンド砥粒１μ
ｍ）５を加圧接触させる０ラッピングフィルム５面上の
ダイヤモンド砥粒の微小切削作用によう磁気ディスク基
板ｌの表面に同心円状の微細な凹凸が形成される。本実
施例においてはラッピングフィルム５と磁気ディスク基
板１の接触圧力が５ ｇ ７ｃｍ２の時、深さ１５０Ｘ
の微細な凹凸が磁気ディスク基板１に形成された０（発
明の効果） 本発明の加工方法によって同心円状の微細な凹凸（１５
０Ｘ）ｔ−形成した磁気ディスク基板上にＮｉ −Ｃｏ
−Ｐメッキ媒体および８ ｉ０２保護膜を設け、潤滑剤
金塗布した。その磁気ディスクを用いて磁気ヘッドとの
吸着試験した結果を第２図に示すＯ本発明の方法によっ
て加工した磁気ディスク基板では従来から問題とされて
いた磁気ヘッドの吸着は無くなシ、磁気特性（８ＮＲ）
も従来値よｊ５３ｄＢアップし、高密度磁気ディスクに
適合する基板が達成された。
また、本発明の加工方法による磁気ディスク基板面には
同心円状の微細な凹凸が形成されているので、潤滑剤が
磁気ディスクの高速回転による遠心力によシディスク表
面から飛散するのを防止する効果があシ、この点からも
望ましい加工方法と言える〇 なお、本発明の一実施例においてはダイヤモンド砥粒の
ラッピングフィルムを用いたが、酸化アルミニウム砥粒
または炭化ケイ素砥粒のラッピングフィルムを用いても
良い。また、弾性体としてポリウレタンを用いたが天然
ゴム、ナイロン等を用いても良い口
同心円状の微細な凹凸が形成されているので、潤滑剤が
磁気ディスクの高速回転による遠心力によシディスク表
面から飛散するのを防止する効果があシ、この点からも
望ましい加工方法と言える〇 なお、本発明の一実施例においてはダイヤモンド砥粒の
ラッピングフィルムを用いたが、酸化アルミニウム砥粒
または炭化ケイ素砥粒のラッピングフィルムを用いても
良い。また、弾性体としてポリウレタンを用いたが天然
ゴム、ナイロン等を用いても良い口
第１図は本発明に係る磁気ディスク基板の加工方法の実
施例を説明するための側面図であ夛、第２図は本発明の
実施結果を示す図である。 図面において、１は磁気ディスク基板、２は回転軸、３
は加圧板、４は弾性体、５はラッピングフィルム、６は
エアシリンダであろう 第１図 Ｉ ｆＱｖｔ気テ゛イスフ基才反 ４ ダ単 小生 ４本 ５ ラッビンク゛スルム
施例を説明するための側面図であ夛、第２図は本発明の
実施結果を示す図である。 図面において、１は磁気ディスク基板、２は回転軸、３
は加圧板、４は弾性体、５はラッピングフィルム、６は
エアシリンダであろう 第１図 Ｉ ｆＱｖｔ気テ゛イスフ基才反 ４ ダ単 小生 ４本 ５ ラッビンク゛スルム
Claims (1)
- 回転する磁気ディスク基板面と弾性体に保持されたラッ
ピングフィルムを加圧接触させ、該磁気ディスク基板面
に微細な凹凸を形成することを特徴とする磁気ディスク
基板の加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15058284A JPS6129418A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 磁気デイスク基板の加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15058284A JPS6129418A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 磁気デイスク基板の加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6129418A true JPS6129418A (ja) | 1986-02-10 |
Family
ID=15500032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15058284A Pending JPS6129418A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 磁気デイスク基板の加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6129418A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6455739A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-02 | Tdk Corp | Method and device for magnetic disk substrate processing |
| US4869090A (en) * | 1987-12-11 | 1989-09-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of processing base plate for magnetic disc |
| JPH06203371A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Nec Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH0869621A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-03-12 | Itochu Corp | 磁気記録ディスクの製造方法 |
| US5605733A (en) * | 1992-01-22 | 1997-02-25 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium, method for its production, and system for its use |
| US5723198A (en) * | 1993-06-11 | 1998-03-03 | Hitachi, Ltd. | Multi-layered magnetic recording medium and magnetic recording system employing the same |
| JPWO2006135085A1 (ja) * | 2005-06-15 | 2009-01-08 | ボッシュ株式会社 | 高圧シール構造、高圧シール面の加工方法及び燃料噴射弁 |
-
1984
- 1984-07-20 JP JP15058284A patent/JPS6129418A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6455739A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-02 | Tdk Corp | Method and device for magnetic disk substrate processing |
| US4869090A (en) * | 1987-12-11 | 1989-09-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of processing base plate for magnetic disc |
| US5605733A (en) * | 1992-01-22 | 1997-02-25 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium, method for its production, and system for its use |
| JPH06203371A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Nec Corp | 磁気記録媒体 |
| US5723198A (en) * | 1993-06-11 | 1998-03-03 | Hitachi, Ltd. | Multi-layered magnetic recording medium and magnetic recording system employing the same |
| JPH0869621A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-03-12 | Itochu Corp | 磁気記録ディスクの製造方法 |
| JPWO2006135085A1 (ja) * | 2005-06-15 | 2009-01-08 | ボッシュ株式会社 | 高圧シール構造、高圧シール面の加工方法及び燃料噴射弁 |
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