JPS62247065A - るつぼ型蒸着源 - Google Patents
るつぼ型蒸着源Info
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- JPS62247065A JPS62247065A JP9059086A JP9059086A JPS62247065A JP S62247065 A JPS62247065 A JP S62247065A JP 9059086 A JP9059086 A JP 9059086A JP 9059086 A JP9059086 A JP 9059086A JP S62247065 A JPS62247065 A JP S62247065A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、蒸着によって薄膜を形成しようとするとき
に蒸着材料を入れておくためのるつぼ型蒸着源に関する
。
に蒸着材料を入れておくためのるつぼ型蒸着源に関する
。
[従来の技術]
第3図は、従来の蒸着法を概略的に示す図である。この
図において、るつぼ1内には蒸着材料2が入れられてい
る。蒸着材料2の上方部には、被蒸着物3が配置される
。被蒸着物3は、光ファイバや金属線などの線状体であ
り、図中矢印Aで示す方向に連続的に送られる。るつぼ
1を加熱することによって蒸着材料2は蒸発し、この蒸
発気体は線状体である被蒸着物3の外周面上に付着し、
薄膜を形成する。線状体である被蒸着物3の外周面全体
に被覆を形成するために、被蒸着物3は、蒸着処理の間
、図中矢印Bで示すように連続的に回転させられている
。
図において、るつぼ1内には蒸着材料2が入れられてい
る。蒸着材料2の上方部には、被蒸着物3が配置される
。被蒸着物3は、光ファイバや金属線などの線状体であ
り、図中矢印Aで示す方向に連続的に送られる。るつぼ
1を加熱することによって蒸着材料2は蒸発し、この蒸
発気体は線状体である被蒸着物3の外周面上に付着し、
薄膜を形成する。線状体である被蒸着物3の外周面全体
に被覆を形成するために、被蒸着物3は、蒸着処理の間
、図中矢印Bで示すように連続的に回転させられている
。
[発明が解決しようとする問題点]
第3図を参照して、るつぼ1の上部は開放されている。
そのため、蒸着材料2の蒸発気体分子の飛散方向は広範
囲に分散する。これに対して、蒸発気体分子が線状体で
ある被蒸着物3の外周面上に付着するのに必要とされる
分散角度は、小さい。
囲に分散する。これに対して、蒸発気体分子が線状体で
ある被蒸着物3の外周面上に付着するのに必要とされる
分散角度は、小さい。
つまり、従来のるつぼ1を採用すれば、広範囲に分散す
る蒸発気体分子のうち、はんの一部分のみが薄膜形成に
使われていることになる。こうして、大部分の蒸発気体
分子は有効に使用されず、コーティング効率は極めて低
かった。
る蒸発気体分子のうち、はんの一部分のみが薄膜形成に
使われていることになる。こうして、大部分の蒸発気体
分子は有効に使用されず、コーティング効率は極めて低
かった。
また、蒸着材料2の加熱状態の変動によって、蒸発気体
分子の飛散分布や強度は変動する。たとえば、蒸着材料
2が局所的に加熱された場合、その加熱部分から蒸発気
体分子の流れが生じる。結局、るつぼ1からの分子流の
流れは不均一となり、線状体である被蒸着物3の外周面
に均一にコーティングをすることは困難であった。
分子の飛散分布や強度は変動する。たとえば、蒸着材料
2が局所的に加熱された場合、その加熱部分から蒸発気
体分子の流れが生じる。結局、るつぼ1からの分子流の
流れは不均一となり、線状体である被蒸着物3の外周面
に均一にコーティングをすることは困難であった。
それゆえに、この発明の目的は、コーティング効率を高
め得るるつぼ型蒸着源を提供することである。
め得るるつぼ型蒸着源を提供することである。
c問題点を解決するための手段]
この発明に従ったるつぼ型蒸着源は、蒸着材料を入れる
るつぼと、前記るつぼを加熱するるつぼ加熱手段と、前
記るつぼの上部に装着されかつ蒸着材料の蒸発気体分子
を通過させる貫通孔を有しているるつぼ蓋と、前記るつ
ぼ蓋近傍を加熱するるつぼ蓋加熱手段とを備えている。
るつぼと、前記るつぼを加熱するるつぼ加熱手段と、前
記るつぼの上部に装着されかつ蒸着材料の蒸発気体分子
を通過させる貫通孔を有しているるつぼ蓋と、前記るつ
ぼ蓋近傍を加熱するるつぼ蓋加熱手段とを備えている。
[作用]
るつぼ加熱手段によってるつぼを加熱すると、蒸着材料
は蒸発する。この蒸発気体分子は、るつぼ蓋に形成され
ている貫通孔を通過することによって分散方向が絞られ
る。その結果、コーティング効率が高まる。
は蒸発する。この蒸発気体分子は、るつぼ蓋に形成され
ている貫通孔を通過することによって分散方向が絞られ
る。その結果、コーティング効率が高まる。
[実施例]
第1図は、この発明の一実施例を概略的に示す図である
。図示するるつぼ型蒸着源1oは、るっぽ11と、この
るつぼ11を加熱するためのるつぼ加熱手段12と、る
っぽ11の上部に装着されるるつぼ蓋13と、さらにこ
のるつぼ′M13の上に装着されるるつぼ蓋14と、る
っぽ蓋13.14のそれぞれの近傍を加熱するためのる
つぼ蓋加熱手段15.16とを備えている。
。図示するるつぼ型蒸着源1oは、るっぽ11と、この
るつぼ11を加熱するためのるつぼ加熱手段12と、る
っぽ11の上部に装着されるるつぼ蓋13と、さらにこ
のるつぼ′M13の上に装着されるるつぼ蓋14と、る
っぽ蓋13.14のそれぞれの近傍を加熱するためのる
つぼ蓋加熱手段15.16とを備えている。
るつぼ11は、たとえば白金、タングステン、タンタル
などの高融点材料がら作られており、その内部に蒸着材
料2を入れている。るつぼ加熱手段12によってるっぽ
11を加熱すれば、蒸着材料2は蒸発し、その気体分子
は上方に飛散する。
などの高融点材料がら作られており、その内部に蒸着材
料2を入れている。るつぼ加熱手段12によってるっぽ
11を加熱すれば、蒸着材料2は蒸発し、その気体分子
は上方に飛散する。
るつぼ蓋13のほぼ中央には、蒸着材料2の蒸発気体分
子を通過させ得る貫通孔17が形成されている。同様に
、他方のるっぽ蓋14のほぼ中央部にも、貫通孔18が
形成されている。るつぼ蓋加熱手段15.16はそれぞ
れるっぽ蓋13.14の近傍を加熱し、蒸発気体分子が
るっぽ蓋13.14に付着するのを防止する。るっぽ蓋
13.14の加熱温度としては、このるっぽ蓋13.1
4の近傍における蒸発気体分子の蒸気圧が30%以上を
保ち得るような温度にするのがよい。
子を通過させ得る貫通孔17が形成されている。同様に
、他方のるっぽ蓋14のほぼ中央部にも、貫通孔18が
形成されている。るつぼ蓋加熱手段15.16はそれぞ
れるっぽ蓋13.14の近傍を加熱し、蒸発気体分子が
るっぽ蓋13.14に付着するのを防止する。るっぽ蓋
13.14の加熱温度としては、このるっぽ蓋13.1
4の近傍における蒸発気体分子の蒸気圧が30%以上を
保ち得るような温度にするのがよい。
第1図において点線で示すのは、貫通孔17.18を通
過した蒸発気体分子の流れである。るっぽ11内の蒸着
材料2は、るつぼ加熱手段12によって加熱されること
によって蒸発し、気体分子となる。そして、真空蒸着装
置を真空引きし、減圧することによって、蒸発気体分子
は、るっぽ蓋13の貫通孔17を通過して拡散していく
。この貫通孔17を通過することにより、蒸発気体分子
の蒸着方向性は絞られる。るつぼ蓋13の貫通孔17を
通過した蒸発気体分子は、その後、さらに他方のるつぼ
蓋14の貫通孔18を通過する。こうして蒸発気体分子
の蒸着方向性は一層絞られる。
過した蒸発気体分子の流れである。るっぽ11内の蒸着
材料2は、るつぼ加熱手段12によって加熱されること
によって蒸発し、気体分子となる。そして、真空蒸着装
置を真空引きし、減圧することによって、蒸発気体分子
は、るっぽ蓋13の貫通孔17を通過して拡散していく
。この貫通孔17を通過することにより、蒸発気体分子
の蒸着方向性は絞られる。るつぼ蓋13の貫通孔17を
通過した蒸発気体分子は、その後、さらに他方のるつぼ
蓋14の貫通孔18を通過する。こうして蒸発気体分子
の蒸着方向性は一層絞られる。
また、最終的に貫通孔18を通過して被蒸着物に向かう
蒸発気体分子の流れは均一となる。
蒸発気体分子の流れは均一となる。
こうして、2個のるつぼM2S、14の貫通孔17.1
8を通過して出射された蒸発気体分子は、そ、の蒸着方
向性が6絞られ、被蒸着物に集中して飛散する。
8を通過して出射された蒸発気体分子は、そ、の蒸着方
向性が6絞られ、被蒸着物に集中して飛散する。
第2図は、第1図に示すようなるつぼ型蒸着源10を利
用した蒸着法の一例を概略的に示している。図中3は線
状体となっている被蒸着物であり、紙面に対して垂直な
方向に送られている。るつぼ型蒸着源10は、被蒸着物
3を中心とする同心円状にほぼ120@間隔で3個配置
されている。また、図中Cで示すのは、各るつぼ型蒸着
源10から出射された蒸発気体分子の流れである。蒸発
気体分子は、各るつぼ型蒸着源10から均一な流れとな
って出射され、被蒸着物3に向かって集中する。また、
蒸発気体分子の分散方向はかなり絞られているので、線
状体である被蒸着物3の外周面上に効率良く薄膜を形成
することができる。また、形成された薄膜は、被蒸着物
3の外周面全体にわたって均一となる。
用した蒸着法の一例を概略的に示している。図中3は線
状体となっている被蒸着物であり、紙面に対して垂直な
方向に送られている。るつぼ型蒸着源10は、被蒸着物
3を中心とする同心円状にほぼ120@間隔で3個配置
されている。また、図中Cで示すのは、各るつぼ型蒸着
源10から出射された蒸発気体分子の流れである。蒸発
気体分子は、各るつぼ型蒸着源10から均一な流れとな
って出射され、被蒸着物3に向かって集中する。また、
蒸発気体分子の分散方向はかなり絞られているので、線
状体である被蒸着物3の外周面上に効率良く薄膜を形成
することができる。また、形成された薄膜は、被蒸着物
3の外周面全体にわたって均一となる。
第2図に示したような蒸着法によれば、被蒸着物3を回
転させる必要がなくなるので、被蒸着物3を保持する機
構が簡便なものとなる。なお、第2図に示した例では、
3個のるつぼ型蒸着源10が用いられていたが、必要に
応じてそれ以上のるつぼ型蒸着源10を用いてもよい。
転させる必要がなくなるので、被蒸着物3を保持する機
構が簡便なものとなる。なお、第2図に示した例では、
3個のるつぼ型蒸着源10が用いられていたが、必要に
応じてそれ以上のるつぼ型蒸着源10を用いてもよい。
あるいは、その逆に、2個または1個のるつぼ型蒸着源
10を用いるようにしてもよい。ただ、1個または2個
のるつぼ型蒸着源10を用いるのであれば、線状体であ
る被蒸着物3は、蒸着処理の間、回転される必要があろ
う。
10を用いるようにしてもよい。ただ、1個または2個
のるつぼ型蒸着源10を用いるのであれば、線状体であ
る被蒸着物3は、蒸着処理の間、回転される必要があろ
う。
また、第1図に示したるつぼ型蒸着源10は、2個のる
つぼ蓋13.14と2個のるつぼ型加熱手段15.16
とを備えていた。しかし、その数に限定されるものでは
なく、それぞれ1個のるつぼ蓋およびるつぼ型加熱手段
を備えるようなものであってもよい。その場合であって
も、蒸発気体分子は、るつぼ蓋に形成されている貫通孔
を通過することによって、分散方向が絞られる。また、
るつぼ蓋の数を増せば増すほど、蒸発気体分子の分散方
向はより一層絞られるであろう。
つぼ蓋13.14と2個のるつぼ型加熱手段15.16
とを備えていた。しかし、その数に限定されるものでは
なく、それぞれ1個のるつぼ蓋およびるつぼ型加熱手段
を備えるようなものであってもよい。その場合であって
も、蒸発気体分子は、るつぼ蓋に形成されている貫通孔
を通過することによって、分散方向が絞られる。また、
るつぼ蓋の数を増せば増すほど、蒸発気体分子の分散方
向はより一層絞られるであろう。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、蒸発気体分子はるつ
ぼ蓋に形成されている貫通孔を通過して出射されるので
、その分散方向は絞られる。こうして、蒸発気体分子を
被蒸着物に集中させることができ、コーティング効率を
高めることができる。
ぼ蓋に形成されている貫通孔を通過して出射されるので
、その分散方向は絞られる。こうして、蒸発気体分子を
被蒸着物に集中させることができ、コーティング効率を
高めることができる。
また、るつぼ型加熱手段によってるつぼ蓋近傍を加熱し
ているので、蒸発気体分子がるつぼ蓋に付着することを
防止でき、蒸着材料をを効に使用することができる。
ているので、蒸発気体分子がるつぼ蓋に付着することを
防止でき、蒸着材料をを効に使用することができる。
第1図は、この発明の一実施例を概略的に示す図である
。第2図は、第1図に示すようなるつぼ型蒸着源を利用
した蒸着法の一例を概略的に示す図である。 第3図は、従来の蒸着法を概略的に示す図である。 図において、10はるつぼ型蒸着源、11はるつぼ、1
2はるつぼ加熱手段、13.14はるつぼ蓋、15.1
6はるつぼ型加熱手段、17.18は貫通孔を示す。 第2図
。第2図は、第1図に示すようなるつぼ型蒸着源を利用
した蒸着法の一例を概略的に示す図である。 第3図は、従来の蒸着法を概略的に示す図である。 図において、10はるつぼ型蒸着源、11はるつぼ、1
2はるつぼ加熱手段、13.14はるつぼ蓋、15.1
6はるつぼ型加熱手段、17.18は貫通孔を示す。 第2図
Claims (2)
- (1)蒸着材料を入れるるつぼと、 前記るつぼを加熱するるつぼ加熱手段と、 前記るつぼの上部に装着され、かつ蒸着材料の蒸発気体
分子を通過させる貫通孔を有しているるつぼ蓋と、 前記るつぼ蓋近傍を加熱するるつぼ蓋加熱手段と、 を備える、るつぼ型蒸着源。 - (2)前記るつぼ蓋は複数個あり、これら複数個のるつ
ぼ蓋は上下に積み重ねられている、特許請求の範囲第1
項に記載のるつぼ型蒸着源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9059086A JPS62247065A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | るつぼ型蒸着源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9059086A JPS62247065A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | るつぼ型蒸着源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62247065A true JPS62247065A (ja) | 1987-10-28 |
Family
ID=14002668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9059086A Pending JPS62247065A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | るつぼ型蒸着源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62247065A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004211110A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 蒸着用るつぼ、蒸着装置および蒸着方法 |
KR100653372B1 (ko) | 2004-07-14 | 2006-12-04 | 엘지전자 주식회사 | 유기 전계 발광층 증착용 증착원 |
JP2008088496A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Eiko Engineering Co Ltd | 薄膜堆積用分子線源セル |
CN103510052A (zh) * | 2005-01-21 | 2014-01-15 | 三星显示有限公司 | 一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备 |
JP2014065973A (ja) * | 2011-03-11 | 2014-04-17 | Sharp Corp | 蒸着粒子射出装置および蒸着装置 |
WO2022240051A1 (ko) * | 2021-05-13 | 2022-11-17 | (주)데포랩 | 증발원 |
-
1986
- 1986-04-18 JP JP9059086A patent/JPS62247065A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004211110A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 蒸着用るつぼ、蒸着装置および蒸着方法 |
KR100653372B1 (ko) | 2004-07-14 | 2006-12-04 | 엘지전자 주식회사 | 유기 전계 발광층 증착용 증착원 |
CN103510052A (zh) * | 2005-01-21 | 2014-01-15 | 三星显示有限公司 | 一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备 |
JP2008088496A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Eiko Engineering Co Ltd | 薄膜堆積用分子線源セル |
JP4491449B2 (ja) * | 2006-10-02 | 2010-06-30 | 株式会社エイコー・エンジニアリング | 薄膜堆積用分子線源セル |
JP2014065973A (ja) * | 2011-03-11 | 2014-04-17 | Sharp Corp | 蒸着粒子射出装置および蒸着装置 |
WO2022240051A1 (ko) * | 2021-05-13 | 2022-11-17 | (주)데포랩 | 증발원 |
KR20220154444A (ko) * | 2021-05-13 | 2022-11-22 | (주)데포랩 | 증발원 |
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