JPS62246817A - シリカゲル充▲填▼剤 - Google Patents
シリカゲル充▲填▼剤Info
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- JPS62246817A JPS62246817A JP61082773A JP8277386A JPS62246817A JP S62246817 A JPS62246817 A JP S62246817A JP 61082773 A JP61082773 A JP 61082773A JP 8277386 A JP8277386 A JP 8277386A JP S62246817 A JPS62246817 A JP S62246817A
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Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は耐久性の優れたアミノ基を有するシリカゲル充
填剤に関する。
填剤に関する。
(従来技術と問題点)
一般にシリカゲル充填剤は液体クロマトグラフィー用充
填剤として優れた性能を有し、今日盛んに利用されてい
るが、それ自身の酸性のために塩基性領域での使用は著
しく制限を受ける。また、水やアルコール類などのプロ
トン性溶媒の使用によってもシリカゲルが溶解すること
による劣化が起きる。そのため、ある程度劣化を防止す
るためシランカップリング剤を用いて酸性シラノールを
無くする処理を行なうなどの方法がとられてきた。
填剤として優れた性能を有し、今日盛んに利用されてい
るが、それ自身の酸性のために塩基性領域での使用は著
しく制限を受ける。また、水やアルコール類などのプロ
トン性溶媒の使用によってもシリカゲルが溶解すること
による劣化が起きる。そのため、ある程度劣化を防止す
るためシランカップリング剤を用いて酸性シラノールを
無くする処理を行なうなどの方法がとられてきた。
しかし、これらの方法でも完全にシラノールを無くする
ことが困難であること、およびシラン処理剤へのプロト
ン性溶媒の攻撃などのために長期間にわたる劣化は避は
得なかった。特に、シリカゲルを基材とする極性溶媒を
使用する逆相系液体クロマトグラフィー用充填剤、およ
び配位子交換型液体クロマトグラフィー用充填剤、およ
びアミノ基を有する液体クロマトグラフィー用充填剤の
場合は劣化により保持容量が経時的に変化するために問
題を生じていた。
ことが困難であること、およびシラン処理剤へのプロト
ン性溶媒の攻撃などのために長期間にわたる劣化は避は
得なかった。特に、シリカゲルを基材とする極性溶媒を
使用する逆相系液体クロマトグラフィー用充填剤、およ
び配位子交換型液体クロマトグラフィー用充填剤、およ
びアミノ基を有する液体クロマトグラフィー用充填剤の
場合は劣化により保持容量が経時的に変化するために問
題を生じていた。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、シリカゲル表面のシラノールと反応する
か、もしくはシリカゲル表面に薄膜を形成することによ
って実質的に表面シラノールを不活性化し、その後、ア
ミノ基を有するシランカップリング剤と反応することに
より、シラン処理剤へのプロトン性溶媒の攻撃による長
門間にわたる劣化を避は得る化合物を鋭意探索した結果
、ケイ素を除く周期律表第IVb族の元素又は元素化合
物を見いだし、これら化合物で処理することによって、
耐久性の優れたアミノ基を有するシリカゲル充填剤を得
る本発明に至った。
か、もしくはシリカゲル表面に薄膜を形成することによ
って実質的に表面シラノールを不活性化し、その後、ア
ミノ基を有するシランカップリング剤と反応することに
より、シラン処理剤へのプロトン性溶媒の攻撃による長
門間にわたる劣化を避は得る化合物を鋭意探索した結果
、ケイ素を除く周期律表第IVb族の元素又は元素化合
物を見いだし、これら化合物で処理することによって、
耐久性の優れたアミノ基を有するシリカゲル充填剤を得
る本発明に至った。
本発明におけるアミノ基を有する液体クロマトグラフィ
ー用充填剤とは、特に糖類、ヒドロキシ化合物、塩基化
合物、アミノ酸のような水溶性化合物の相互分離もしく
は光学異性体の分離を行なうためのものである。
ー用充填剤とは、特に糖類、ヒドロキシ化合物、塩基化
合物、アミノ酸のような水溶性化合物の相互分離もしく
は光学異性体の分離を行なうためのものである。
本発明におけるアミノ基を有するシランカップリング剤
としては、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロ
ピル(メチル)ジェトキシシラン、3−アミノプロピル
(メチル)ジメトキシシラン、3−アミノプロピル(ジ
メチル)エトキシシラン、3−アミノプロピル(ジメチ
ル)メトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−
アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノ
エチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N
−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピル(メチル
)ジェトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−
アミノプロピル(メチル)ジメトキシシラン、などが例
示される。
としては、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロ
ピル(メチル)ジェトキシシラン、3−アミノプロピル
(メチル)ジメトキシシラン、3−アミノプロピル(ジ
メチル)エトキシシラン、3−アミノプロピル(ジメチ
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アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノ
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−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピル(メチル
)ジェトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−
アミノプロピル(メチル)ジメトキシシラン、などが例
示される。
これらシランカップリング剤は単独で用いても良く、ま
たはこれらもしくはこれら以外のシランカップリング剤
と組合わせて用いても良い。また、これらシランカップ
リング剤を反応させた後、より反応性に富むシランカッ
プリング剤を用いて残存する基材表面の水酸基に反応せ
しめ、残存する水酸基を無くすることも出来る。
たはこれらもしくはこれら以外のシランカップリング剤
と組合わせて用いても良い。また、これらシランカップ
リング剤を反応させた後、より反応性に富むシランカッ
プリング剤を用いて残存する基材表面の水酸基に反応せ
しめ、残存する水酸基を無くすることも出来る。
シリカゲル充填剤の劣化はシリカゲル自身が溶媒に溶解
すること、もしくは結合したシランカップリング剤が脱
離することによって起こる。そのため、シリカゲルの溶
解を避けるためシラノールの露出をなくすこと、および
シランカップリング剤の脱離を防ぐため、その結合をよ
り強固にすることが必要である。その両者を同時に満た
すため、鋭意検討した結果、ケイ素を除く周期律表第I
Vb族の元素又は元素化合物を反応もしくはその薄膜を
物理的に吸着させる方法を見いだした。ケイ素を除く周
期律表第+vb族の元素としては、チタン、ジルコニウ
ムが例示される。また、その化合物としては、塩化チタ
ン、チタニウムn−プロポキシド、チタニウム1so−
イソプロポキシド、チタニウムn−ブトキシド、塩化ジ
ルコニウム、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、ジルコニウムn−プロポキシド、ジルコニウム1s
O−プロポキシド、ジルコニウムn−ブトキシドなどが
挙げられる。これらの化合物は、単独もしくは混合して
用いてもよい、またシランカッツブリング剤との反応に
際して必要であれば、含水条件で処理することによって
反応しやすくすることができる。
すること、もしくは結合したシランカップリング剤が脱
離することによって起こる。そのため、シリカゲルの溶
解を避けるためシラノールの露出をなくすこと、および
シランカップリング剤の脱離を防ぐため、その結合をよ
り強固にすることが必要である。その両者を同時に満た
すため、鋭意検討した結果、ケイ素を除く周期律表第I
Vb族の元素又は元素化合物を反応もしくはその薄膜を
物理的に吸着させる方法を見いだした。ケイ素を除く周
期律表第+vb族の元素としては、チタン、ジルコニウ
ムが例示される。また、その化合物としては、塩化チタ
ン、チタニウムn−プロポキシド、チタニウム1so−
イソプロポキシド、チタニウムn−ブトキシド、塩化ジ
ルコニウム、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、ジルコニウムn−プロポキシド、ジルコニウム1s
O−プロポキシド、ジルコニウムn−ブトキシドなどが
挙げられる。これらの化合物は、単独もしくは混合して
用いてもよい、またシランカッツブリング剤との反応に
際して必要であれば、含水条件で処理することによって
反応しやすくすることができる。
基材であるシリカゲルとしては粒径1〜1ooμm、細
孔径分布ピークが10〜2000Xのものが好ましく、
形状は球状もしくは破砕状のいずれてもよい。
孔径分布ピークが10〜2000Xのものが好ましく、
形状は球状もしくは破砕状のいずれてもよい。
ケイ素を除く周期律表第+vb族の元素又は元素化合物
とシリカゲルの反応は、上記化合物を溶解しうる溶媒に
溶かし、シリカゲルと接触させることにより、反応させ
ることができるが、必要に応じて、加熱することにより
反応を促進させることができる。また、必要に応じて脱
塩酸剤を加えることは好ましい。一方、これら化合物を
シリカゲル表面に物理的に吸着させるかもしくは薄膜を
形成せしめるときは、これら化合物をシリカゲル表面に
接触させた後溶媒を留去し、その後、加熱することによ
って行なわれるが、この際多かれ少なかれ上記化合物の
重合を伴うことは差し支えない。また、別の方法として
は、スパッタリングなどによりケイ素を除く周期律表第
IVb族の元素又は元素化合物の薄膜をシリカゲル表面
に形成することもできる。
とシリカゲルの反応は、上記化合物を溶解しうる溶媒に
溶かし、シリカゲルと接触させることにより、反応させ
ることができるが、必要に応じて、加熱することにより
反応を促進させることができる。また、必要に応じて脱
塩酸剤を加えることは好ましい。一方、これら化合物を
シリカゲル表面に物理的に吸着させるかもしくは薄膜を
形成せしめるときは、これら化合物をシリカゲル表面に
接触させた後溶媒を留去し、その後、加熱することによ
って行なわれるが、この際多かれ少なかれ上記化合物の
重合を伴うことは差し支えない。また、別の方法として
は、スパッタリングなどによりケイ素を除く周期律表第
IVb族の元素又は元素化合物の薄膜をシリカゲル表面
に形成することもできる。
ケイ素を除く周期律表第IVb族の元素又は元素化合物
と反応させたシリカゲルは水と接触させることにより水
酸基を表面に持たせることができ、シランカップリング
剤と反応させやすくすることが出来る。シランカップリ
ング剤との反応は通常の方法でよく、例えばベンゼン、
またはトルエン中加熱還流するか、シランカップリング
剤に応じて脱塩酸剤を加える方法を適宜選択すればよい
。
と反応させたシリカゲルは水と接触させることにより水
酸基を表面に持たせることができ、シランカップリング
剤と反応させやすくすることが出来る。シランカップリ
ング剤との反応は通常の方法でよく、例えばベンゼン、
またはトルエン中加熱還流するか、シランカップリング
剤に応じて脱塩酸剤を加える方法を適宜選択すればよい
。
(発明の効果)
アミノ基を有する液体クロマトグラフィー用充填剤は、
糖類、ヒドロキシ化合物、塩基化合物、アミノ酸のよう
な水溶性化合物の相互分離もしくは光学異性体の分離を
行なうためのものであるが、従来のシリカゲルに直接シ
ランカップリング剤を反応させた充填剤では溶離液の水
素イオン濃度が狭い範囲でしか使用できず、そのため分
離能力が充分発揮されないという問題があった。しかる
に本発明によって得られた高耐久性充填剤はより広い範
囲の水素イオン濃度をもつ溶離液が使用できることから
より広範囲の化合物の分離に適用できるものと期待され
る。また、光学活性基をイオン的相互作用によって保持
し、光学分割するための充填剤としても使用できる。
糖類、ヒドロキシ化合物、塩基化合物、アミノ酸のよう
な水溶性化合物の相互分離もしくは光学異性体の分離を
行なうためのものであるが、従来のシリカゲルに直接シ
ランカップリング剤を反応させた充填剤では溶離液の水
素イオン濃度が狭い範囲でしか使用できず、そのため分
離能力が充分発揮されないという問題があった。しかる
に本発明によって得られた高耐久性充填剤はより広い範
囲の水素イオン濃度をもつ溶離液が使用できることから
より広範囲の化合物の分離に適用できるものと期待され
る。また、光学活性基をイオン的相互作用によって保持
し、光学分割するための充填剤としても使用できる。
以下、実施例をもって本発明を詳述するが、本発明がこ
れに限定されるものでないことは言うまでもない。
れに限定されるものでないことは言うまでもない。
合成例1
オキシ塩化ジルコニウム・8水和物3.22gをメタノ
ール100m1に溶解し、これにシリカゲル(孔径10
0人、粒径10μm) 10 gを加えた後トリエチル
アミン2.1gを加え、8時間加熱還流する。これを冷
却した後グラスフィルターでろ過し、水で洗浄すること
により表面を水酸基化させたのち乾燥させる。こうして
得られたシリカゲルは蛍光X線分析により、Zr元素の
存在が確認された。このシリカゲルをさらに酢酸ソーダ
を含むメタノール中、3−アミノプロピルトリメトキシ
シラン5mlと反応させシラン化した後乾燥し、乾燥ト
ルエン中、N、O−ビストリメチルシリルアセトアミド
でシリル化した。この後、選択的脱シリル化によりアミ
ノ基を再生した。
ール100m1に溶解し、これにシリカゲル(孔径10
0人、粒径10μm) 10 gを加えた後トリエチル
アミン2.1gを加え、8時間加熱還流する。これを冷
却した後グラスフィルターでろ過し、水で洗浄すること
により表面を水酸基化させたのち乾燥させる。こうして
得られたシリカゲルは蛍光X線分析により、Zr元素の
存在が確認された。このシリカゲルをさらに酢酸ソーダ
を含むメタノール中、3−アミノプロピルトリメトキシ
シラン5mlと反応させシラン化した後乾燥し、乾燥ト
ルエン中、N、O−ビストリメチルシリルアセトアミド
でシリル化した。この後、選択的脱シリル化によりアミ
ノ基を再生した。
合成例2
チタンn−ブトキシド3.40gを酢酸エチル50m1
に溶解し、これをシリカゲル(孔径100X、粒径10
μm) 10 gを50m1の酢酸二チルに懸濁したと
ころに加え8時間加熱還流する。
に溶解し、これをシリカゲル(孔径100X、粒径10
μm) 10 gを50m1の酢酸二チルに懸濁したと
ころに加え8時間加熱還流する。
これを冷却した後グラスフィルターでろ過し、水で洗浄
することにより表面を水酸基化させた9ち乾燥させる。
することにより表面を水酸基化させた9ち乾燥させる。
こうして得られたシリカゲルは蛍光X線分析により、T
i元素の存在が確認された。
i元素の存在が確認された。
このシリカゲルをさらに酢酸ソーダを含むメタノール中
、3−アミノプロピルトリメトキシシラン5mlと反応
させシラン化した後乾燥し、乾燥トルエン中、N、O−
ビストリメチルシリルアセトアミドでシリル化した。こ
の後、選択的脱シリル化によりアミノ基を再生した。
、3−アミノプロピルトリメトキシシラン5mlと反応
させシラン化した後乾燥し、乾燥トルエン中、N、O−
ビストリメチルシリルアセトアミドでシリル化した。こ
の後、選択的脱シリル化によりアミノ基を再生した。
実施例1
合成例1で得られたシラン化シリカゲルを、長さ25c
m、内径0.46cmのステンレス製カラムに充填し、
水−アセトニトリル混合溶液を溶離液として毎分1ml
流したところ、グリコール類、ポリグリセリン類、糖類
が良好に分離し、各化合物の保持時間は、800時間以
上変化しなかった。
m、内径0.46cmのステンレス製カラムに充填し、
水−アセトニトリル混合溶液を溶離液として毎分1ml
流したところ、グリコール類、ポリグリセリン類、糖類
が良好に分離し、各化合物の保持時間は、800時間以
上変化しなかった。
実施例2
合成例2で得られたシラン化シリカゲルを、長さ25c
m、内径0.46cmのステンレス製カラムに充填し、
水−アセトニトリル混合溶液を溶離液として毎分1ml
流したところ、グリコール類、ポリグリセリン類、糖類
が良好に分離し、各化合物の保持時間は、800時間以
上変化しなかった。
m、内径0.46cmのステンレス製カラムに充填し、
水−アセトニトリル混合溶液を溶離液として毎分1ml
流したところ、グリコール類、ポリグリセリン類、糖類
が良好に分離し、各化合物の保持時間は、800時間以
上変化しなかった。
Claims (1)
- シリカゲルの表面にケイ素を除く周期律表第IVb族の元
素又は元素化合物の層を設けた後、アミノ基を有するシ
ランカップリング剤を反応させたことを特徴とするシリ
カゲル充填剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61082773A JPH0647456B2 (ja) | 1986-04-10 | 1986-04-10 | シリカゲル充▲填▼剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61082773A JPH0647456B2 (ja) | 1986-04-10 | 1986-04-10 | シリカゲル充▲填▼剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62246817A true JPS62246817A (ja) | 1987-10-28 |
JPH0647456B2 JPH0647456B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=13783751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61082773A Expired - Fee Related JPH0647456B2 (ja) | 1986-04-10 | 1986-04-10 | シリカゲル充▲填▼剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0647456B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007114144A1 (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Daiso Co., Ltd. | 修飾シリカゲル及びその利用 |
JPWO2014061723A1 (ja) * | 2012-10-17 | 2016-09-05 | 株式会社島津製作所 | 分離媒体、その分離媒体を用いたカラム、そのカラムを備えた液体クロマトグラフ、及びその分離媒体の製造方法 |
JP2017222560A (ja) * | 2016-06-14 | 2017-12-21 | 東聯化學股▲分▼有限公司 | チタン含有シリカ材料の製造方法及びその使用 |
CN107552031A (zh) * | 2016-07-01 | 2018-01-09 | 东联化学股份有限公司 | 含钛氧化硅材料的制备方法及应用 |
-
1986
- 1986-04-10 JP JP61082773A patent/JPH0647456B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007114144A1 (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Daiso Co., Ltd. | 修飾シリカゲル及びその利用 |
JP4962490B2 (ja) * | 2006-03-29 | 2012-06-27 | ダイソー株式会社 | 修飾シリカゲル及びその利用 |
JPWO2014061723A1 (ja) * | 2012-10-17 | 2016-09-05 | 株式会社島津製作所 | 分離媒体、その分離媒体を用いたカラム、そのカラムを備えた液体クロマトグラフ、及びその分離媒体の製造方法 |
JP2017222560A (ja) * | 2016-06-14 | 2017-12-21 | 東聯化學股▲分▼有限公司 | チタン含有シリカ材料の製造方法及びその使用 |
CN107552031A (zh) * | 2016-07-01 | 2018-01-09 | 东联化学股份有限公司 | 含钛氧化硅材料的制备方法及应用 |
CN107552031B (zh) * | 2016-07-01 | 2020-12-11 | 东联化学股份有限公司 | 含钛氧化硅材料的制备方法及应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0647456B2 (ja) | 1994-06-22 |
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Legal Events
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |