JPS6224456A - 光デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 厚い基板上に紫外線硬化樹脂を塗布してプリグルーブ基
板を形成した後、記録層を層形成し、これを紫外線硬化
樹脂を用いて平坦化させた光ディスクの製造方法。

〔産業上の利用分野〕

本発明は情報の書込みを保護膜側から行うことにより信
頼性を改良した光ディスクの製造方法に関する。

光ディスクはレーザ光を用いて高密度の情報記録を行う
メモリであり、記録容量が大きく、非接触で記録と再生
を行うことができ、また塵埃の影響を受けないなど優れ
た特徴をもっている。

すなわちレーザ光はレンズによって直径が約１μｍの小
さなスポットに絞り込むことが可能であり、従ってｌビ
ットの情報記録に要する面積が約１μｍ２程度で足りる
。

そのため磁気ディスク或いは磁気テープが１ビツトの情
報記録に数１０〜数１００μｌｌ１ｚの面積が必要なの
と較べて溝かに少なくて済み、従って大容量記録が可能
である。

かかる光ディスクは記録媒体として低融点金属を用い、
情報の記録を穴の有無により行う読出し専用のメモリ以
外に、結晶−非晶質（アモルファ゛ス）間あるいは結晶
−結晶間の反射率の差を利用した書替え可能なメモリも
開発されている。

ここで光デイスク基板としては合成樹脂を用いるものと
ガラスを用いるものとがあるが、後者は壊れやすく又高
価なことから特殊用途を除いて、一般には前者が使用さ
れている。

本発明は合成樹脂を基板に用いてなる新しい光ディスク
の構成に関するものである。

〔従来の技術〕

光ディスクはポリメチルメタクリエイト（略称ＰＭＭＡ
）　、ポリカーボネート（略称ＰＣ）などからなり、厚
さが１．２ｍｍ或いは１．５龍のディスク状の透明基板
の上に二酸化硅素（ＳｉＯｚ　）などの透明な基板保護
膜を厚さ２００〜５００人の厚さに形成し、この上に先
に記したような記録媒体からなる記録層を３００〜５０
０人の厚さに形成し、更にこの上に５ｉ０２などの保護
膜を１５０〜２００人の厚さに形成する構成がとられて
いる。

そして情報の記録と再生を行うレーザ光は合成樹脂から
なる透明基板側の方向から基板保護膜を通してプリグル
ーブの記録層に投射され、情報の有無により反射率が異
なるのを利用して再生が行われている。

ここで光ディスクの透明基板は直径が２００　＋ｕ、３
０Ｏｎなど各種のものがあるが、先に記したように厚さ
が１．２ｍｍや１．５　ｍ−のように薄いために蒸着装
置にセットして基板保護膜や記録層を形成する際に加熱
によって変形を起こし易く、また室温中に放置して置く
だけでも反りを生じ易いと云う問題がある。

また記録層を外部環境から保護するために記録層の上に
ＳｉＯ２やＳｉＯなどの保護膜を設けているが、保護作
用を高めるために膜厚を厚くするとクラックが入り易く
、膜厚に制限がある。

これらのことから長期安定性に問題があり、改良が要望
ささている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

以上記したように光ディスクは光吸収を少なくするため
直径に対し、薄い厚さの合成樹脂を用いて形成されてい
るが、そのため反りが生じ易く、また耐湿性を保持させ
るために無機質の透明保護膜を厚く形成するとクランク
が入り易いと云う問題がある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の問題は板厚が従来より厚く堅牢な基板上に紫外線
樹脂を塗布して形成した樹脂層にスタンパを圧着し硬化
させてプリグルーブ基板を形成した後、該基板上に記録
膜を作り、続いて該記録膜上に紫外線樹脂を滴下し、平
坦化させた状態で硬化させ、保護膜を形成することを特
徴とする光ディスクの製造方法をとることにより解決す
ることができる。

〔作用〕

本発明は今まで光ディスクの記録・再生のためのレーザ
の投射方向が透明基板側であったのを改め、記録層の保
護膜側とすることにより上記の問題点を解決するもので
ある。

すなわち従来はレーザ光の吸収損失を少なくするため透
明基板の膜厚は１．５１程度に制限されていたが、投射
方向を変えることにより、厚さの制限が無くなり、その
ため５１程度の厚板を使用することができ、これにより
反りの発生を無くすることができる。

また、記録層の保護膜として従来の無機質の代わりに透
明樹脂を使用することにより、耐湿性など耐環境性を向
上させることができる。

なお、この膜厚を従来の透明基板と同じに作ることによ
り、従来の光デイスク装置をそのまま使用することがで
きる。

〔実施例〕

第１図（Ａ）〜（Ｇ）は本発明にかかる光ディスクの製
造工程を示す実施例である。

直径３００　ｍ、厚さ５龍の平坦なディスク状のエポキ
シ基板１の上に紫外線硬化樹脂２　（例えば三菱油化フ
ァイン製５Ａ１００２）をスピンコード法により約５０
μｍの厚さに形成した。（同図Ａ）次に予めプリグルー
ブを型形成しであるニッケル（Ｎｉ）製のスタンパ（母
型）３を同図（Ａ）の紫外線硬化樹脂２に圧縮して張り
合わせ、この状態でエポキシ基板側から紫外線４の照射
を行って紫外線硬化樹脂を硬化させた。

硬化後にスタンパ３を取り除くことによりプリグルーブ
基板５が得られる。（同図Ｃ）次に、かかる基板を電子
ビーム蒸着装置にセットし、Ｓｉ０２を約５００人の厚
さに蒸着して基板保護膜６を形成した。（同図Ｄ） 次にこの上に記録媒体、この場合はインジウム・アンチ
モン（Ｉｎ−Ｓｂ）からなる記録層７を二元蒸着法によ
り約１０００人の厚さに形成した。（同図Ｅ） 次に、この記録層７の上に先と同じ紫外線硬化樹脂８を
滴下した後、オプティカルフラットなガラス円板９を圧
着し、紫外線硬化樹脂８の膜厚を１．２鶴に保ち、この
状態でガラス円板９の側から紫外線を照射して硬化させ
て保護層１０を形成した。

（同図Ｆ） 次に、硬化後にガラス円板９を除去することにより同図
（Ｇ）に示すような光ディスクを得ることができる。

〔発明の効果］ 以１記したように本発明に係る光ディスクは情報の記録
・再生を記録層の保護膜側がら行うもので、これにより
ディスク基板は充分厚く作ることができ、また保護膜も
１．２ｕ＋程度と厚く形成できるので、長期に互って安
定性を確保することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）〜（Ｇ）は本発明に係る光ディスクの構成
断面図である。 図において、 ｌはエポキシ基板、　　　　２は紫外線硬化樹脂、３は
スタンパ、　　　　　　４は紫外線、５はプリグルーブ
基板、　６は基板保護膜、７は記録層、　　　　　　　
８は紫外線硬化樹脂、９はガラス円板、　　　　１０は
保護層、である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 厚い板厚の基板（１）上に紫外線硬化樹脂（２）を塗布
   して形成した樹脂層にスタンパ（３）を圧着し硬化させ
   てプリグルーブ基板（５）を形成する工程と、 該基板（５）上に記録層（７）を作る工程と、該記録層
   （７）上に紫外線硬化樹脂（８）を滴下し、平坦化させ
   た状態で硬化させ、保護層（１０）を形成する工程とを
   含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。