JPS62242639A - 4−ハロゲンメチルベンズアルデヒドの製造法 - Google Patents
4−ハロゲンメチルベンズアルデヒドの製造法Info
- Publication number
- JPS62242639A JPS62242639A JP62083131A JP8313187A JPS62242639A JP S62242639 A JPS62242639 A JP S62242639A JP 62083131 A JP62083131 A JP 62083131A JP 8313187 A JP8313187 A JP 8313187A JP S62242639 A JPS62242639 A JP S62242639A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxymethylbenzaldehyde
- water
- hours
- reaction
- product
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 title claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- BTFQKIATRPGRBS-UHFFFAOYSA-N o-tolualdehyde Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=O BTFQKIATRPGRBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- ZFHUHPNDGVGXMS-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)benzaldehyde Chemical compound OCC1=CC=C(C=O)C=C1 ZFHUHPNDGVGXMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 9
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- XMYWOSAQHHCSPR-UHFFFAOYSA-N 4-(iodomethyl)benzaldehyde Chemical compound ICC1=CC=C(C=O)C=C1 XMYWOSAQHHCSPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- FNIFQOISPAAFQF-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethyl)benzaldehyde Chemical compound ClCC1=CC=C(C=O)C=C1 FNIFQOISPAAFQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N terephthalaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=C(C=O)C=C1 KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XYPVBKDHERGKJG-UHFFFAOYSA-N 4-(bromomethyl)benzaldehyde Chemical compound BrCC1=CC=C(C=O)C=C1 XYPVBKDHERGKJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 239000013040 bath agent Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- LPUCOJZTMPWERO-UHFFFAOYSA-N 1-(bromomethyl)-4-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(CBr)C=C1 LPUCOJZTMPWERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- -1 lithium aluminum hydride Chemical compound 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 2
- JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N selenium dioxide Chemical compound O=[Se]=O JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- RJZCPVOAAXABEZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(iodomethyl)benzene Chemical compound ICC1=CC=C(CI)C=C1 RJZCPVOAAXABEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOQLDQJTSMKBJU-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethyl)benzonitrile Chemical compound ClCC1=CC=C(C#N)C=C1 LOQLDQJTSMKBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000208140 Acer Species 0.000 description 1
- WSOXHEGKPWQPBP-UHFFFAOYSA-N CCCC[SnH2] Chemical group CCCC[SnH2] WSOXHEGKPWQPBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 description 1
- 101000884270 Homo sapiens Natural killer cell receptor 2B4 Proteins 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038082 Natural killer cell receptor 2B4 Human genes 0.000 description 1
- 229910020667 PBr3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- YNKMHABLMGIIFX-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde;methane Chemical compound C.O=CC1=CC=CC=C1 YNKMHABLMGIIFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009940 knitting Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPNPIHIZVLFAFP-UHFFFAOYSA-N phosphorus tribromide Chemical compound BrP(Br)Br IPNPIHIZVLFAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/63—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C47/00—Compounds having —CHO groups
- C07C47/52—Compounds having —CHO groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings
- C07C47/55—Compounds having —CHO groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings containing halogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
*東上の利用分野
本発明は、4−ハロゲンメチルベンズアルデヒド(ただ
し、ハロゲンは塩素、臭素またはヨウ*’に表わす)の
製造法に関する。4−ハロゲンメチルベンズアルデヒド
は、医薬品の出発物貰として使用され、伝4注有機化合
物を製造するための出発物質として用いられる。
し、ハロゲンは塩素、臭素またはヨウ*’に表わす)の
製造法に関する。4−ハロゲンメチルベンズアルデヒド
は、医薬品の出発物貰として使用され、伝4注有機化合
物を製造するための出発物質として用いられる。
従来の技術
4−ハロゲンメチルベンズアルデヒドを製造する幾つか
の方法が公知である。バッカー(J。
の方法が公知である。バッカー(J。
Baker )他〔−ジャーナル・オデ・デ・ケミカル
・ソサエティ(Journal of the che
nQicaISociety )”、1956年、第4
04頁〕は、4−クロルメチルベンゾニトリルとSnC
nイノよび塩化水素とから4−クロルメチルベンズアル
デヒドを匍る反応、4−ヒドロキシメチルベンズアルデ
ヒドとPBr3とから4−ブロムメチルベンズアルデヒ
ドを侍る反応および4−クロルメチルベンズアルデヒド
とKJとから4−ヨードメチルベンズアルデヒドを侍る
反応を記載している。4−ブロムメチルベンズアルデヒ
ドは、丈イパー(J、5yper )他〔1シンセシス
(Synthesis) ” 1984年第747Jj
〕によれは、4−ブロムメチルベンジルクロリドを二酸
化セレンで酸化することによるか、または欧州時吐出劇
公開第45150号#JA細簀によれは、4−ブロムメ
チルベンジルクロリドを、リチウム−トリーt、−デト
キシアルミニウムヒドリドで還元することによシ製造す
ることができる。
・ソサエティ(Journal of the che
nQicaISociety )”、1956年、第4
04頁〕は、4−クロルメチルベンゾニトリルとSnC
nイノよび塩化水素とから4−クロルメチルベンズアル
デヒドを匍る反応、4−ヒドロキシメチルベンズアルデ
ヒドとPBr3とから4−ブロムメチルベンズアルデヒ
ドを侍る反応および4−クロルメチルベンズアルデヒド
とKJとから4−ヨードメチルベンズアルデヒドを侍る
反応を記載している。4−ブロムメチルベンズアルデヒ
ドは、丈イパー(J、5yper )他〔1シンセシス
(Synthesis) ” 1984年第747Jj
〕によれは、4−ブロムメチルベンジルクロリドを二酸
化セレンで酸化することによるか、または欧州時吐出劇
公開第45150号#JA細簀によれは、4−ブロムメ
チルベンジルクロリドを、リチウム−トリーt、−デト
キシアルミニウムヒドリドで還元することによシ製造す
ることができる。
さらに、ドレファール(G、 Drefahl )およ
びプレットナー(G、 Pli:;ttner )(−
とエーミ7−/x−ベリヒテ(Chemische B
erichte )’、第94巻、第907貞(196
1年)〕は、トリルアルデヒドを赤リンおよび臭素と反
応させて、4−デロムエチルペンデルデロミドを侍、引
き続きこれをシュウ酸を用いてけん化して4−プロムエ
チルベ/ズアルデヒドを偕る合成全記載している。さら
に1グリス(R,Grice )およびオーエン(o、
oven ) (ジャーナル・オデ・デ・ケミカル・
ンサエテイ(Journal of theChemi
cal 5ociety )・、1965年、第194
7貞〕は、4−メトキシカルボニルペンデルジメチルア
セタールを水素化リチウムアルミニウムを用いて4−ヒ
ドロキシメチルベンデルジメチルアセタールに還元し、
その後に該アセタールをガス状HCで処理し、次いで塩
化チオニルと反応させることによプ4−クロルメチルベ
ンズアルデヒドに変換する方法を記載している。
びプレットナー(G、 Pli:;ttner )(−
とエーミ7−/x−ベリヒテ(Chemische B
erichte )’、第94巻、第907貞(196
1年)〕は、トリルアルデヒドを赤リンおよび臭素と反
応させて、4−デロムエチルペンデルデロミドを侍、引
き続きこれをシュウ酸を用いてけん化して4−プロムエ
チルベ/ズアルデヒドを偕る合成全記載している。さら
に1グリス(R,Grice )およびオーエン(o、
oven ) (ジャーナル・オデ・デ・ケミカル・
ンサエテイ(Journal of theChemi
cal 5ociety )・、1965年、第194
7貞〕は、4−メトキシカルボニルペンデルジメチルア
セタールを水素化リチウムアルミニウムを用いて4−ヒ
ドロキシメチルベンデルジメチルアセタールに還元し、
その後に該アセタールをガス状HCで処理し、次いで塩
化チオニルと反応させることによプ4−クロルメチルベ
ンズアルデヒドに変換する方法を記載している。
不利なことに、これらの方法のどれも一般的に使用でき
ない、すなわち1つの出発化合物から、単利な基礎化学
薬品の溢加により塩素−美素−およびヨウ*@導体を得
ることはできない。
ない、すなわち1つの出発化合物から、単利な基礎化学
薬品の溢加により塩素−美素−およびヨウ*@導体を得
ることはできない。
さらに、これらの方法で使用される添加物は、たとえば
5e02 、赤リン、臭素、塩水、塩化チオニルのよう
Kそれ自体、高い一毬項汚染を惹起しかつ高い危険性を
包含するかまたは反応の間にたとえば金楓塩、二酸化硫
黄のような副生成物を生じ、これらは費用をかけて分離
せねはならずかつ必然的に投檗間@金も伴なう。
5e02 、赤リン、臭素、塩水、塩化チオニルのよう
Kそれ自体、高い一毬項汚染を惹起しかつ高い危険性を
包含するかまたは反応の間にたとえば金楓塩、二酸化硫
黄のような副生成物を生じ、これらは費用をかけて分離
せねはならずかつ必然的に投檗間@金も伴なう。
発明が解決しようとする間地点
本発明の課電は、公知方法の欠点t−mけることでめり
友。
友。
問題点t−N次するための手段
かかる課電は、4−ハロゲンメチルベンズアルデヒド(
ただし、ハロゲンは塩素、臭素またはヨウ素を表わす)
を製造するtめに、4−ヒドロキシメチルベンズアルデ
ヒドを、相応するガス状ハロゲン化水素および/または
相応する含水ハロゲン化水素酸と反応させることを¥i
敞とする4−ハロゲンメチルベンズアルデヒドの製造性
によシ解決される。
ただし、ハロゲンは塩素、臭素またはヨウ素を表わす)
を製造するtめに、4−ヒドロキシメチルベンズアルデ
ヒドを、相応するガス状ハロゲン化水素および/または
相応する含水ハロゲン化水素酸と反応させることを¥i
敞とする4−ハロゲンメチルベンズアルデヒドの製造性
によシ解決される。
本発明による方法の利点は殊に1低廉な基礎化学楽品か
ら出発して、簡単な反応装置中で1つの出発化合物から
4−クロル−4−ブロム−および4−ヨードメチルベン
ズアルデヒドを良好な収率で、費用のかかる?Ilf製
工&!を必要とするかまたは廃来困難な副生成物が生じ
ることなしに#屑することができ、かつ公知技術の欠点
が避けられることKある。
ら出発して、簡単な反応装置中で1つの出発化合物から
4−クロル−4−ブロム−および4−ヨードメチルベン
ズアルデヒドを良好な収率で、費用のかかる?Ilf製
工&!を必要とするかまたは廃来困難な副生成物が生じ
ることなしに#屑することができ、かつ公知技術の欠点
が避けられることKある。
テレフタルジアルデヒドは、p−キジロールの候触酸化
〔プリンデル(G、D、Brtndell )他者、′
インダストリアルーアンドゆエンジニアリング・ケミス
トリー、プロダクト・リサーチ・アンド・デベローノメ
ン) (Industrial andEnginee
ringChemistry、 Produkt Re
5earchand Development ) ’
第i 5版(1)、第86頁、1976年〕によるか
、ま次はp−キシリレングリコールの脱水(米!!特J
yF第4239703号BAP4/I)Kより容易に得
られる。
〔プリンデル(G、D、Brtndell )他者、′
インダストリアルーアンドゆエンジニアリング・ケミス
トリー、プロダクト・リサーチ・アンド・デベローノメ
ン) (Industrial andEnginee
ringChemistry、 Produkt Re
5earchand Development ) ’
第i 5版(1)、第86頁、1976年〕によるか
、ま次はp−キシリレングリコールの脱水(米!!特J
yF第4239703号BAP4/I)Kより容易に得
られる。
テレフタルジアルデヒドを、4−ヒドロキシメチルベン
ズアルデヒドKR元するのは、それぞれの2ifI当な
方法で、tとえばパインジエンカー (N、M、 we
inschenker )他〔廖ジャーナル・オデ・オ
ーガニック・ケミストリー(Journalof Or
ganic Chemistry )’、第40巻、第
1966頁、1975年〕と四様に、ドルオール中で電
合体有機スズヒドリドに薬と反応させる(その際の一プ
チルスズジヒドリド基は、ポリスチロールマトリックス
にM合妾れている)ことKよるか、ま次はプリンデル(
G、D、Br1n−dell )他〔酸インダストリア
ル・アンド・工ンジニアリング・ケミストリー、プロダ
クト・リサーチ・アンド・デベロープメン) (Ind
u−stlral and Engineering
Chemistry、 ProduktResearc
h and Development )” 、第1巻
、第83頁、1976年〕と同様に水性エタノール中で
水素および活性炭上のパラジウムと反応させる(この反
応t−還元と関連する他の詳細のtめ明確に引用する)
ことによ)行うことができる。プリンデル(G、D、B
r1ndell )他による還元が有利でるる。この反
応によシ得られる、なおテレ7タルジアルデヒド1〜5
%および1゜4−ビスヒドロキシメチルペンゾール2〜
10優を含有しうる粗生成物4−ヒドロキシメチルベン
ズアルデヒドは、有利にさらに精製工程なしに使用され
る。
ズアルデヒドKR元するのは、それぞれの2ifI当な
方法で、tとえばパインジエンカー (N、M、 we
inschenker )他〔廖ジャーナル・オデ・オ
ーガニック・ケミストリー(Journalof Or
ganic Chemistry )’、第40巻、第
1966頁、1975年〕と四様に、ドルオール中で電
合体有機スズヒドリドに薬と反応させる(その際の一プ
チルスズジヒドリド基は、ポリスチロールマトリックス
にM合妾れている)ことKよるか、ま次はプリンデル(
G、D、Br1n−dell )他〔酸インダストリア
ル・アンド・工ンジニアリング・ケミストリー、プロダ
クト・リサーチ・アンド・デベロープメン) (Ind
u−stlral and Engineering
Chemistry、 ProduktResearc
h and Development )” 、第1巻
、第83頁、1976年〕と同様に水性エタノール中で
水素および活性炭上のパラジウムと反応させる(この反
応t−還元と関連する他の詳細のtめ明確に引用する)
ことによ)行うことができる。プリンデル(G、D、B
r1ndell )他による還元が有利でるる。この反
応によシ得られる、なおテレ7タルジアルデヒド1〜5
%および1゜4−ビスヒドロキシメチルペンゾール2〜
10優を含有しうる粗生成物4−ヒドロキシメチルベン
ズアルデヒドは、有利にさらに精製工程なしに使用され
る。
4−とドロキシメチルベンズアルデヒドを反応場せる場
合に、本発明によればハロゲン化水素はガス状かlたけ
水に靜解して使用される。
合に、本発明によればハロゲン化水素はガス状かlたけ
水に靜解して使用される。
水憔ハロゲン化水素酸の場合には、たとえtflnの稀
ハcIチン化水索鍍ないし纜浴液たとえば12 n H
Cj!、8 nHBr、 7 nHJ f使用するこ
とができる。有利には、峡ハロケ9ン水f、敏が便用6
れる。
ハcIチン化水索鍍ないし纜浴液たとえば12 n H
Cj!、8 nHBr、 7 nHJ f使用するこ
とができる。有利には、峡ハロケ9ン水f、敏が便用6
れる。
本発明によシ使用されるハロゲン化水素は、塩化氷菓、
某化水索またはヨウ化水素である。
某化水索またはヨウ化水素である。
4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド対ガス状または
水#液のハロゲン化水素のモル比は、好よしくは1:1
〜1:10、良好には1:2〜1:5、殊に1=3〜1
:4である。
水#液のハロゲン化水素のモル比は、好よしくは1:1
〜1:10、良好には1:2〜1:5、殊に1=3〜1
:4である。
4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒドは、#r&1m
として、水性媒体中1次は浴剤中で使用される。使用さ
れる浴剤は、水と混合不可能な不活性浴剤、たとえばク
ロロホルムま友は塩化メチレンのような塩素化炭化水素
、2’fcぽたとえはドルオールのような芳香族化合物
である。
として、水性媒体中1次は浴剤中で使用される。使用さ
れる浴剤は、水と混合不可能な不活性浴剤、たとえばク
ロロホルムま友は塩化メチレンのような塩素化炭化水素
、2’fcぽたとえはドルオールのような芳香族化合物
である。
本発明による方法の有不すな1実Mカ休においては、ガ
ス状ハロrン化水紫は、好筐しくけ1〜10時間、珠に
2〜5時間、4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒドの
f谷1pM液か、または水と混合不可能な、4−ヒドロ
キシメチルベンズ7 /L、 7’ヒトの浴液に導通さ
れる。この場合に1ハロゲン化水索は好ましくは循環し
て案内され、その際連行される反応水は、ハロゲン化水
素が再び反応に供給される前に公知方法によシ、たとえ
は:循環ガスの中間冷却による凝縮、乾燥剤たとえばケ
イ酸ゲルへの吸着または磯硫酸または五酸化リンを用い
る洗浄によ〕分離される。
ス状ハロrン化水紫は、好筐しくけ1〜10時間、珠に
2〜5時間、4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒドの
f谷1pM液か、または水と混合不可能な、4−ヒドロ
キシメチルベンズ7 /L、 7’ヒトの浴液に導通さ
れる。この場合に1ハロゲン化水索は好ましくは循環し
て案内され、その際連行される反応水は、ハロゲン化水
素が再び反応に供給される前に公知方法によシ、たとえ
は:循環ガスの中間冷却による凝縮、乾燥剤たとえばケ
イ酸ゲルへの吸着または磯硫酸または五酸化リンを用い
る洗浄によ〕分離される。
溶融液に尋人する際の反応−#IFi、好ましくは80
〜200℃、良好には100〜160℃、妹に120〜
140℃である。IeI液に4人する際の反応幌度は、
好ましくは0〜100℃、殊に40〜80℃である。
〜200℃、良好には100〜160℃、妹に120〜
140℃である。IeI液に4人する際の反応幌度は、
好ましくは0〜100℃、殊に40〜80℃である。
生成する反応水は、ハロゲン化水素と一緒に案内される
か、ないしは水と混合不可能な、′4慣から、消費され
なかったハロダン水木と一緒に娘ハロゲン化水索殴とし
て分ψされる。
か、ないしは水と混合不可能な、′4慣から、消費され
なかったハロダン水木と一緒に娘ハロゲン化水索殴とし
て分ψされる。
本発明による方法のもう1つの有利な実施H,rjj休
においては、4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド勿
、場合によシ水と堀合不期な浴剤の冷加下に水性ハロゲ
ン化水素酸と反応させる。
においては、4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド勿
、場合によシ水と堀合不期な浴剤の冷加下に水性ハロゲ
ン化水素酸と反応させる。
このJMI会、必要でろrt+は、ハロゲン化氷菓宮黛
を付加的なガス次へロチン水素の導入により増加するこ
とができる。この場合に、反応一度は好ましくは0〜1
00℃、妹に40〜80℃でるる。反応時間は、好tL
(は1〜24##−間、妹に2〜6時間である。溶剤の
添加なしに水江ハロゲン化水J[と反応させる場合、生
成物は直装に晶出する。水と混合不可能な#刑の添加下
に水性ハロゲン化水素改と反応させる場合には馬主に物
は靜酌によ)水相から情出ちれる。
を付加的なガス次へロチン水素の導入により増加するこ
とができる。この場合に、反応一度は好ましくは0〜1
00℃、妹に40〜80℃でるる。反応時間は、好tL
(は1〜24##−間、妹に2〜6時間である。溶剤の
添加なしに水江ハロゲン化水J[と反応させる場合、生
成物は直装に晶出する。水と混合不可能な#刑の添加下
に水性ハロゲン化水素改と反応させる場合には馬主に物
は靜酌によ)水相から情出ちれる。
この場合に好’ML(は反応生成物が、専問家に公知な
方法で向火法で佃出される。反応の後VC生じる布ハロ
ゲン化水、を削は、公知手設にょシ、たとえは蒸留によ
シ丹び(−縮することができる。
方法で向火法で佃出される。反応の後VC生じる布ハロ
ゲン化水、を削は、公知手設にょシ、たとえは蒸留によ
シ丹び(−縮することができる。
次に、本発明を実71例によシ絆説1−る。
実施例
例 1
5 Q Q tut 5つロフラスコ中でテレフタルジ
アルデヒド2ay(a、149ミリモル)およびPd/
C(活性炭上のPCll 0 % ) 1110 h&
を、80%のエタノール100a中にアルがン下に患濁
した。フラスコは、気密な攪拌封止装置お1)が吸収B
れるまで強力に撹拌した。水素を除云する沈めに1ト気
し友俊に、Mla−を吸引a[通した。回歓燕発器で6
0℃で蒸発凝縮し友浴猷から粗生fi1720.5gか
得られ、このものは4−ヒドロキシメチルベンズアルデ
ヒド90モル襲、未反応テレフタルジアルデヒド5モル
%およril、s−ビス−ヒドロキシメチルベンr −
ル5モル%を含Mしていto 例 2 磁気攪拌機および底にまで釦達するガス纏入管を有する
250Mの6つロフラスコ中に90角の4−ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒド94.4 g(不純物1,4−
ビス−ヒドロキシメチルペンゾールおよびテレフタルジ
アルデヒドノを装入した。浴融物中にHCJガスを導入
し、そのyA編度は75℃rζ上昇した。HCJIを2
時間尋通させ7を俊に、屁合物を油浴中で140℃に加
熱し、ざらにHClt 2し2時間4通させた。17ト
ル(郭点136℃)で蒸留することKより、白色粕晶注
生成物88.6 gが得られ、このものはNMRによn
rL4−クロルメチルベンズアルデヒド87.5夏m
%、1.4−ビス−クロルメチルペンゾール1O−23
i:t%、テレフタルジアルデヒド2.3惠蓋慢を含有
していた。残滓として、不憚発性の粘稠物14.5gが
残留し、この中に再び璽編で1.5時間、さらに150
℃で1.5時間HCj t−導入した。
アルデヒド2ay(a、149ミリモル)およびPd/
C(活性炭上のPCll 0 % ) 1110 h&
を、80%のエタノール100a中にアルがン下に患濁
した。フラスコは、気密な攪拌封止装置お1)が吸収B
れるまで強力に撹拌した。水素を除云する沈めに1ト気
し友俊に、Mla−を吸引a[通した。回歓燕発器で6
0℃で蒸発凝縮し友浴猷から粗生fi1720.5gか
得られ、このものは4−ヒドロキシメチルベンズアルデ
ヒド90モル襲、未反応テレフタルジアルデヒド5モル
%およril、s−ビス−ヒドロキシメチルベンr −
ル5モル%を含Mしていto 例 2 磁気攪拌機および底にまで釦達するガス纏入管を有する
250Mの6つロフラスコ中に90角の4−ヒドロキシ
メチルベンズアルデヒド94.4 g(不純物1,4−
ビス−ヒドロキシメチルペンゾールおよびテレフタルジ
アルデヒドノを装入した。浴融物中にHCJガスを導入
し、そのyA編度は75℃rζ上昇した。HCJIを2
時間尋通させ7を俊に、屁合物を油浴中で140℃に加
熱し、ざらにHClt 2し2時間4通させた。17ト
ル(郭点136℃)で蒸留することKより、白色粕晶注
生成物88.6 gが得られ、このものはNMRによn
rL4−クロルメチルベンズアルデヒド87.5夏m
%、1.4−ビス−クロルメチルペンゾール1O−23
i:t%、テレフタルジアルデヒド2.3惠蓋慢を含有
していた。残滓として、不憚発性の粘稠物14.5gが
残留し、この中に再び璽編で1.5時間、さらに150
℃で1.5時間HCj t−導入した。
その後、このものから再び95%の4−クロルメチルベ
ンズアルデヒド6.5.9 t−、iVすることができ
次。細枠なアルデヒドに対して計算した全収M=85.
7fi=出発m’tsの柵アルデヒドifに対して馴論
埴の86.8%。HNMR; 4−64s2H;7−5
7d2!H; 7−89d2H,J=−8Hz;1O−
03slH0 例 6 90I#の4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド(不
[6テレフタルジアルデヒド1%、1゜4−ビス−ヒド
ロキシメチルペンゾール902ON(0,132モル)
に、姐謳で48%の臭化水素酸317(0,29モル)
を添加し、その俊に65℃で2#f間攪拌した。冷蔵庫
中で4℃で18時間放置し7を俊に、結晶Nt″吸引暉
過し48%のHBr 5−で洗浄し、デシケータ−中で
五酸化リン上で乾燥し之。粗収諏16.8 g。
ンズアルデヒド6.5.9 t−、iVすることができ
次。細枠なアルデヒドに対して計算した全収M=85.
7fi=出発m’tsの柵アルデヒドifに対して馴論
埴の86.8%。HNMR; 4−64s2H;7−5
7d2!H; 7−89d2H,J=−8Hz;1O−
03slH0 例 6 90I#の4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド(不
[6テレフタルジアルデヒド1%、1゜4−ビス−ヒド
ロキシメチルペンゾール902ON(0,132モル)
に、姐謳で48%の臭化水素酸317(0,29モル)
を添加し、その俊に65℃で2#f間攪拌した。冷蔵庫
中で4℃で18時間放置し7を俊に、結晶Nt″吸引暉
過し48%のHBr 5−で洗浄し、デシケータ−中で
五酸化リン上で乾燥し之。粗収諏16.8 g。
NMRによる含It4−デロムメチルペンズアルデヒド
85.9[t%=理論値の54 %、 I(NMR:4
.51 2H; 7.5sd2H; 7.85d2H,
J=8 Hz t 10−01 s I H。
85.9[t%=理論値の54 %、 I(NMR:4
.51 2H; 7.5sd2H; 7.85d2H,
J=8 Hz t 10−01 s I H。
例 4
90%の4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド2ON
(Ll、132モル)に、57%のヨウ化水素m66.
9(0,29モル)ヲ硝加し、アルがン下に2時間80
′0に保持した。その際生成物が既に晶出し、バッチは
、同体泥状物に固化し友。でらに4 ’Cで16時間敢
tW した後に、過装置のヨウ化水素酸を吸引−過し、
生成物を五塩化リン上で乾課した。まだ若干湿つ72:
粗生成*(42,5,9,)から、外端装置中でさしろ
九ル0.005 )ルおよび60℃で鐘分およびヨウ素
不Ifl1ggJを激安した。その饋に95℃で昇華す
ることによル櫂製し7tO4−ヨードメチルベンズアル
デヒド83重蓋−を含有する昇華物26.14g(tI
llかなヨウ木台tKよ)なお若干褐色を有する)が得
られた。純粋なアルデヒドに対して酊算し友収童21.
71−理論1厘の66優。昇幸跣滓として、ダーティ−
グリーンの粉末5.21が残留し、このものはもはやク
ロロホルムに9靜でなかつ比。2回目の昇華の際に、浅
漬的350116Iが残留し几。4−ヨードメチルベン
ズアルデヒド88%を有し、不純物として1,4−ビス
−ヨードメチルベンゾールおよびテレフタルジアルデヒ
ドをS有する昇華W20.81.t/が侍られ九。それ
ぞれ4001のシクロヘキサンから2回置結晶すること
によシ、4−ヨードメチルベンズアルデヒド13.S/
が侍られ友。細度:99%。HNMR: 4−41 s
I H; 7.4bd2He 7.68a2 H,
J=8H2; 9.9 1 SIH。
(Ll、132モル)に、57%のヨウ化水素m66.
9(0,29モル)ヲ硝加し、アルがン下に2時間80
′0に保持した。その際生成物が既に晶出し、バッチは
、同体泥状物に固化し友。でらに4 ’Cで16時間敢
tW した後に、過装置のヨウ化水素酸を吸引−過し、
生成物を五塩化リン上で乾課した。まだ若干湿つ72:
粗生成*(42,5,9,)から、外端装置中でさしろ
九ル0.005 )ルおよび60℃で鐘分およびヨウ素
不Ifl1ggJを激安した。その饋に95℃で昇華す
ることによル櫂製し7tO4−ヨードメチルベンズアル
デヒド83重蓋−を含有する昇華物26.14g(tI
llかなヨウ木台tKよ)なお若干褐色を有する)が得
られた。純粋なアルデヒドに対して酊算し友収童21.
71−理論1厘の66優。昇幸跣滓として、ダーティ−
グリーンの粉末5.21が残留し、このものはもはやク
ロロホルムに9靜でなかつ比。2回目の昇華の際に、浅
漬的350116Iが残留し几。4−ヨードメチルベン
ズアルデヒド88%を有し、不純物として1,4−ビス
−ヨードメチルベンゾールおよびテレフタルジアルデヒ
ドをS有する昇華W20.81.t/が侍られ九。それ
ぞれ4001のシクロヘキサンから2回置結晶すること
によシ、4−ヨードメチルベンズアルデヒド13.S/
が侍られ友。細度:99%。HNMR: 4−41 s
I H; 7.4bd2He 7.68a2 H,
J=8H2; 9.9 1 SIH。
例 5
90条の4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド20.
@(0,1332モル)を、67csのH(J5Qプ(
0,58モル)およびドルオール200−と−緒に、ア
ルイン雰囲気下に80℃で2時間撹拌し7?−o 菟温
に冷却した俊に、水相を分離し、ドルオール相を真空中
で蒸発り縮した。粗生成′9B16.2gが侍られ、こ
のものはNMRによれば、4−クロルメチルベンズアル
デヒド78.8重#チ、1,4−ビス−クロルメチルペ
ンゾール10ttfi−慢および未知物′Jii11.
2N11−%を含有していye6NMRから、4−クロ
ルメチルベンズアルデヒド収#12.8J/=理論値の
62.5−が計、F^される〇 例 6 90%の4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド40.
9(0,264モル)を、48−のHBr13211J
(1,17モル)およびドルオール250aと一緒に8
0℃で2時間攪拌し次。水増をまだ熱い間に分離し、そ
の恢ドルオール溶液を4℃で18符闇放置した。その際
に沈殿し7?:M晶を吸引崖過し、少墓のドルオールで
後洗浄し、40℃、0.1トルでi!i!した。不純物
として1゜4−ビス−ブロムメチルベンゾールを有する
、90%の4−ブロムメチルベンズアルデヒドの収t
56.85 g。水流真空中でm剤を蒸発し去シ、40
℃0.1トルで乾燥した後に、母液からさらに20.F
が得られ、このものはNMRによれば4−ブロムメチル
ベンズアルデヒド68予を含有してい九〇純粋な4−ブ
ロムメチルベンズアルデヒドに関する全収i#=46.
4J/=理論値の88%。
@(0,1332モル)を、67csのH(J5Qプ(
0,58モル)およびドルオール200−と−緒に、ア
ルイン雰囲気下に80℃で2時間撹拌し7?−o 菟温
に冷却した俊に、水相を分離し、ドルオール相を真空中
で蒸発り縮した。粗生成′9B16.2gが侍られ、こ
のものはNMRによれば、4−クロルメチルベンズアル
デヒド78.8重#チ、1,4−ビス−クロルメチルペ
ンゾール10ttfi−慢および未知物′Jii11.
2N11−%を含有していye6NMRから、4−クロ
ルメチルベンズアルデヒド収#12.8J/=理論値の
62.5−が計、F^される〇 例 6 90%の4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒド40.
9(0,264モル)を、48−のHBr13211J
(1,17モル)およびドルオール250aと一緒に8
0℃で2時間攪拌し次。水増をまだ熱い間に分離し、そ
の恢ドルオール溶液を4℃で18符闇放置した。その際
に沈殿し7?:M晶を吸引崖過し、少墓のドルオールで
後洗浄し、40℃、0.1トルでi!i!した。不純物
として1゜4−ビス−ブロムメチルベンゾールを有する
、90%の4−ブロムメチルベンズアルデヒドの収t
56.85 g。水流真空中でm剤を蒸発し去シ、40
℃0.1トルで乾燥した後に、母液からさらに20.F
が得られ、このものはNMRによれば4−ブロムメチル
ベンズアルデヒド68予を含有してい九〇純粋な4−ブ
ロムメチルベンズアルデヒドに関する全収i#=46.
4J/=理論値の88%。
例 7
例6により、84%の4−ヒドロキシメチルベンズアル
デヒド17.13 、V C0,106モル)(IA′
III不柵物=1.4−ビス−ヒドロキシメチルペンゾ
ール10係+テレフタルゾアルデヒド5−)を、57−
のヨウ化水素酸38.8M(0,294モル)と反応さ
せた。4℃で放置した恢に、有機層から粗生成物24.
7.9が得られ、これtaらに乾燥せずに、直ちに90
℃、0.01トルで外電した。外電*21.95.fが
侍られ、このものはNMRKよれは4−ヨードメチルベ
ンズアルデヒド88.8モルtst−含有していた。有
憎母液を水&真空中で蒸発−動し、50℃0.1゛トル
で乾燥することKよシ、4−ヨードメチルベンズアルデ
ヒド68.5モルSt−有する第20貿分が得られた。
デヒド17.13 、V C0,106モル)(IA′
III不柵物=1.4−ビス−ヒドロキシメチルペンゾ
ール10係+テレフタルゾアルデヒド5−)を、57−
のヨウ化水素酸38.8M(0,294モル)と反応さ
せた。4℃で放置した恢に、有機層から粗生成物24.
7.9が得られ、これtaらに乾燥せずに、直ちに90
℃、0.01トルで外電した。外電*21.95.fが
侍られ、このものはNMRKよれは4−ヨードメチルベ
ンズアルデヒド88.8モルtst−含有していた。有
憎母液を水&真空中で蒸発−動し、50℃0.1゛トル
で乾燥することKよシ、4−ヨードメチルベンズアルデ
ヒド68.5モルSt−有する第20貿分が得られた。
これから4−ヨードメチルベンズアルデヒドの全駅*2
5.61−M論値の89優が計算される。
5.61−M論値の89優が計算される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、4−ハロゲンメチルベンズアルデヒド(ただしハロ
ゲンは塩素、臭素またはヨウ素を表わす)を製造する方
法において、4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒドを
、相応するガス状ハロゲン化水素および/または相応す
る水性ハロゲン化水素酸と反応させることを特徴とする
4−ハロゲンメチルベンズアルデヒドの製造法。 2、水と混合不能の溶剤を添加する特許請求の範囲第1
項記載の方法。 3、4−ヒドロキシメチルベンズアルデヒドを溶液とし
てガス状ハロゲン化水素と反応さ せる特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863611760 DE3611760A1 (de) | 1986-04-08 | 1986-04-08 | Verfahren zur herstellung von 4-halogenmethylbenzaldehyd |
DE3611760.9 | 1986-04-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62242639A true JPS62242639A (ja) | 1987-10-23 |
Family
ID=6298214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62083131A Pending JPS62242639A (ja) | 1986-04-08 | 1987-04-06 | 4−ハロゲンメチルベンズアルデヒドの製造法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4733012A (ja) |
EP (1) | EP0241005B1 (ja) |
JP (1) | JPS62242639A (ja) |
DE (2) | DE3611760A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013125352A1 (ja) | 2012-02-21 | 2013-08-29 | リンテック株式会社 | 有機電子素子および有機電子素子の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4051168A (en) * | 1976-05-12 | 1977-09-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorination process |
JPS614832A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-10 | Mazda Motor Corp | エンジンの排気還流制御装置 |
DE3537815C1 (de) * | 1985-10-24 | 1987-02-05 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von 4-Chlor-butanalen |
-
1986
- 1986-04-08 DE DE19863611760 patent/DE3611760A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-03-17 US US07/026,834 patent/US4733012A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-04-06 JP JP62083131A patent/JPS62242639A/ja active Pending
- 1987-04-08 EP EP87105185A patent/EP0241005B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-04-08 DE DE8787105185T patent/DE3761559D1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4733012A (en) | 1988-03-22 |
DE3761559D1 (de) | 1990-03-08 |
DE3611760A1 (de) | 1987-10-15 |
EP0241005A1 (de) | 1987-10-14 |
EP0241005B1 (de) | 1990-01-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1727797B1 (en) | Process for cross coupling indoles | |
JPS62242639A (ja) | 4−ハロゲンメチルベンズアルデヒドの製造法 | |
JPH03101668A (ja) | ブチル3′―(1h―テトラゾール―5―イル)オキサニレートの製造法 | |
CN111233827A (zh) | 一种2,5-二取代硒吩类化合物及其合成方法 | |
JPS597699B2 (ja) | インドリン類の製造方法 | |
JP4152865B2 (ja) | ヘキサアンミンルテニウム(iii)トリクロライドの製造方法 | |
JPS63222020A (ja) | 塩化ロジウム酸の製造方法 | |
JP2000239253A (ja) | 2−オキシインドールの製造方法 | |
JPH0723346B2 (ja) | 2,2′−ジニトロジベンジルの製造法 | |
JP3300623B2 (ja) | テトラアンミン白金(ii)ジクロライド結晶の製造方法 | |
JPS5965039A (ja) | 2,4−ジヒドロキシアセトフエノンの製造方法 | |
JPS6316374B2 (ja) | ||
JPS6216441A (ja) | 1,4−ジクロロブタンの製造法 | |
JPH0459742A (ja) | 2,2―ビス(4―オキソシクロヘキシル)プロパンの製造法 | |
JPH10287650A (ja) | 1−クロロカルボニル−4−ピペリジノピペリジンまたはその塩酸塩の製造方法 | |
JPS6251952B2 (ja) | ||
JPH0249304B2 (ja) | ||
JPS6256451A (ja) | ジフエン酸の製造方法 | |
HU195219B (en) | Process for producing 2-/2-methoxy-4-(methyl-thio)-phenyl-1(3)h-imidazo/4,5-c/pyridine | |
JPS6148818B2 (ja) | ||
JPS6152138B2 (ja) | ||
JPH04173785A (ja) | 2―クロロプロピオンアルデヒド三量体およびその製造方法 | |
JPS5831344B2 (ja) | ピリドキサミンの製造法 | |
JPH03145448A (ja) | ベンジルアセトオキシムの精製方法 | |
JPS58167576A (ja) | 2−アミノベンゾチアゾ−ル類の製造法 |